專利名稱：平面顯示板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種具有如下結構的平面顯示板，其前保護片與平面顯示板主體的觀者側表面連接，這樣可以增加平面顯示板，特別是等離子體顯示板(以下簡稱為PDP)主體的機械強度，以防止破碎，減少電磁噪聲和來自平面顯示板主體的近紅外輻射。
背景技術：
近年來，PDP因其具有的可制成大屏幕和能夠清晰地顯示全色地優(yōu)點而受到矚目。PDP顯示全色的方式是選擇性地使熒光體放電，從而使分開地形成于兩塊玻璃板之間的很多放電單元發(fā)光。從該發(fā)光原理看，會成為其它裝置產生故障或產生噪音的因素的電磁波和熱輻射(近紅外)是從PDP的正面發(fā)出的，因此需要屏蔽這些電磁波和熱輻射。
迄今，關于降低電磁波和熱輻射(近紅外)對平面顯示板主體的影響，已知的有以下一些方法。
(A)JP-A-11-119666公開了這樣一種顯示板，它具有PDP主體、用透明膠粘接在PDP主體正面的電磁波屏蔽材料、用透明膠粘接在電磁波屏蔽材料前面的透明基片和在透明基片和PDP主體之間的降低熱輻射層。使用用金屬纖維或包覆金屬的有機纖維制成的導電性網作為電磁波屏蔽材料，并使用包含基膜和交替地層壓在基膜上的氧化物透明電極膜和金屬薄膜的多層膜作為降低熱輻射層。
(B)JP-A-57-21458、JP-A-57-198413、JP-A-60-43605等公開了一種具有近紅外線屏蔽層的濾光片，所述屏蔽層用通過在粘合樹脂中分散具有近紅外線吸收性能的添加劑(近紅外線吸收劑)而得到的樹脂組合物制成。具有這樣結構的近紅外線屏蔽層可很容易地形成，而且，其材料能以較低價格得到。
(C)JP-A-2001-13877公開了這樣一種平面顯示裝置，它具有PDP主體、帶可視光反射調節(jié)層的濾光片、減緩沖擊元件和一個位于PDP主體的顯示側基片上并與其粘接的調節(jié)顏色、屏蔽電磁波輻射、和近紅外線的元件。
可是，在上述現(xiàn)有技術中，在A中，由于是用導電性網作為電磁波屏蔽材料的，如果降低網的數(shù)值孔徑以增加電磁波屏蔽性能，則網易于屏蔽發(fā)自PDP主體的光，由此，透光系數(shù)會呈減小趨勢，且可能會損害圖像的清晰度。而如果增加網的數(shù)值孔徑，則雖然透光系數(shù)改善，但電磁波屏蔽性能往往會受到損害。
在將如(B)中那樣包含近紅外線吸收劑的屏蔽層施加在將與PDP主體粘接在一起的前保護片上的情況下，得不到所設計的近紅外線屏蔽效果。比如說，在JP-A-11-119666所公開的結構中，如果設置使用近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層以替代使用金屬材料的降低熱輻射膜，則近紅外線屏蔽性能或發(fā)射光的色調可能會在長期發(fā)光前后發(fā)生變化，這是很不利的。
在(C)中，準備結合于PDP主體上的濾光片部件具有減緩沖擊材料，該減緩沖擊材料比如用透明和抗沖擊的聚氨脂樹脂類材料或者含有丙烯酸橡膠材料的丙烯酸樹脂類材料制成，這樣能有效防止劃痕。然而，用這樣的樹脂層并不能增加光學膜本身的硬度。如果從觀者側施加外力，則外力會作用于PDP主體的保護玻璃，且PDP主體不能得到有效的保護。
而且，在PDP等平面顯示板中，如果連接于平面顯示板主體的前保護片本身在受到來自觀者側的外力時變形，則外力可能作用在平面顯示板主體的保護玻璃，且平板顯示器主體會破損，對它的保護也很重要。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種具有平面顯示板主體和與主體結合在一起、具有電磁波屏蔽功能和近紅外線屏蔽功能的前保護片的平面顯示板，具有良好和穩(wěn)定的近紅外線屏蔽功能，能更安全地防止平面顯示板主體破碎。
本發(fā)明的一個方面是，提供了這樣一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述保護片包含依下述次序層壓的防發(fā)射層、含具有電磁波屏蔽性能和近紅外線屏蔽性能的金屬的半透明導電性層、由鋼化或半鋼化玻璃制得的高硬度透明基片以及粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
在上述平面顯示板中，平面顯示板主體可以是PDP。
在本發(fā)明中，導電層具有如下結構其具有由交替層壓的氧化物層和金屬層構成的導電性多層膜及與該多層導電膜連接的地電極。
金屬層最好由純銀組成，或者由銀作為主要成分并含有鈀、金和銅中的至少一種。導電性多層膜中的氧化層最好由氧化鋅作為主要成分并含有錫、鋁、鉻、鈦、硅、硼、鎂和鎵中的至少一種金屬的氧化物。
本發(fā)明者還對將包含近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層應用于與PDP主體結合成一體的類型的前保護片時的近紅外線屏蔽效果的變化進行了廣泛的研究，結果發(fā)現(xiàn)，發(fā)亮時的PDP主體的表面溫度以整個屏幕的平均溫度表示，會升高到60℃，特別是在持續(xù)發(fā)亮時，溫度會高達80℃，并發(fā)現(xiàn)，如下面的對照例1的耐熱老化試驗所示，將包含近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽膜暴露于80℃的高溫下時，其光學性能明顯下降。
本發(fā)明者經廣泛研究還發(fā)現(xiàn)，當將玻璃基板層壓在PDP主體表面時，玻璃基片的表面溫度就下降至40℃的水平，即使是在PDP主體表面溫度達到80℃的部分。他們還發(fā)現(xiàn)，如下面的對照例2的耐熱老化試驗所示，當加熱溫度低至40℃時，含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽膜的光學性能無明顯下降。本發(fā)明就是在這些發(fā)現(xiàn)的基礎上完成的。
即，發(fā)明的另一方面是，提供這樣一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述前保護片包含透明基片、在該透明基片一側的電磁波屏蔽層、含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層和在透明基片另一側的作為最外層的粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
