1.一種用于由可光固化物質(3)生成三維物體(2)的立體光刻設備(1)，所述立體光刻設備包括：
光學單元(4)，用于朝向所述可光固化物質(3)投射圖像，以便使沉積在聚焦層(5)中的所述可光固化物質(3)硬化；
控制單元(6)，用于控制所述光學單元(4)，
其特征在于，所述立體光刻設備還包括：
檢測單元(7)，所述檢測單元包括：檢測裝置(8)，所述檢測裝置能夠移動地布置在檢測區(qū)域(9)中，用于在生成過程期間或在生成暫停中檢測由所述光學單元(4)投射的所述圖像的至少一部分以及用于向所述控制單元(6)輸出表示所檢測到的圖像的信號；和第一驅動裝置(10)，用于將所述檢測裝置(8)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)，并且
其中，所述光學單元(4)還包括：第二驅動裝置(11)，所述第二驅動裝置(11)連接到所述光學單元(4)，用于將所述聚焦層(5)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)，
其中，所述控制單元(4)還適于控制所述第一驅動裝置(10)和所述第二驅動裝置(11)，并基于表示所檢測到的圖像的信號調整所述光學單元(4)和/或修改要投射的圖像。
2.根據(jù)權利要求1所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述第一驅動裝置(10)還適于將所述檢測裝置(8)沿著垂直于光軸(o)的方向(x)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述第二驅動裝置(11)適于將所述聚焦層(5)沿著光軸(o)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)。
4.根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述檢測單元(7)能夠被移除。
5.根據(jù)權利要求1至4中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述檢測裝置(8)包括一個或多個傳感器(8a-8e)。
6.根據(jù)權利要求5所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，一個或多個傳感器(8a-8g)均包括諸如cmos相機的有源傳感器區(qū)域(80)，和/或一個或多個傳感器(8a-8g)適用于檢測所述光學單元(4)的曝光波長。
7.根據(jù)權利要求5或6所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述檢測裝置(8)包括用于以陣列方式支撐所述傳感器(8a-8e)的臂(12)，其中所述第一驅動裝置(10)連接到所述臂(12)并且進一步適于將所述臂(12)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)，其中所述臂(12)布置成平行于所述可光固化物質(3)的面向所述光學單元(4)的表面。
8.根據(jù)權利要求1至7中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述第二驅動裝置(11)還適用于使所述光學單元(4)獨立地繞三個相互垂直的方向(x，y，z)旋轉，其中所述三個相互垂直的方向中的一個方向(z)垂直于所述可光固化物質(3)的面向所述光學單元(4)的表面，并且所述控制單元(6)還適于通過控制所述第二驅動裝置(11)調整所述光學單元(4)以消除光軸(o)的傾斜。
9.根據(jù)權利要求1至8中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述第一驅動裝置(10)適于將所述檢測裝置(8)移出在所述檢測區(qū)域(9)內要由所述光學單元(4)主動曝光的區(qū)域，并且所述檢測裝置(8)適于至少檢測由所述光學單元(4)投射到該主動曝光的區(qū)域中的圖像所產(chǎn)生的雜散輻射并用于輸出表示所檢測到的雜散輻射的信號。
10.根據(jù)權利要求1至9中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述光學單元(4)適于在生成過程期間或在生成暫停中朝向所述可光固化物質(3)投射相對較小的圖像，所述相對較小的圖像將被所述檢測裝置(8)完全遮擋，以防止所述可光固化物質(3)在檢測期間硬化，并且其中所述檢測裝置(8)適于檢測所述相對較小的圖像的至少一部分并將指示所檢測到的圖像的信號發(fā)送給所述控制單元(6)，所述控制單元(6)還適于基于表示所檢測到的圖像的信號來調整光學單元(4)或修改要投射的圖像。
11.根據(jù)權利要求1至10中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述光學單元(4)適于朝向所述聚焦層(5)投射校準圖像(13)，其中所述校準圖像(13)包括一排或多排(14)交替像素(15)，所述交替像素要被照射，以便允許檢測所投射的校準圖像(13)的強度和清晰度，并且其中所述校準圖像(13)至少包括與所述聚焦層(5)的相對端部相對應的所述像素(15)的左區(qū)域和右區(qū)域(130，131)，以允許檢測所述聚焦層(5)中的傾斜。
12.根據(jù)權利要求1至11中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述檢測裝置(8)適于檢測在所述第一驅動裝置(10)在所述檢測區(qū)域(9)內沿著垂直于光軸(o)的方向(x)逐步地或連續(xù)地移動所述檢測裝置(8)期間由所述光學單元(4)投射的圖像的至少一部分，以及用于將表示所檢測到的圖像的信號輸出到所述控制單元(6)；控制單元(6)還適于基于所檢測到的圖像確定補償矩陣并基于補償矩陣改變要投射的圖像。
13.根據(jù)權利要求1至12中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述控制單元(6)還適于調整層圖像的放大倍率、清晰度以及所述光學單元(4)的聚焦層的位置，并基于表示所檢測到的圖像的信號補償光學畸變。
14.根據(jù)權利要求1至13中的任一項所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，
所述光學單元(4)包括兩個或更多個子光學單元(4a，4b)，用于分別朝向所述可光固化物質(3)獨立地投射兩個或更多個圖像，以便硬化沉積在所述聚焦層(5a，5b)中的所述可光固化物質(3)，
其中，所述檢測裝置(8)適于在生成過程期間或在生成暫停中檢測由所述子光學單元(4a，4b)投射的所述兩個或更多個圖像中的每個圖像的至少一部分并將表示所檢測到的圖像的信號輸出到所述控制單元(6)，并且
其中，所述第二驅動裝置(11)包括兩個第二子驅動裝置(11a，11b)，每個第二子驅動裝置連接到所述子光學單元(4a，4b)，以便將所述聚焦層(5a，5b)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)，
其中，所述第二子驅動裝置(11a，11b)相互耦合，以同時驅動所述聚焦層(5a，5b)移入或移出所述檢測區(qū)域(9)，
其中，所述控制單元(6)還適于基于表示所檢測到的圖像的信號來調整所述子光學單元(4a，4b)和/或修改要投射的圖像，并獲得所述聚焦層(5a，5b)中的相同的成像特性，例如均勻性、像素尺寸等等。
15.根據(jù)權利要求14所述的立體光刻設備(1)，其特征在于，所述控制單元(4)還適于基于所輸出的信號來調整所述兩個或更多個子光學單元(4a，4b)，以無間隙地且無重疊地在所述聚焦層(5a，5b)中并排投射相應圖像。