專利名稱：位移檢測方法、位移檢測裝置及其校正方法、及信息記錄媒體母盤的記錄裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用光束檢測測定對象表面位移的位移檢測方法。特別是涉及，在使用記錄束為電子束制作光盤等信息記錄媒體用的母盤(Master Disc)的場合下，適用于檢測基板盤片表面位移的方法。并且還涉及適用于該位移檢測方法的位移檢測裝置、及其校正方法，和應(yīng)用該位移檢測裝置的信息記錄媒體母盤的記錄裝置。
背景技術(shù)：
以往，光盤的母盤的記錄是使用藍(lán)色或紫外激光作為記錄束、在涂有感光材料的基板盤片上進(jìn)行聚光和曝光而進(jìn)行的。此時，記錄束用數(shù)值孔徑例如為0.9的大的對物透鏡來聚光。因此焦點深度淺，要跟蹤基板盤片表面的位移來移動對物透鏡，進(jìn)行控制使焦點總是落在基板盤片表面上。
因此，檢測基板盤片表面位移的裝置是不可缺的。例如使記錄束以外的、感光材料無法感光的波長較長的光通過同一對物透鏡進(jìn)行照射，依據(jù)其反射光，用稱為非點收差法或不對稱法的焦點檢測方法檢測測基板盤片表面的位移。通過使用該檢測信號進(jìn)行反饋控制來改變對物透鏡的位置，進(jìn)行跟蹤基板盤片表面位移的自動焦點控制。
此外，近年來隨著光盤的高密度化，正在研究使用電子束作為記錄束。但是，在電子束的透鏡中通過現(xiàn)有的其它光束來照射基板盤片表面而言，其構(gòu)造上難以實現(xiàn)，必須采用其它的位移檢測裝置。
因此，開發(fā)了如圖6所示的光杠桿法，光束傾斜照射到基板盤片表面403上，依據(jù)該反射光在位置檢測器表面402上入射位置的變化，檢測出基板盤片表面403的位移。利用該方法，從光源401來的光在基板盤片表面403上被反射，反射光射入到位置檢測器表面402上。此時，根據(jù)基板盤片表面403的位置的A、B、C的變化，反射光的光路變化為A′、B′、C′。將該反射光光路的變化，作為位置檢測器表面402上的入射位置變化檢測出來，就可以檢測出基板盤片表面403的位移。
但是，圖6所示的現(xiàn)有方法中，作為信號檢測出的位置檢測器表面402上反射光位置的變化，不僅有基板盤片表面403的位移，還含有基板盤片表面403的傾斜。傾斜產(chǎn)生的成分，與從基板盤片表面403上的反射點到位置檢測器表面402的距離成比例增大。因此，同與從反射點到位置檢測器表面402的距離無關(guān)而固定的位移引起的成分相比，傾斜引起的成分在遠(yuǎn)距離時變化的比例變得較大。其結(jié)果是，采用現(xiàn)有的方法，容易受到傾斜的影響，其影響程度等同或大于基板盤片表面位移的影響，難以正確地檢測出位移。
此外，上述情況下，基板盤片上電子束的聚光狀態(tài)難以在記錄過程中實時測出，無法用反饋實現(xiàn)自動焦點控制。因此，必須根據(jù)測出的基板盤片表面的位移和記錄束的焦點調(diào)整的對應(yīng)關(guān)系進(jìn)行控制，這就要求確立該特有的技術(shù)。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述情況，本發(fā)明的目的是，提供可以去除傾斜影響而檢測出基板盤片表面位移的位移檢測方法、及位移檢測裝置。另外，還提供使用該位移檢測裝置、能夠?qū)⒂涗浭诨灞P片表面上適當(dāng)聚光的信息記錄媒體母盤的記錄裝置。
本發(fā)明的位移檢測方法，使光束在所述測定對象表面上反射，根據(jù)所述測定對象表面的位移引起的反射光束的光路的變化，檢測出所述測定對象表面的位移。而且，將至少兩束光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到所述測定對象表面上的同一位置，其反射光束入射規(guī)定的各檢測面的位置由位置檢測器檢測出，并作為位置檢測信號分別輸出，通過求出所述各位置檢測信號的差或和，檢測出所述測定對象表面的位移，以便抵消包含在所述各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分。