平面顯示板具有近紅外線屏蔽層和電磁波屏蔽層，這樣，近紅外線屏蔽效應和電磁波屏蔽效應便會產生。
特別是，透明基片夾在平面顯示板主體和含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層之間，它起熱緩沖層的作用，能減少從平面顯示板主體表面?zhèn)飨蚪t外線屏蔽層的熱量。因此，即使平面顯示板主體的表面溫度在發(fā)光時升高，也能防止近紅外線屏蔽層中所含的近紅外線吸收劑熱老化，這樣，良好和穩(wěn)定的近紅外線屏蔽作用便可得到。
而且，使用近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層容易形成且其材料可以較低成本得到，從而可降低成本。
在前保護片透明基片的一側最好設置作為最外層的防反射層。
平面顯示板具有防反射層，能得到防反射作用。這里，可將防反射層作為前保護片的最外層。
視需要，在本發(fā)明的透明基片、高硬度透明基片、導電層、電磁波屏蔽層、近紅外線屏蔽層、防反射層和粘合劑層之外再設置一層，如防污染層。


圖1是本發(fā)明的平面顯示板的第一實施方式的剖面圖。
圖2是本發(fā)明的平面顯示板的第二實施方式的剖面圖。
圖3是本發(fā)明的平面顯示板的第三實施方式的剖面圖。
現(xiàn)在，結合較佳實施方式對本發(fā)明作詳細描述。
具體實施方式
第一實施方式
圖1是本發(fā)明的平面顯示板的第一實施方式的剖面圖。在該實施方式中，平面顯示板1包括平面顯示板主體2和與該平面顯示板主體的觀者側表面2a(以下稱表面2a)粘接的高硬度前保護片3。前保護片3包括高硬度透明基片4、導電層5、防反射層6和粘合劑層7。下面對這些構成部分逐一進行說明。平面顯示板主體
可在本發(fā)明中使用的平面顯示板主體2可以是各種平面顯示板，如PDP、等離子體尋址液晶顯示板(PALC)和場致發(fā)射顯示器(FED)。在它們中，對于需要屏蔽電磁波和近紅外線的PDP，應用本發(fā)明的優(yōu)點是明顯的。
以下的說明以用PDP作為平面顯示板的情況作為例子，＂平面顯示板1＂稱為＂PDP1＂，＂平面顯示板主體2＂稱為＂PDP主體2＂。
作為PDP主體2，可以使用各種結構的PDP裝置。在典型的PDP中，用以形成大量放電元件的隔壁夾在兩個玻璃基板之間，在各放電元件中形成有放電電極，并在各放電元件中形成有發(fā)射紅、綠或藍光的熒光層，在各放電元件中封入含氙(Xe)的氣體。通過使發(fā)電元件中的熒光有選擇性地放電發(fā)光，使得顯示全色成為可能。啟動PDP主體2時，電磁波和近紅外線從表面2a射出。前保護片
高硬度前保護片3包括用玻璃制成的高硬度透明基片4、在底片4的一側的含有金屬的具有屏蔽電磁波和近紅外線功能的半透明導電層5、在導電層5的與基片4相反一側的表面上的防反射層6和在基片4的另一側的粘合劑層7。該高硬度前保護片3通過粘合劑層7粘接在PDP主體2的表面2a上。高硬度透明基片
作為本發(fā)明的高硬度透明基片4，可以使用鋼化或半鋼化玻璃(淬火玻璃)。玻璃的熱膨脹系數(shù)是塑料的一半或更小，即使PDP主體2側的表面與另一側表面之間的溫度略有差異，也不會翹曲，其耐熱性和化學穩(wěn)定性也極好。高硬度透明基片4的厚度可根據(jù)PDP主體2的大小適當設定，通常為1-5mm，最好是2-4mm。
通過將具有用鋼化或半鋼化玻璃制成的高硬度透明基片4的前保護片3粘接于PDP主體的表面2a，可使PDP主體的表面2a具有高硬度。PDP主體2的屏幕面積可作得比陰極射線管大，實際中一直使用屏幕大于30英寸的PDP，將來的趨向是PDP的屏幕更大。對于這樣的大的PDP主體2，需要增加整個表面2a的硬度。也就是說，如果保護片放置于PDP主體2的表面2a并與之有空隙，如果保護片是用低硬度的合成樹脂制成的，則當外力作用于其中心部分時其容易彎曲。由于中心部分與PDP主體2連在一起，這樣，外力就直接作用于PDP主體2，從而導致PDP主體2破碎。此外，即使保護片用玻璃制成以增加其強度，但如果保護片與PDP主體2的表面2a之間有空隙，則外力只作用于保護片，當外力超過保護片的強度極限，保護片就會破碎。另一方面，在本實施方式中，具有用鋼化或半鋼化玻璃制成的高硬度透明基片4的前保護片3與PDP主體2的表面2a粘接在一起，構成PDP主體表面2a的玻璃片與高硬度透明基片4通過粘合劑層7粘接，這樣，外力就由高硬度透明基片4和PDP主體2的玻璃片兩者承受，因而本發(fā)明的PDP1具有高硬度。此外，由于構成PDP主體表面2a的玻璃片和高硬度透明基片4是通過粘合劑層7粘接的，這樣，與保護片在PDP主體2的表面2a側之上并與之有空隙的情況相比，就可顯著減少界面上的反射，并可使由于外物反射造成的疊影現(xiàn)象減少到最小程度。
這樣的高硬度的透明基片4可是用已知的玻璃鋼化方法制備的，特別是，它可以用氣冷淬火法制備在預定的溫度范圍內(最好是在650-700度之間)加熱玻璃片，然后強行空氣冷卻以進行淬火。通過適當調節(jié)空氣冷卻條件(主要是冷卻速率)，或者根據(jù)玻璃厚度，可得到平均破壞應力至少為100MPa的鋼化玻璃或平均破壞應力為60-100MPa的半鋼化玻璃。即使用氣冷淬火法制成的鋼化或半鋼化玻璃意外破碎，其碎片往往較小，根本不會有刀片一樣的鋒利的邊，這樣就很安全。導電性層
半透明的導電性層5具有至少一層設在高硬度透明基片4一側的有屏蔽電磁波和近紅外線功能的金屬層。該金屬層最好由選自金、銀和銅中的至少一種金屬構成，或者以上述金屬為主要成分，特別是最好以銀為主要成分，這樣可實現(xiàn)低電阻和低吸收。此外，以銀作為主要成分的金屬層最好含有銀作為主要成分并還含有鈀、金和銅中的至少一種，這樣，銀的擴散就被抑制，使得防潮性能提高。鈀、金和銅中的至少一種的含量最好占銀及鈀、金和銅中的至少一種的總含量的0.3-10原子％。如果至少占0.3原子％，就可得到使銀穩(wěn)定化的效果。至多占10原子％時，在保持良好的防潮性能的同時，能得到良好的成層速率和可見光透射率。因此，從上述角度考慮，添加量以最多5.0原子％為宜。此外，如果添加量增加，則預算大幅增加，因此，考慮到通常所需的防潮性能，添加量在0.5-2.0原子％的范圍內。在導電性層5以單層形成的情況下，其金屬層的厚度被認為在5-20nm之間，最好是在8-15nm之間。對制造金屬層的方法沒有特別的限制，但是最好用能直接在透明基片的一面形成均勻的金屬薄層的噴鍍法制造。另外，也可用噴鍍法在膜樣透明基片上形成金屬層，并可將所得噴鍍膜粘接于透明基4片的一面。