本發(fā)明的位移檢測裝置，包括多個光源，向所述測定對象表面入射所述光束；位置檢測器，分別檢測由所述測定對象表面反射的所述光束在規(guī)定的檢測面上入射位置，并作為位置檢測信號輸出；以及信號處理單元，輸入所述位置檢測信號。并且，配置所述各光源，使所述光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到所述測定對象表面上的同一位置。所述信號處理單元，通過求出所述各位置檢測信號的差或和，檢測出所述測定對象表面的位移，以便抵消包含在所述各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分。
若使用上述結(jié)構(gòu)，傾斜引起的成分相互抵消，可以檢測出基板盤片表面的位移。以往用光杠桿方法，在測出的信號中無法分離基板盤片表面的位移和傾斜分別引起的成分，但在將2束光束從相互對置側(cè)入射的情況下，就可以進(jìn)行分離。即各位置檢測器的位置檢測信號中，基板盤片表面位移引起的成分與傾斜引起的成分對檢測信號的影響方向不同，所以通過求出檢測信號的和或差，就可以抵消傾斜引起的成分。
上述結(jié)構(gòu)的位移檢測裝置，可以用下面的方法校正。在所述測定對象表面設(shè)有規(guī)定的臺階，通過由所述光束掃描所述臺階來進(jìn)行所述位移檢測裝置的位移檢測，根據(jù)此時檢測出的位移信號和所述臺階的對應(yīng)關(guān)系，進(jìn)行所述位移檢測裝置的校正。
本發(fā)明的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，包括旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，保持具有記錄材料層的基板盤片并使其旋轉(zhuǎn)；位移檢測裝置，檢測所述基板盤片表面的位移；以及照射裝置，根據(jù)應(yīng)記錄信息將記錄束照射到所述基板盤片上，并且，根據(jù)所述位移檢測裝置檢測出的位移量進(jìn)行控制，使所述記錄束聚光在所述基板盤片表面上。而且，設(shè)有上述構(gòu)成的位移檢測裝置，根據(jù)檢測出的所述位移量改變所述記錄束的焦點位置。
通過設(shè)置上述結(jié)構(gòu)的位移檢測裝置，可恰當(dāng)?shù)貦z測出基板盤片表面的位移，根據(jù)該位移量改變記錄束的焦點位置，由此，可以使記錄束經(jīng)常聚光在基板盤片的表面。
本發(fā)明特別適用于像使用電子束作為記錄束的場合，即無法用同一個透鏡照射記錄束和檢測基板盤片表面的位移的檢測光束的場合。


圖1A是表示本發(fā)明實施例1中的位移檢測方法的實施裝置的平面圖。
圖1B是圖1A的正視圖。
圖2A及圖2B是說明反射光光軸的變化的模式圖。
圖3A是表示沿基板盤片表面的周向的位移和傾斜變化的舉例示意圖。
圖3B是實施例1中的檢測信號示意圖。
圖4A是本發(fā)明實施例2中的位移檢測方法的實施裝置的平面圖。
圖4B圖4A的正視圖。
圖5是本發(fā)明實施例3中的信息記錄媒體母盤記錄裝置的概示圖。
圖6是說明現(xiàn)有位移檢測方法的概示圖。
具體實施例方式
以下，參考附圖來說明本發(fā)明的實施例。
(實施例1)圖1A和圖1B分別是表示實施本發(fā)明實施例1中的位移檢測方法的位移檢測裝置概略結(jié)構(gòu)的平面圖和正視圖。