本發(fā)明中，適合作為導電性層5使用的有包含交替層壓在高硬度透明基片上的氧化物層和金屬層的導電性多層膜，特別是包含氧化物層、金屬層和氧化物層并以此次序交替地層壓在高硬度透明基上片4的為(2n+1)層(這里，n是至少為1的整數(shù))的導電性多層膜。氧化物層含有選自鉍、鋯、鋁、鈦、錫、銦和鋅中的至少一種金屬的氧化物作為主要成分，最好含有選自鈦、錫、銦和鋅中的至少一種金屬的氧化物作為主要成分，特別是，最好含有氧化鋅作為主要成分，這樣，吸收小，折光率約為2；或者上述氧化物層最好含有二氧化鈦作為主要成分，這樣，折光率高，能用小的層數(shù)得到所需色調。氧化物層可用許多層氧化錫層組成。比如說，可以用含有氧化錫作為主要成分的層和含有氧化鋅作為主要成分的層形成，代替含有氧化鋅作為主要成分的氧化物層。
以氧化鋅作為主要成分的氧化物層最好包含至少一種除了鋅之外的金屬。上述所含的至少一種金屬在氧化層中主要以氧化物的狀態(tài)存在。上述除了鋅之外的至少一種金屬最好選自錫、鋁、鉻、鈦、硅、硼、鎂和鎵。上述至少一種金屬的含量最好占上述金屬和鋅的總量的1-10原子％，這樣，所得導電性膜的防潮性能會增強。當上述含量至少為1原子時，可充分減小氧化鋅膜的內壓力，并可得到良好的防潮性能。此外，當最多為10原子時，氧化鋅的結晶性被很好地保持，且與金屬層的相容性不會下降。上述金屬的含量最好是2-6原子％，以使得到的氧化鋅膜具有較小的內壓力，并具有穩(wěn)定和良好的重復性，并考慮了氧化鋅的結晶性。
離透明基片最遠和最近的氧化物層的幾何膜厚度(以下簡稱為厚度)最好在20-60nm(特別是30-50nm)之間，其它氧化層的厚度則在40-120nm(特別是40-100nm)之間。當欲得到的導電性層的目標電阻為2.5Ω/□時，金屬層的總厚度最好在25-40nm(特別是25-35nm)之間；如果目標電阻為1.5Ω/□，則總厚度最好在35-50nm(特別是35-45nm)之間。例如，當金屬層數(shù)是2時，氧化物層和金屬層的總厚度最好在150-220nm(特別是160-200nm)之間；當金屬層數(shù)是3時，上述總厚度在230-330nm(特別是250-300nm)之間；當金屬層數(shù)是4時，上述總厚度在270-370nm(特別是310-350nm)之間。
可在第一金屬層和第二氧化物層之間、第二金屬層和第三氧化物層之間及第三金屬層和第四氧化物層之間設置用來防止金屬層在氧化物層形成時被氧化的另一層(以下稱氧化屏障層)。所述氧化屏障層例如可以是金屬層、氧化物層或氮化物層。具體地說，例如，可以是選自鋁、鈦、硅、鎵和鋅中的至少一種金屬、該金屬的氧化物或氮化物。最好使用含鈦或硅和鎵的氧化鋅。上述氧化屏障層的厚度最好是1-7nm。如果上述厚度小于1nm，則作為氧化屏障層的效果不足，而如果上述厚度大于7nm，則膜系統(tǒng)的透光度下降。
此外，在導電性層5的表面最好有一層用氧化物膜或氮化物膜制成的保護層，以防止導電性層5(特別是含銀的金屬層)受潮和防止導電性層5的氧化物層(特別是含氧化鋅作為主要成分的氧化物層)在粘接防反射層6時與粘合劑(尤其是堿性粘合劑)粘連。具體地說，該層例如可以是鋯、鈦、硅、硼或錫等金屬的氧化物或氮化物的層。特別是，當用含氧化鋅作為主要成分的層作為導電性層5的最外層時，最好使用氮化物膜。該氮化物膜可以是鋯和/或硅的氮化物膜，特別是，最好使用鋯和硅的復合氮化物膜。該保護層的厚度最好為5-30nm，5-20nm尤佳。
將接地電極8與導電性層5連接，以將由于PDP主體2發(fā)出的電磁波而產生于在該層中的電流接地。將此電極8形成于高硬度透明基片4的一面，以使該電極與導電性層5的至少一部分周邊接觸。對其形狀和大小沒有特別的限制，但低電阻的電極具有良好的電磁波屏蔽性能。此電極8最好設于高硬度透明基片4的整個周邊，以確保半透明導電性膜5的電磁波屏蔽效果。電極8可以通過涂布銀膏(含銀和玻璃粉的膏劑)或銅膏(含銅和玻璃粉的膏劑)、然后焙燒而得到。由于該焙燒步驟可與上述高硬度透明基片4的鋼化步驟同時進行，因此，最好在鋼化步驟之前，用銀或銅膏涂布玻璃透明基片。另外，也可以是導電性層5具有圖1中未示出的與電極8連接的縱向接地導線的結構。防反射層
防反射層6可以是任何具有防反射性能的層，可以使用任何已知的防反射方法。例如，可以是經防閃光處理或折射率低的層。該低折射率層可以用已知的低折射率材料制成，但是，從防反射效果和易于形成層的角度考慮，最好用非結晶性含氟聚合物制成。從高硬度透明基片意外破碎時防止其碎片散射的角度考慮，防反射層最好具有樹脂膜和形成于樹脂膜一面的低折射率層。特別好的是具有聚氨酯類撓性樹脂層和由位于該樹脂層一面的用非結晶性含氟聚合物制成的低折射率層的防反射層，具體地說，例如，旭硝子株式會社生產的ARCTOP(商品名)。
可在透明基片前面的導電性膜側(觀者側)和/或透明基片的后側(PDP主體側)設置能屏蔽近紅外線的樹脂膜(例如，摻入了近紅外線吸收劑的樹脂膜)。也可在使用上述防散射和防反射的樹脂膜如ARCTOP(商品名)作為防反射層時，在聚氨酯樹脂層中加入近紅外線吸收劑以使上述防散射和防反射的膜具有近紅外線屏蔽功能。在本發(fā)明的PDP1中，近紅外線可用導電性層5屏蔽，但是，使防反射層6具有近紅外線屏蔽性能，則可進一步改善近紅外線屏蔽效果。此外，通過在防反射層中摻入會吸收特定波長可見光的顏料和/或染料，能賦予其修正顯示色的顏色平衡的色調修正性能。粘合劑層
前保護片3通過粘合劑層7粘接于PDP主體的表面2a。本發(fā)明中，適用于該粘合劑層的粘合劑例如可以是熱熔型粘接劑(如乙烯/乙酸乙烯酯共聚物(EVA)〕環(huán)氧或丙烯酸酯類紫外線固化型粘合劑、或硅氧烷或聚氨酯類熱固性粘合劑。該粘合劑層7可以至少有二層。如果有三層或更多，不直接與前保護片或PDP主體接觸的一層可以沒有粘合性。粘合劑層7的厚度為0.1-1.0mm，最好是0.2-0.5mm。
當含熱熔型粘合劑的熱熔薄片用作粘合劑層7時，用粘合劑層7將前保護片3和PDP主體2粘接的適宜方法可以是以下方法。即，將熱熔薄片置于PDP主體的表面2a上，前保護片3置于其上，調整位置，用耐熱性膠帶臨時固定。然后，將該臨時固定的組件放入有排氣道的耐熱性樹脂袋中。接著，將排氣道與真空泵相連以脫去袋中的空氣，并將該袋放入加熱爐中，并在熱熔物的熔融粘合溫度加熱。加熱結束后，從爐中取出樹脂袋，終止減壓，取出具有PDP主體2和用粘合劑層7粘接于該PDP主體2的表面2a的前保護片3的PDP1.
本實施方式的PDP1具有如下結構具有用鋼化或半鋼化玻璃制成的高硬度透明基片4的前保護片3與PDP主體2的表面2a粘接在一起，構成PDP主體表面2a的玻璃片和高硬度透明基片4通過粘合劑層7粘接，這樣，來自觀者側的外力能被高硬度透明基片4和PDP主體2的玻璃片兩者承受，使得PDP主體1的觀者側具有極高的硬度，由此，PDP1不易破碎。此外，與保護片在PDP主體2的表面2a側并與之有空隙的情況相比，用粘合劑層7將構成PDP主體表面2a的玻璃片和高硬度透明基片4粘接，可顯著減少界面反射，并可使由于外界物體反射而造成的疊影現(xiàn)象減小到最低程度。第二實施方式
圖2是說明本發(fā)明平面顯示板第二實施方式的模式圖。在本實施方式中，平面顯板11包括平面顯示板主體2和粘接于該主體觀者側表面2a(以下簡稱為表面2a)的者前保護片13.
前保護片13包括透明基片14、電磁波屏蔽層15、近紅外線屏蔽層9、防反射層6和粘合劑層7.前保護片
在本實施方式中，前保護片13具有如下結構在透明基片14的一面，電磁波屏蔽層15、近紅外線屏蔽層9和防反射層6依次層壓于其上，粘合劑層7粘接于透明基片14的另一面。前保護片13通過粘合劑層7粘接于PDP主體2的表面2a。透明基片
各種玻璃基片和各種透明樹脂基片可用作上述透明基片14。特別是在本實施方式中，透明基片14還具有熱緩沖層的功能，因此，其最好具有低熱導系數(shù)和高熱緩沖作用。具體地說，其熱緩沖作用最好達到這樣的水平當其粘接于80度的加熱面時，其與粘接面相反的一面的表面溫度保持在40度以下。透明基片14的具體例子包括各種玻璃基片和有機聚合物材料。
此外，上述透明基片14最好是在23℃的彎曲彈性模量至少為2000MPa的高硬度透明基片，例如，可以是用各種玻璃、聚碳酸酯和丙烯酸樹脂制成的基片。其中，優(yōu)選高彈性模量的玻璃，在各種玻璃中，優(yōu)選平均破裂應力至少為100MPa的鋼化玻璃或平均破裂應力為60-100MPa的半鋼化玻璃。當透明基片14的彎曲彈性模量至少為2000MPa時，則當外力作用于其時，前保護片13本身幾乎不會變形，且外力也不太可能影響構成PDP主體2的表面2a的玻璃。因此，前保護片13與其粘接在一起的PDP主體2的機械強度得到有效改善，可以避免其破碎。特別是，因為玻璃的熱膨脹系數(shù)為塑料的一半或更少，所以即使在PDP主體2側的表面和相反側表面稍有溫差，它也不會翹曲，且其耐熱性和化學穩(wěn)定性也十分優(yōu)異，因此適宜用作透明基片14。
當高硬度透明基片用作透明基片14時，必須設定一定的厚度，使PDP主體2具有足夠的機械強度和熱緩解功能，其厚度通常為1-5mm左右。
適宜作為透明基片14的鋼化或半鋼化玻璃用與上述方法相同的方式制備。
電磁波屏蔽層15用包含至少一層金屬層的導電性膜或以網的形式形成的網狀導電性膜制得。
上述包含至少一層金屬層的導電性層可采用上述的半透明導電性膜5。
上述網狀導電性膜例如可以是用照相平板印刷術或印刷法制成的，也可以是纖維網。其中，用照相平板印刷術制成的網狀導電性膜的表面電阻低至約0.05Ω/□，因此特別好用。
具體地說，用照相平板印刷術制得的網狀導電性膜包含金屬網和樹脂膜。其制造方法可以是將粘接于樹脂膜的金屬膜(如銅膜)或者通過蒸鍍法或電鍍法形成于樹脂膜上的金屬薄膜用照相平板印刷術法形成圖案，并將該金屬薄膜蝕刻成網狀結構。
上述用照相平板印刷法膜制造的網狀導電性膜，其金屬薄膜的材料例如可以是銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦、錫、鎢、或鉻，或者它們的合金。其中，優(yōu)選銅、鋁或不銹鋼。從電磁波屏蔽性能和蝕刻性能的角度考慮，金屬薄膜的厚度在2-20μm之間，最好是在3-10μm之間。
上述用照相平板印刷法膜制造的網狀導電性膜，其樹脂膜例如可以是PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、TAC(三乙酰纖維素)或聚苯乙烯。
上述用照相平板印刷術制備的網狀導電性膜，其網格間距最好在200-400μm之間，行寬最好在5-30μm左右。
將與上述導電性層5中的接地電極相同的電極8與電磁波屏蔽層15連接。防反射層
防反射層6可以是具有防反射性能的任何層，可使用任何已知的防反射方法。例如，它可以是經防閃光處理的層或者低折射率的層。低折射率層可以用已知的低折射率材料制成，但從防反射效果和易于形成層的角度考慮，低折射層最好用非結晶性含氟聚合物制成。從高硬度透明基片4本身意外破碎時避免其碎片散射的角度考慮，防反射層8最好包含樹脂膜和在該樹脂膜的一面形成的低折射率層。特別好的是，防反射層包含聚氨酯類撓性樹脂層和形成于該樹脂層的一面的用非結晶性含氟聚合物制成的低折射率層，具體地說，防反射層例如可以是旭硝子株式會社生產的ARCTOP(商品名)。近紅外線屏蔽層
近紅外線屏蔽層9用包含作為主要成分的樹脂和分散在樹脂中的近紅外線吸收劑的樹脂組合物制成。
對制備近紅外線屏蔽層9的方法沒有特別的限制，但近紅外線屏蔽層9的制備方法最好是在基片上涂布將主要成分、近紅外線吸收劑和溶劑均勻混合而得到的溶液。至于涂層方法，可以選擇浸涂法、輥涂法、噴涂法、照相凹版涂層法、點涂法、模壓涂層法等。通過使用這些方法，可連續(xù)操作，這樣，其生產效率比之間歇式汽相淀積法要好得多。也可以使用能制備薄且均一的涂膜的旋涂法。
在涂布法所用的基片中，首選透明樹脂膜，例如可使用聚酯類、丙烯酸類、纖維素類、聚乙烯類、聚丙烯類、聚烯烴類、聚氯乙烯類、聚碳酸酯類、酚醛類或聚氨酯類樹脂膜。其中，聚對苯二甲酸乙二酯膜等聚酯膜較適宜。