該裝置，包括由第1光源101及第1光電二極管102組成的第1照射檢測系統(tǒng)和由第2光源103及第2光電二極管104組成的第2照射檢測系統(tǒng)。第1和第2光源101、103的結(jié)構(gòu)分別為，使用半導(dǎo)體激光器射出直線偏光。第1及第2光電二極管102、104的各自受光面分割成兩部分。圖1B中表示出受光面102a分割成受光部A和B、受光面104a分割成受光部C和D的情況。105表示基板盤片的一部分。第1和第2照射檢測系統(tǒng)的光路中，設(shè)有第1偏光束分離器106和第2偏光束分離器107，有選擇地透過或反射光束。即調(diào)整偏光面使第1光源101(的光)在第1偏光束分離器106和第2偏光束分離器107處透射，調(diào)整偏光面使第2光源103(的光)在第1偏光束分離器106和第2偏光束分離器107處反射。由以上結(jié)構(gòu)，各光源101、103發(fā)出的光束被調(diào)整成入射到基板盤片105上大致相同的位置，并且按相反方向通過大致相同的光路。被反射的光束分別入射到第1光電二極管102和第2光電二極管104。
調(diào)整第1和第2光電二極管102、104的配置，使受光面102a、104a的分割線、即受光部A和B的邊界線及受光部C和D的邊界線，與各光束的入射面相垂直。而且，調(diào)整各光束的光斑，使其處在受光面102a、104a的分割線上。最好是調(diào)整成在基板盤片105a表面處于基準(zhǔn)狀態(tài)即垂直方向上的基準(zhǔn)位置、且無傾斜存在時，各反射光束的光斑均等地跨越在各自的受光面102a、104a的分割線上。因此，分別取得來自各光電二極管102、104的2分割的受光部A和B、及受光部C和D的信號的差分，就可以檢測出受光面102a、104a上反射光束的位置變化。由此，構(gòu)成將受光面102a、104a作為檢測面位置的位置檢測器。
如上述，受光面102a、104a的分割線，雖然希望調(diào)整為與各光束的入射面垂直，但也可以有少許傾斜。但傾斜的容許范圍必須限制在如下的范圍內(nèi)，即對應(yīng)光束的移動、例如受光部A和B之間的受光量的差值發(fā)生足夠的變化的范圍。此外圖1A和1B中，受光面102a、104a雖然表示成和光束垂直，但即使傾斜配置，也可以得到適當(dāng)?shù)男盘枴?br> 參考圖2A、2B說明在上述配置中來自第1和第2光源101、103的光束的光路、因基板盤片105表面的位移及傾斜而在第1和第2光電二極管102、104的受光面上發(fā)生變化的狀態(tài)。
圖2A中表示基板盤片表面105a分別位于用實線表示的基準(zhǔn)位置和用虛線表示的發(fā)生位移的位置時的狀態(tài)。面108、109分別對應(yīng)圖1B中的受光面102a、104a。從第1和第2光源101、103來的光束被基板盤片表面105a反射后的光路變化，用鏡面108、109上的位置來表示。
關(guān)于從第1光源101來的光束入射到基板盤片表面105a上并被反射至鏡面108上的光路、和在同一入射面內(nèi)從第2光源103來的光束入射到基板盤片表面105a上并被反射至鏡面109上的光路，用實線表示基板盤片表面105a位于基準(zhǔn)位置時的情況。并且，用虛線表示基板盤片表面105a位于有位移的位置時的光路。如圖所示，基板盤片表面105a的位移引起的鏡面108、109上的反射光束的位移，與基板盤片表面105a的位移同方向。
圖2B中，表示基板盤片表面105a的狀態(tài)，用實線表示水平狀態(tài)，且用虛線表示有傾斜的狀態(tài)。從傾斜的基板盤片表面105a上反射的光束的光路，用虛線表示。如圖所示，入射到鏡面108、109上的光束的光路都是因傾斜朝與傾斜方向相同的方向旋轉(zhuǎn)。因此，與位移的情況不同，鏡面108、109上的入射位置向相反方向變化。
因此，利用由受光面102a、104a上的反射光束的位置變化得到的檢測信號求出檢測信號的差或和，以便抵消傾斜引起的成分，由此，可以僅提取出基板盤片表面105a的位移引起的成分。而且，所得到的位移引起的成分，被放大成是使用單一的照射檢測系統(tǒng)時的2倍。
從圖1中的受光部A、B、C、D檢測出的信號分別設(shè)為a、b、c、d時，參考圖3A、3B說明旋轉(zhuǎn)基板盤片105時的信號(a-b)、信號(c-d)的變化。
圖3A表示周向上的基板盤片105表面的位移及傾斜的變化。即，表示在旋轉(zhuǎn)基板盤片105時、在固定的測試點觀測的基板盤片105表面的位移和傾斜的大小。位移用相對于基準(zhǔn)位置的高度來表示，傾斜用相對于切線方向中的水平方向的角度來表示，其單位是任意的。圖3B表示對應(yīng)圖3A表示的基板盤片105表面、利用圖1A、1B所示裝置檢測出的各信號。