在用包含透明膜和形成于透明膜上、用分散有近紅外線吸收劑的樹脂組合物制成的涂膜(近紅外線屏蔽層9)構成近紅外線屏蔽層9的情況下，用作基片的透明樹脂膜插在近紅外線屏蔽層9和電磁波屏蔽層15之間，雖然圖2中沒有顯示。
此外，在用包含樹脂膜和形成于該樹脂膜一面的低折射率層的層壓物〔如上述ARCTOP(商品名)〕作為防反射層6時，可使用防反射層6的樹脂膜作為基片并可用將主要成分、近紅外線吸收劑和溶劑均一混合而制得的溶液涂布該防反射層的另一面來形成近紅外線屏蔽層9。
在這種情況下，近紅外線屏蔽層9和電磁波屏蔽層15之間沒有基片存在，而包含相互粘接的近紅外線屏蔽層9和防反射層6的層壓物與電磁波屏蔽層15連接。
此外，也可將近紅外線吸收劑加入構成防反射層6的低折射率層中，以得到具有防反射功能的近紅外線屏蔽層。在這種情況下，沒必要分別制備防反射層6和近紅外線屏蔽層9，且在電磁波屏蔽層15上有具有防反射功能的近紅外線屏蔽層，雖然圖2中沒有顯示。
此外，當用包含樹脂膜和形成于樹脂膜一面的低折射率層的層壓物如上述ARCTOP(商品名)作為防反射層6時，也可以將近紅外線吸收劑加入樹脂膜中，其目的是用上述層壓物作為具有防反射功能的近紅外線屏蔽層。在此情況下，也沒必要分別制備防反射層6和近紅外線屏蔽層9，且具有防反射功能的近紅外線屏蔽層位于電磁波屏蔽層之上，雖然圖2中沒有顯示。
對主要成分并沒有特別的限制，只要能使近紅外線吸收劑均勻地分散于其中便可。可適宜地使用熱塑性樹脂，如聚酯類樹脂、烯烴類樹脂、環(huán)烯烴類樹脂或聚碳酸酯類樹脂。具體地說，作為主要成分，可使用市售品如聚酯樹脂＂O-PET＂(商品名，Kanebo株式會社制造)、聚烯烴樹脂＂ARTON＂(商品名，JSR公司制造)、環(huán)烯烴樹脂＂ZEONEX＂(商品名，三菱工程塑料株式會社制造)。
對溶解主要成分的溶劑沒有特別的限制，它例如可以是酮類溶劑(如環(huán)乙酮)、醚類溶劑、酯類溶劑(如乙酸丁酯)、醚醇類溶劑(如乙基溶纖劑)、酮醇類溶劑(如雙丙酮醇)或芳香族類溶劑(如甲苯)。它們可單獨使用或以包含至少兩種類型溶劑的混合溶劑系統(tǒng)的形式使用。
使用能吸收至少一部分近紅外區(qū)(波長780-1300nm)的光的著色劑作為近紅外線吸收劑，該著色劑可以是顏料或染料。具體地說，它可以是例如聚甲炔類、酞菁類、萘亞甲基花菁類、金屬絡合物類、銨類、亞銨(immonium)類、二亞銨(diimmonium)類、蒽醌類、二巰基金屬絡合物類、萘醌類、吲哚酚類、偶氮類或三烯丙基甲烷類化合物，但是并不僅限于這些化合物。
為了吸收電子設備的熱輻射和防止其噪音，近紅外線吸收劑最好在750-1100nm具有最大吸收波長，尤以金屬絡合物類、銨類、酞菁類、亞萘甲基花菁類或二亞銨類化合物為佳。近紅外線吸收劑可單獨使用或以包含以上化合物中的至少兩種的混合物的形式使用。
近紅外線屏蔽層9中所含的近紅外線吸收劑的量最好至少是主要成分的0.1質量％，以有效地得到近紅外線屏蔽效果，特別好的是至少為主要成分的2質量％。此外，近紅外線吸收劑的量最好控制在最多為主要成分的10質量％以保持主要成分的物理性能。
近紅外線屏蔽層9的厚度最好至少為0.5μm，以有效地得到近紅外線屏蔽效果，且其厚度最好至多為20μm，這樣，成膜過程中溶劑不易殘留，且制膜操作趨于簡單。其厚度尤以1-10μm為佳。粘合劑層
適用于本實施方式的粘合劑層7的粘合劑可以是與上述的相同的粘合劑。粘合劑層7的厚度為0.1-1.0μm，最好在0.2-0.5μm之間。制造方法
要制造本實施方式的PDP主體11，例如，在透明基片14的一面依次形成電極8和電磁波屏蔽層15，通過涂布或粘接在其上面形成近紅外線屏蔽層9，再在其上面粘接防反射層6。然后，將透明基片14的另一面用粘合劑層7粘接于PDP主體2?？墒褂靡殉醪浇Y合成一體的近紅外線屏蔽層9和防反射層6，并將其粘接于電磁波屏蔽層15。
當電極8由銀膏或銅膏形成的情況下，透明基片14的涂布可適宜地用絲網印刷法進行。此外，當用玻璃基片作為透明基片14時，在焙燒電極8的同時加熱玻璃基片，這樣，通過焙燒后進行氣冷，可使用作透明基片14的玻璃基片鋼化。
在電磁波屏蔽層15由包含至少一層金屬層的導電性膜15構成的情況下，該導電性膜最好用濺鍍法制成，或將另行制得的濺鍍膜粘接于透明基片14的形成有電極8的表面上。而當電磁波屏蔽層15由網狀導電性膜構成時，粘接另行制得的、形成有電極8的網狀膜。
各層之間通過適合將膜粘接的方法如輥壓層壓法粘接起來。視需要，在各層之間可有粘合劑。
當用包含熱熔型粘合劑的熱熔片作為粘合劑時，可以適宜地使用與上述第一實施方式中所述的相同的方法。
本實施方式的PDP11包含防反射層6、近紅外線屏蔽層9和電磁波屏蔽層15，由此，能得到防反射效應、近紅外線屏蔽效應和電磁波屏蔽層效應。
近紅外線屏蔽層9中所含的近紅外線吸收劑可能會受熱劣變，可是，透明基片14夾于PDP主體2(其表面溫度在發(fā)光時會上升)與近紅外線屏蔽層9之間，透明基片14起熱緩解層的作用，抑制熱從PDP主體2的表面2a傳向近紅外線屏蔽層9。因此，近紅外線屏蔽層9中所含的近紅外線吸收劑得以免于受熱劣變，并可得到良好和穩(wěn)定的近紅外線屏蔽效果。
此外，透明基片14通過粘合劑層7粘接于PDP主體2的表面2a并與其形成一體，從而，與PDP主體2的表面2側與PDP主體前面的用于保護的濾光片之間有空隙的情況相比，可顯著減少界面反射，并可使由于外界物體反射造成的疊影現(xiàn)象減少到最低程度。還有，在本實施方式中，由于電磁波屏蔽層15位于透明基片14之上，因此，它可用濺鍍法形成，這樣，形成與電磁波屏蔽層相連的電極8就很容易.
另外，在本實施方式中，當電磁波屏蔽層15由包含至少一層金屬層的導電性膜構成時，也可通過電磁波屏蔽層15得到近紅外線屏蔽功能，且可以在其上再添加一層近紅外線屏蔽層9，從而，使近紅外線屏蔽性能進一步增強。第三實施方式
圖3說明本發(fā)明平面顯示板的第三實施方式的模式圖。本實施方式的PDP21與第二實施方式的PDP11的區(qū)別在于，在本實施方式中，電磁波屏蔽層15位于透明基片14的PDP主體2一側。
本實施方式的前保護片23具有這樣一種結構近紅外線屏蔽層9和防反射層6按序層壓于透明基片14的一面；而在透明基片14的另一面，電磁波屏蔽層15和粘合劑層7按序層壓。前保護片23通過粘合劑層7粘接于PDP主體2的表面2a。
圖3中，對于與圖2相同的構成部分，使用相同的符號并省略其說明。
要制造本實施方式的PDP主體21，例如，將近紅外線屏蔽層9通過涂布或粘接形成于透明基片14的一面，再在其上粘接防反射層6。近紅外線屏蔽層9和防反射層6可初步結合成一體。此外，另外在透明基片14的另一面依次形成電極8和電磁波屏蔽層15。電極8和電磁波屏蔽層15的制備以及各層的粘接可與第二實施方式相同的方式進行。然后，將形成電磁波屏蔽層15的一面通過粘合劑層7粘接于PDP主體2。通過粘合劑層7將前保護片23粘接于PDP主體2的方法可與第二實施方式中的相同。
依據(jù)本實施方式，可得到與第二實施方式同樣的效果。
下面，結合實施例對本發(fā)明作更詳細的說明。但應明白，本發(fā)明并不限于這些具體例子。實施例1
本發(fā)明的PDP設備用以下方法制得。前保護片的制備
切割一塊與PDP主體同樣尺寸的鈉鈣玻璃片(厚度3.2mm)，然后倒角。接著，用絲網印刷法將銀膏(村田制作所生產)印刷在整個周邊上，其寬度為從該矩形玻璃片的一側邊緣起10mm。將印刷了銀膏的玻璃片在660℃加熱，然后用強制氣冷進行淬火。為了防止濺鍍膜形成于銀膏上，印刷了銀膏的部分用不銹鋼薄板覆蓋，并用膠帶臨時固定。然后，在印刷了銀膏的玻璃表面，用濺鍍法形成包含3Al-ZnO(40nm)/1.0Pd-Ag(10nm)/3Al-ZnO(80nm)/1.0Pd-Ag(12nm)/3Al-ZnO(80nm)/1.0Pd-Ag(10nm)/3Al-ZnO(40nm)的多層膜。各膜的制備條件如表1所示。
表1
＂3Al-Zn＂表示含有鋁的鋅，其中，鋁占鋁和鋅的總量的3原子％，＂3Al-ZnO＂表示在氧的存在下用3Al-Zn作靶、通過濺鍍法制備的膜。而＂1.0Pd-Ag＂表示含有鈀的銀，其中，鈀占鈀和銀的總量的1.0原子％。
用濺鍍法制得多層膜后，揭下不銹鋼薄板。
然后，將防反射膜(“ARCTOP URP2179＂，商品名，旭硝子株式會社生產)用輥壓層壓機粘接于有用濺鍍法形成的膜的表面上。然后，用激光切割器切下銀膏上的ARCTOP，制備前保護片。PDP主體和前保護片的一體化
上述制得的前保護片和PDP主體用下述方法通過粘合劑層粘接將EVA型熱熔片(＂EVASAFE1450＂，商品名，Bridgestone公司生產)以在垂直和水平方向上比PDP主體小5mm的尺寸切割。將此片置于PDP主體和前保護片的沒有粘接防反射層的表面之間，使三者相互覆蓋，并在周邊的8個點用耐熱膠帶將它們臨時固定。將這個臨時固定的一體化產品封入裝有排氣孔的PET袋中。用真空泵將袋中的壓力降到40托，用1個小時使加熱爐的溫度升到80℃，并將袋子在80℃保持20分鐘。在保持減壓度的同時，用40分鐘將溫度升到110℃，將袋子在110℃保持20分鐘。然后，在袋子冷卻到80℃時，停止減壓。在袋子冷卻到室溫后，將一體化產品(PDP)從PET袋中取出。
將這樣制得的前保護片/PDP主體的一體化產品(PDP)作為試樣，用Tension試驗機進行下述。本實施例的PDP破裂時的應力為8.3MPa，扭轉3mm。破裂試驗方法
使用壓縮式測力傳感器，在其邊緣系上鋼球(直徑30mm)，并將橡膠片插入鋼球和試樣之間。
用夾住試樣邊緣的木支架將一體化產品固定于Tensilon試驗機上。將施加負載的鋼球放在試樣的大致中央的地方，以0.5mm/min的十字頭速度進行試驗。在從例如試樣外觀和負載變化判斷出顯示板破裂時，從其測定圖表的結果計算出此時的扭轉度和強度。實施例2
按與實施例1相同的方法制備PDP，所不同的是，鈉鈣玻璃的厚度為2.5mm。然后進行破裂試驗。PDP破裂時的應力為6.5MPa，扭轉度為3mm。比較例1
按與實施例1的相同方法制備PDP，所不同的是，不進行用加熱和強制氣冷進行的鋼化步驟。然后進行破裂試驗。PDP破裂時的應力為4.2MPa，扭轉度為2.8mm。比較例2
對PDP主體單獨進行與實施例1相同的破裂試驗。PDP主體破裂時的應力為2.2MPa，扭轉度為2.6mm。實施例3
按與實施例1相同的方法得到其上面有用濺射法形成的膜并在其上面再有防反射膜的前保護片，所不同的是，鈉鈣玻璃片的厚度為2.5mm。
通過下述方法用粘合劑層將該前保護片與PDP主體粘接并形成一體。
將100質量份有機硅樹脂溶液(＂SE1885A＂，商品名，Dow Corning ToraySilicone公司生產)和100質量份有機硅樹脂固化劑(＂SE1885B＂，商品名，DowCorning Toray Silicone公司生產)混合用棒涂機涂布在前保護片的沒有粘接防反射層的一側，形成0.5mm的厚度。然后，在100℃退火處理30分鐘，制備其上面有包含有機硅樹脂的粘合劑層的前保護片。
將該前保護片覆蓋于PDP主體上，使包含有機硅樹脂的粘合劑層一側與PDP主體接觸，然后用橡膠輥層壓，得到前保護片和PDP主體的一體化產品。用與實施例1相同的方法進行破裂試驗。PDP主體破裂時的應力為9.8MPa，扭轉度為2.6mm。實施例4