基板盤片105表面傾斜時，如圖3B所示，其對信號(a-b)和信號(c-d)的影響是極性相反的。另一方面，基板盤片105表面發(fā)生位移時，其對信號(a-b)和信號(c-d)的影響是極性相同的。因此，通過計算信號(a-b)+(c-d)，傾斜引起的成分相互抵消，圖3A中表示的位移引起的成分可以成2倍地測出。
另外，本實施例中，對應(yīng)計算各受光面的信號時的處理方法，各信號成為如圖3B所示的極性。從而，為抵消傾斜引起的成分使用了和信號(a-b)+(c-d)，有時對應(yīng)于信號處理的極性也使用差信號。
另外，關(guān)于本實施例中的位置檢測裝置，代替上述受光面被2分割的光電二極管，例如使用PSD(光位置檢測器positionsensitive detector)等可以檢測光的位置的其它元件，也可以取得同樣的效果。
(實施例2)圖4A和4B分別是表示實施本發(fā)明實施例2中的位移檢測方法的位移檢測裝置概略結(jié)構(gòu)的平面圖和正視圖。
該裝置，包括由使用半導(dǎo)體激光器的第1光源201及受光面被2分割的第1光電二極管202組成的第1照射檢測系統(tǒng)，和由使用半導(dǎo)體激光器的第2光源203及受光面被2分割的第2光電二極管204組成的第2照射檢測系統(tǒng)。第1和第2光源201、203被配置成大致相對，從各光源來的光束入射到基板盤片205的大致相同的位置，反射的光束分別入射到第1和第2光電二極管202、204。為實現(xiàn)該系統(tǒng)，配置第1和第2照射檢測系統(tǒng)時，使各光軸間保持相互夾角。
調(diào)整第1和第2光電二極管202、204的配置，使受光面的分割線與各光束的入射面相垂直。而且，基板盤片205表面處在基準(zhǔn)狀態(tài)時，調(diào)整各反射光束使其均等地跨越在各受光面的分割線上。
與實施例1相同，通過取得從各光電二極管202、204的2分割的各受光部來的信號的差分，檢測出受光面上反射光束的位置變化，就可以構(gòu)成位置檢測裝置。
在如此的配置中，與實施例1相同，通過計算從各受光面得到的信號，就可以測出基板盤片205的表面位移。
另外，本實施例中，第1和第2照射檢測系統(tǒng)的光軸形成的夾角越小，抵消各光電二極管中檢測出的傾斜影響的效果越大。因此，希望該角度盡可能小，設(shè)定為不到90度、最好是45度以下。
(實施例3)本發(fā)明實施例3中信息記錄媒體母盤的記錄裝置的概略結(jié)構(gòu)由圖5表示。
301是被用作記錄用束源的電子槍。電子槍301的下部設(shè)有靜電透鏡302，使電子束聚光及偏轉(zhuǎn)。靜電透鏡302的下部設(shè)有旋轉(zhuǎn)臺303，保持并旋轉(zhuǎn)涂有感光材料的基板盤片(未圖示)。旋轉(zhuǎn)臺303的下部設(shè)有移動旋轉(zhuǎn)臺303的驅(qū)動臂304。在旋轉(zhuǎn)臺303和靜電透鏡302之間，設(shè)有上述實施例中記述的位移檢測裝置305，檢測旋轉(zhuǎn)臺303上搭載的基板盤片表面的位移。旋轉(zhuǎn)臺303、驅(qū)動臂304及位移檢測裝置305，被收容在真空槽306內(nèi)。
該裝置中，對于被作為記錄束的電子束照射的基板盤片上的點即記錄點，位移檢測裝置305被設(shè)定成在與該記錄點大致相同的位置射入位移檢測用的光束。因此，位移檢測裝置305對伴隨旋轉(zhuǎn)臺303的旋轉(zhuǎn)在記錄點上發(fā)生的基板盤片表面的位移進(jìn)行檢測。
根據(jù)位移檢測裝置305檢測出的位移量，通過調(diào)整靜電透鏡302使記錄束的焦點位置發(fā)生變化，由此，將記錄束的焦點控制成總是位于基板盤片表面的記錄點上。
此外，上述裝置中，并不是對基板盤片上的記錄束的聚光狀態(tài)進(jìn)行實際檢測來進(jìn)行反饋控制，而是進(jìn)行根據(jù)基板盤片表面的位置變化來調(diào)節(jié)記錄束的焦點位置的間接控制。因此，位移檢測裝置305輸出的信號和基板盤片表面的實際的位移量的對應(yīng)關(guān)系，及靜電透鏡302的調(diào)整的設(shè)定條件與記錄束的焦點位置的變化的對應(yīng)關(guān)系，必須預(yù)先校正。在下面說明實現(xiàn)該校正的結(jié)構(gòu)。
在保持于旋轉(zhuǎn)臺303上的基板盤片表面的外周部，預(yù)先形成規(guī)定深度的溝槽。掃描該溝槽時位移檢測裝置305的檢測信號的變化量，對應(yīng)于該狀態(tài)下的規(guī)定的溝槽深度、即臺階的高度。因此，根據(jù)臺階的高度和檢測信號的變化量的對應(yīng)關(guān)系，判斷位移檢測裝置305的檢測信號和基板盤片表面的位移量之間的對應(yīng)關(guān)系。根據(jù)該對應(yīng)關(guān)系，校正對位移檢測裝置305測出的檢測信號大小有影響的、施加在靜電透鏡302上的信號的大小。由此，根據(jù)伴隨旋轉(zhuǎn)臺303的旋轉(zhuǎn)而發(fā)生的基板盤片表面的位移，能夠?qū)⒆鳛橛涗浭碾娮邮慕裹c經(jīng)常保持在基板盤片表面上。
為確認(rèn)記錄束的焦點處于基板盤片表面上，在基板盤片表面上形成有格子狀的圖案(聚焦格柵)。利用記錄束掃描含有聚焦格柵的區(qū)域，觀測此時的反射電子圖像或2次電子圖像，就可以確認(rèn)聚光狀態(tài)。該方法是SEM(掃描電子顯微鏡)等領(lǐng)域中常用的技術(shù)。并且，在基板盤片表面配置聚苯乙烯膠乳球等標(biāo)準(zhǔn)試料，也可得到確認(rèn)該圖像的同樣效果。
此外，作為其它方法，也可以利用在基板盤片以外的、與基板盤片表面同樣高度或規(guī)定高度的位置上配置網(wǎng)格的結(jié)構(gòu)。利用由記錄束掃描該網(wǎng)格時的反射電子圖像或2次電子圖像，進(jìn)行記錄束的焦點調(diào)整。此外，根據(jù)記錄束掃描時被網(wǎng)格遮斷的電流量和掃描距離，測定記錄束的直徑，并調(diào)整靜電透鏡302使束徑減少，由此，可以進(jìn)行記錄束的焦點調(diào)整。
位移檢測裝置305使光束入射到基板盤片表面上的位置和記錄束生成的記錄點一致，例如可采用以下方法。當(dāng)在上述溝槽產(chǎn)生的臺階或聚焦格柵等圖案的位置上、對準(zhǔn)由位移檢測裝置305控制的光束照射位置時，因光的散射等原因，反射光的強度變?nèi)?。因此，通過預(yù)先檢測出反射光的強度變化，可以基于反射光的強度，使由位移檢測裝置305控制的光束照射位置與臺階部分或聚焦格柵的位置相一致。同樣地，根據(jù)記錄束掃描時的反射電子圖像或2次電子圖像，可以使記錄束的照射位置與臺階部或聚焦格柵的位置相一致。結(jié)果，可使光束的照射位置與記錄束的照射位置相一致。此時，利用2次電子圖像時，有望更容易地獲得清晰的圖像。
此時，使來自位移檢測裝置305的光束通過的方向，希望設(shè)定為與旋轉(zhuǎn)臺303的半徑方向相垂直的方向、即切線方向?；灞P片表面有彎曲時，表面的傾斜隨記錄半徑發(fā)生變化，但是，當(dāng)在切線方向通過光束時，因該傾斜產(chǎn)生的反射光束的方向變化，成為與向受光面的入射位置的分割線相平行的移動。其結(jié)果，可以消除對各受光面上檢測到的檢測信號的影響。
來自位移檢測裝置305的光束的照射位置，也不必一定與上述記錄點一致。例如在旋轉(zhuǎn)臺303上，可以將光束的照射位置設(shè)定在與記錄點同半徑但周向位置不同的點上。此時，需要算出光束的照射位置與記錄點之間的時間上的延遲，把位移檢測裝置305測出的位移量同時間上的延遲對應(yīng)起來，適用于靜電透鏡302的調(diào)整中。