用與實施例3相同的方法得到前保護片與PDP主體形成一體的產品，只是用下述聚氨酯膜粘合劑層代替含有機硅樹脂的粘合劑層。用與實施例1相同的方法進行破裂試驗。PDP主體破裂時的應力為9.0MPa，扭轉度為2.6mm。
將65質量份的Preminol PML-3012(商品名，聚醚型多元醇，旭硝子株式會社生產)、28質量份的Excenol EL-1030(商品名，聚醚型多元醇，旭硝子株式會社生產)、100質量份的Preminol PML-1003(商品名，聚醚型多元醇，旭硝子株式會社生產)、30質量份的1，6-己二異氰酸酯、0.2質量份的二月桂酸二丁錫和2質量份的抗氧化劑混合，然后脫氣，澆注在經過脫模處理的100μm厚的聚對苯二甲酸乙二酯膜上，在80℃反應20分鐘。然后，從聚對苯二甲酸乙二酯膜上揭下，得到0.5nm厚的聚氨酯膜。
在聚氨酯膜的每一面用棒涂機涂上丙烯酸類粘合劑〔一種包含150質量份的SK-DYNE 1640N(商品名，綜研化工株式會社生產)和2質量份的L-45(商品名，綜研化工株式會社生產)的混合物〕。然后，將其干燥，并在100℃退火處理10分鐘，得到其各表面層壓了0.015mm厚的丙烯酸類粘合劑的聚氨酯膜。實施例5
本發(fā)明的PDP裝置用以下方法制備。前保護片的制備
用與實施例1相同的方法得到其上面有用濺鍍法形成的膜的玻璃基片，只是鈉鈣玻璃片的厚度為2.5mm。
然后，用輥壓層壓機將近紅外線屏蔽膜粘接于玻璃基片上有用濺鍍法形成的膜的一側。近紅外線屏蔽層膜的制造采用以下方法。
首先，將光學用聚酯樹脂(＂O-PET＂，商品名，Kanebo公司生產)溶解在環(huán)戊酮中，使樹脂濃度為10％，制得近紅外線屏蔽膜的主要成分的溶液。再在100g主要成分的溶液中，溶解鎳、5.6mg二-1，2-二苯基-1，2-乙烯-二硫醇酯(＂MIR101”，商品名，綠化藥株式會社生產)、酞菁類著色劑(＂EX color801K＂，商品名，日本化藥株式會社生產)、22.4mg二亞銨類著色劑(＂IRG022＂，商品名，日本化藥株式會社生產)和0.4mg蒽醌類著色劑(著色劑A，Dainichiseika Color&Chemicals Mfg公司生產)。用照相凹版式涂敷法將所得溶液涂敷在150μm厚的聚對苯二甲酸乙二酯膜上，得到近紅外線屏蔽膜。以聚對苯二甲酸乙二酯膜作為基片的近紅外線屏蔽膜的厚度為153μm。
接著，用輥壓層壓機將防反射層膜(＂ARCTOP URP2179＂，商品名，旭硝子株式會社生產)粘接于近紅外線屏蔽膜上，并用激光切割器將近紅外線屏蔽膜和在銀膏上的防反射層膜切割并分離，形成電極，并得到前保護片。PDP主體和前保護片的一體化
用上述方法制得的前保護片和PDP主體以與實施例1相同的方法形成一體。用與實施例1相同的方法進行破裂試驗。PDP主體破裂時的應力為6.8MPa，扭轉度為3mm。對照例1
用以下方法對實施例5中使用的近紅外線屏蔽膜進行耐熱老化試驗。
即，分別在加熱前、在40℃加熱1000小時后及在80℃加熱1000后測定近紅外線屏蔽膜的光學性能。用電爐作為加熱工具，通過用分光光度儀(UV3100，島津制作所(株)生產)測得的光平均透過率(單位％)、透過色調和近紅外線透過率(單位％)評價其光學性能。結果示于下表2。表2中，光平均透過率是指可見光(波長380-780nm)的光平均透過率，通過用光譜發(fā)光效率對用分光光度儀得到的光譜分布進行幾何平均而得到。透過色調通過用CIE(國際照明委員會)的色度圖上的坐標(x坐標和y坐標)表示光譜分布而得到。近紅外線透過率用850nm波長的透過率和900nm波長的透過率來表示。
表2
表2所示的結果確認，實施例5中使用的近紅外線屏蔽膜在80℃加熱1000小時后，其光平均透過率、透過色調和近紅外線透過率與加熱前的初始狀態(tài)相比，均明顯下降。例如，作為紅外線屏蔽濾光材料的性能，通常要求其850nm波長的透過率最多為15％，900nm波長的透過率最多為10％。可是在80℃加熱1000小時后，近紅外線屏蔽效果下降，無法滿足上述要求。
然而，在40℃加熱1000小時后，近紅外線屏蔽透過率的下降較小，而光照透過率和透過色調沒有實質性下降。試驗例1
用按與實施例5同樣的方法制得的前保護片/PDP主體的一體化產品作為試樣，進行總共1000小時的發(fā)光，并進行耐熱老化試驗。光學性能的測定用與對照例1相同的方法進行。但是，與實施例5的不同之處在于，為了在發(fā)光結束后從PDP主體取出前保護片以測定其光學性能，用粘合劑將PDP主體與前保護片臨時粘接。
此外，為了檢查發(fā)光前的初始值，還用與對照例1相同的方法測定前保護片在粘接于PDP主體之前的光學性能。
結果示于表3。比較例3
用與實施例5相同的方法制備前保護片，所不同的是，近紅外線屏蔽膜設在玻璃透明基片的PDP主體側。
即，用與實施例5同樣的方法，在鋼化玻璃上涂布銀膏，再在其上面形成包含3Al-ZnO(40nm)/1.0Pd-Ag(10nm)/3Al-ZnO(80nm)/1.0Pd-Ag(12nm)/3Al-ZnO(80nm)/1.0Pd-Ag(10nm)/3Al-ZnO(40nm)的多層膜。
然后，將防反射層(＂ARCTOP URP2179＂，商品名，旭硝子株式會社生產)用輥壓層壓機粘接在有用濺鍍法形成的膜的一側。然后，用激光切割器切出銀膏上的防反射層，得到電極。
另一方面，用輥壓層壓機將與實施例5中的相同的近紅外線屏蔽膜粘接在玻璃基片的有用濺鍍法形成的膜的一側的相反側，得到其保護片。比較試驗例1
將在比較例3中制得的前保護片用粘合劑與PDP主體臨時固定在一起，讓所得的形成一體的產品(PDP)進行總共1000小時的發(fā)光，進行耐熱老化試驗。用與對照例1相同的方法測定其光學性能。