此外，為了在基板盤片表面上維持記錄束的焦點位置，也可以采用調(diào)整靜電透鏡302來改變記錄束的焦點位置之外的方法。例如，可以設(shè)置動態(tài)地改變被保持在旋轉(zhuǎn)臺303上的基板盤片表面的高度的機構(gòu)，按照位移檢測裝置305測出的位移量調(diào)整基板盤片表面的高度。
此外，也可以在與上述2分割的分割線垂直的方向上對受光面進(jìn)行再分割而成為4分割，以此檢測反射光束的位置，可同時檢測出與記錄半徑對應(yīng)的表面的傾斜量。
發(fā)明效果使用本發(fā)明的位移檢測方法，依據(jù)來自測定對象表面的反射光束的光路變化來檢測測定對象表面的位移時，可以不受測定對象表面的傾斜的影響而檢測出表面的位移。因此，例如在制作光盤的母盤時，即使在難以實現(xiàn)記錄束用的鏡頭中同時通過位移檢測用的光束的場合下，也可以恰當(dāng)?shù)販y出基板盤片表面的位移。
將本發(fā)明的位移檢測裝置安裝到信息記錄媒體母盤的記錄裝置上，通過根據(jù)位移檢測裝置的輸出進(jìn)行記錄束的焦點位置的控制，可保證記錄束的焦點經(jīng)常保持在基板盤片的表面上。
權(quán)利要求
1.一種位移檢測方法，使光束在所述測定對象表面上反射，根據(jù)所述測定對象表面的位移引起的反射光束的光路的變化，檢測出所述測定對象表面的位移，其特征在于，將至少兩束光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到所述測定對象表面上的同一位置，其反射光束入射規(guī)定的各檢測面的位置由位置檢測器檢測出，并作為位置檢測信號分別輸出，通過求出所述各位置檢測信號的差或和，檢測出所述測定對象表面的位移，以便抵消包含在所述各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分。
2.如權(quán)利要求1所述的位移檢測方法，其特征在于，作為所述位置檢測器，使用具有至少被2分割的受光面的光強度檢測元件，所述反射光束入射到所述受光面的分割線上，根據(jù)所述2分割的受光面產(chǎn)生的各檢測信號的差分，檢測出所述反射光束的位置。
3.一種位移檢測裝置，使光束在所述測定對象表面上反射，根據(jù)所述測定對象表面的位移引起的反射光束的光路的變化，檢測出所述測定對象表面的位移，其特征在于，包括多個光源，向所述測定對象表面入射所述光束；位置檢測器，分別檢測由所述測定對象表面反射的所述光束在規(guī)定的檢測面上入射位置，并作為位置檢測信號輸出；以及信號處理單元，輸入所述位置檢測信號，并且，配置所述各光源，使所述光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到所述測定對象表面上的同一位置，所述信號處理單元，通過求出所述各位置檢測信號的差或和，檢測出所述測定對象表面的位移，以便抵消包含在所述各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分。
4.如權(quán)利要求3所述的位移檢測裝置，其特征在于，作為所述位置檢測器，使用具有至少被2分割的受光面的光強度檢測元件，所述反射光束入射到所述受光面的分割線上，根據(jù)所述2分割的受光面產(chǎn)生的各檢測信號的差分，檢測出所述反射光束的位置。
5.一種位移檢測裝置的校正方法，其特征在于，所述位移檢測裝置中，包括多個光源，向所述測定對象表面入射所述光束；位置檢測器，分別檢測由所述測定對象表面反射的所述光束在規(guī)定的檢測面上入射位置，并作為位置檢測信號輸出；以及信號處理單元，輸入所述位置檢測信號；并且，配置所述各光源，使所述光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到所述測定對象表面上的同一位置；所述信號處理單元，通過求出所述各位置檢測信號的差或和，檢測出所述測定對象表面的位移，以便抵消包含在所述各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分；在所述測定對象表面設(shè)有規(guī)定的臺階，通過由所述光束掃描所述臺階來進(jìn)行所述位移檢測裝置的位移檢測，根據(jù)此時檢測出的位移信號和所述臺階的對應(yīng)關(guān)系，進(jìn)行所述位移檢測裝置的校正。