此外，為了檢查發(fā)光前的初始值，還用與對照例1相同的方法測定粘接于PDP主體之前的前保護片(即，在比較例3中制得的前保護片)的光學性能。
結果示于下表3。
表3
表3所示結果表明，在比較試驗例1中，發(fā)光1000小時后，光平均透過率增加了1.1％之多，在850nm波長和在900nm波長的近紅外線透過率分別增加了2.3％和2.1％之多。而在試驗例1中，光平均透過率僅增加了0.3％，在850nm波長和在900nm波長的透過率各僅增加了0.3％和0.7％。此外，在透過色調方面，在比較試驗例1中，發(fā)光1000小時后，x值和y值各增加了0.006和0.010，而試驗例1中，x值和y值各僅增加了0.002和0.003。因此，可以確定，在試驗例1中，光學性能的下降得到抑制。
如上面所說明的，根據(jù)本發(fā)明，與保護片在平面顯示板主體的表面?zhèn)戎喜⑴c之有空隙的情況相比，通過使用透明基片與構成平面顯示板觀者側的玻璃片用粘合劑層粘接的結構，可顯著減少界面反射，并可使由于外物反射而造成的疊影現(xiàn)象降低到最小程度。
此外，在有含近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層存在的情況下，即使平面顯示板主體的表面溫度升高，也能得到具有良好的近紅外線屏蔽效果穩(wěn)定性和高可靠性的平面顯示板。
另外，當具有在23℃的彎曲彈性模量至少為2000MPa的透明基片(如鋼化玻璃、半鋼化玻璃或高硬度塑料)的前保護片與平面顯示板主體的觀者側表面粘接在一起且構成平面顯示板主體表面的玻璃片通過粘合劑層與透明基片粘接時，來自觀眾側的外力可被透明基片和平面顯示板主體的玻璃片兩者承受，并可使平面顯示板的觀者側具有極高的硬度，這樣，就可得到幾乎不會破裂的平面顯示板。
將2001年7月23日提交的日本專利申請第2001-221794號和2001年8月13日提交的日本專利申請第2001-245176號包括說明書、權利要求書、附圖和概要的全部內容在此處引作參考。
權利要求
1.一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述保護片包含依下述次序層壓的防發(fā)射層、含具有電磁波屏蔽性能和近紅外線屏蔽性能的金屬的半透明導電性層、由鋼化或半鋼化玻璃制得的高硬度透明基片以及粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
2.根據(jù)權利要求1所述的平面顯示板，其特征在于，所述導電性層包含導電性多層膜和與之連接的接地電極，所述導電性多層膜包含交替層壓的氧化物層和金屬層。
3.根據(jù)權利要求2所述的平面顯示板，其特征在于，所述金屬層由銀組成，或者以銀作為主要成分并含有鈀、金和銅中的至少一種，所述氧化物層以氧化鋅作為主要成分并含有錫、鋁、鉻、鈦、硅、硼、鎂和鎵中的金屬的至少一種氧化物。
4.根據(jù)權利要求1-3中任一項所述的平面顯示板，其特征在于，所述平面顯示板主體是等離子體顯示板。
5.一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述前保護片包含透明基片、在該透明基片一側的電磁波屏蔽層、含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層和在透明基片另一側的作為最外層的粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
6.根據(jù)權利要求5所述的平面顯示板，其特征在于，所述前保護片具有在透明基片所述一側的作為最外層的防發(fā)射層。
7.一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述前保護片包含在23℃的彎曲彈性模量至少為2000MPa的高硬度透明基片、在該透明基片的一側的電磁波屏蔽層、含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層和在透明基片另一側的作為最外層的的粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
8.根據(jù)權利要求7所述的平面顯示板，其特征在于，所述前保護片具有在透明基片所述一側的作為最外層的防發(fā)射層。
9.一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述前保護片包括透明玻璃基片、在該透明基片一側的電磁波屏蔽層和含有近紅外線吸收劑的近紅外線屏蔽層及在透明基片另一側的作為最外層的粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
10.根據(jù)權利要求9所述的平面顯示板，其特征在于，所述前保護片具有在透明基片所述一側的作為最外層的防發(fā)射層。
11.根據(jù)權利要求5-10中任一項所述的平面顯示板，其特征在于，所述平面顯示板主體為等離子體顯示屏。
全文摘要
一種平面顯示板，它具有平面顯示板主體和前保護片，所述保護片包含依下述次序層壓的防發(fā)射層、含具有電磁波屏蔽性能和近紅外線屏蔽性能的金屬的半透明導電性層、由鋼化或半鋼化玻璃制得的高硬度透明基片以及粘合劑層，前保護片通過粘合劑層粘接于平面顯示板主體的觀者側表面。
文檔編號H01J17/16GK1399304SQ02127359
公開日2003年2月26日 申請日期2002年7月23日 優(yōu)先權日2001年7月23日
發(fā)明者和知博, 森脇健, 宮古強臣 申請人:旭硝子株式會社