6.一種信息記錄媒體母盤的記錄裝置，包括旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，保持具有記錄材料層的基板盤片并使其旋轉(zhuǎn)；位移檢測裝置，檢測所述基板盤片表面的位移；以及照射裝置，根據(jù)應(yīng)記錄信息將記錄束照射到所述基板盤片上，并且，根據(jù)所述位移檢測裝置檢測出的位移量進(jìn)行控制，使所述記錄束聚光在所述基板盤片表面上，其特征在于，設(shè)有如權(quán)利要求3或4記載的所述位移檢測裝置，根據(jù)檢測出的所述位移量改變所述記錄束的焦點位置。
7.如權(quán)利要求6所述的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，其特征在于，所述記錄束是電子束。
8.如權(quán)利要求6所述的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，其特征在于，在裝載設(shè)有規(guī)定臺階的所述基板盤片的狀態(tài)下，根據(jù)由所述位移檢測裝置掃描所述段差時從所述位移檢測裝置輸出的檢測信號，檢測出所述檢測信號和所述基板盤片表面的位移的對應(yīng)關(guān)系，并根據(jù)所述對應(yīng)關(guān)系修正所述照射裝置產(chǎn)生的所述記錄束的焦點位置的變化量。
9.如權(quán)利要求7所述的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，其特征在于，設(shè)有檢測所述記錄束照射所述基板盤片時的2次電子的2次電子檢測器，在裝載有表面上形成用于調(diào)整所述記錄束的焦點的圖案的所述基板盤片的狀態(tài)下，利用所述2次電子檢測器檢測出用所述記錄束掃描包含所述圖案的區(qū)域時的2次電子圖像，由此可進(jìn)行所述記錄束的焦點調(diào)整。
10.如權(quán)利要求9所述的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，其特征在于，利用所述基板盤片上形成的圖案進(jìn)行所述記錄束的焦點調(diào)整的同時，通過使依靠位移檢測裝置的光束照射位置和所述圖案的位置一致，可以調(diào)整成所述光束照射位置與所述記錄束的照射位置一致。
11.如權(quán)利要求7所述的信息記錄媒體母盤的記錄裝置，其特征在于，在所述基板盤片的裝載位置附近設(shè)有形成了圖案的圖案形成部，所述圖案用于調(diào)整所述記錄束的焦點，在利用所述圖案形成部的圖案進(jìn)行所述記錄束的焦點調(diào)整的同時，通過使依靠位移檢測裝置的光束照射位置和所述圖案的位置一致，可以調(diào)整成所述光束照射位置與所述記錄束的照射位置一致。
12.一種用于制作信息記錄媒體母盤的基板盤片，在基板上形成通過記錄束的照射進(jìn)行記錄的感光材料層，其特征在于，在形成有所述感光材料層的表面上，形成用于調(diào)整所述記錄束的焦點的圖案。
全文摘要
將兩束光束從相互對置側(cè)的斜上方入射到測定對象(105)表面的同一位置，反射光束入射規(guī)定的各檢測面的位置由位置檢測器(102、104)檢測出，并作為位置檢測信號分別輸出。通過求出各位置檢測信號的差或和，檢測出測定對象表面的位移，以便抵消包含在各位置檢測信號中且表示相對基準(zhǔn)位置的變化的成分中的、相互反向的成分。
文檔編號H01J37/304GK1539074SQ02815429
公開日2004年10月20日 申請日期2002年8月7日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月8日
發(fā)明者阿部伸也 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社