專利名稱：真空蒸鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空蒸鍍裝置，其在真空氣氛中使從蒸發(fā)源放出的蒸發(fā)物質(zhì)堆積在被處理件(工件)表面上，從而涂敷保護(hù)膜。
背景技術(shù)：
電弧離子鍍(AIP)法是真空蒸鍍法的一種，是指在真空腔室內(nèi)設(shè)置蒸發(fā)源，使其作為陰極，在與陽極之間產(chǎn)生真空電弧放電，使陰極材料從蒸發(fā)源蒸發(fā)，將其堆積在收納于真空腔室內(nèi)的工件的表面上，從而在工件的表面上包覆了保護(hù)膜。
作為實(shí)施該AIP法的真空蒸鍍裝置，在例如日本專利第3195492號(hào)公報(bào)中記載了以下裝置，其具有真空腔室、設(shè)于該真空腔室內(nèi)的桿狀蒸發(fā)源、工件支承機(jī)構(gòu)，該工件支承機(jī)構(gòu)對以包圍該桿狀蒸發(fā)源的方式配置的工件進(jìn)行支承。前述真空腔室包括搭載了前述工件支承機(jī)構(gòu)的下蓋、固定了前述桿狀蒸發(fā)源的腔室主體，前述下蓋相對于前述主體升降自如地設(shè)置。
在該裝置中，為了回收處理完畢的工件，使下蓋從腔室主體下降至不產(chǎn)生干涉的位置，在此處使工件支承機(jī)構(gòu)從下蓋水平移動(dòng)到回收區(qū)域，在該區(qū)域進(jìn)行回收。又，為了供給未處理的工件，在回收后的工件支承機(jī)構(gòu)上安裝了未處理的工件后，將工件支承機(jī)構(gòu)移動(dòng)到下蓋之上，使下蓋上升并與腔室主體氣密地連結(jié)，由此供給到真空腔室內(nèi)。
又，在公報(bào)中，記載有以下的真空蒸鍍裝置作為其它的裝置形式具有真空腔室、在該真空腔室的內(nèi)外升降自如地設(shè)置的桿狀蒸發(fā)源、工件支承機(jī)構(gòu)，該工件支承機(jī)構(gòu)對以包圍該桿狀蒸發(fā)源的方式配置的工件進(jìn)行支承；在前述真空腔室上設(shè)有開口部，所述開口部通過開閉門而氣密地開閉自如。在該裝置中，前述蒸發(fā)源上升退避至真空腔室外之后，能夠?qū)⒋钶d了前述工件的工件支承機(jī)構(gòu)穿過前述開口部，從而在真空腔室的內(nèi)外移動(dòng)。
在該裝置中，為了回收處理完畢的工件，在使前述蒸發(fā)源上升退避至真空腔室外之后，打開開閉門，使工件支承機(jī)構(gòu)從前述開口部向真空腔室外水平移動(dòng)，在腔室外進(jìn)行回收。又，為了供給未處理的工件，在回收后的工件支承機(jī)構(gòu)上安裝了未處理的工件之后，將其向真空腔室內(nèi)移動(dòng)并收容于腔室內(nèi)，關(guān)閉開閉門，從而供給到真空腔室內(nèi)。
在前述任一種類型的真空蒸鍍裝置中，前述工件支承機(jī)構(gòu)通常都具有載置工件并使其旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，用來均勻地涂敷工件的外周面，通過設(shè)于真空腔室的下蓋一側(cè)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)來驅(qū)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)臺(tái)使其旋轉(zhuǎn)。
在使前述下蓋升降的類型的真空蒸鍍裝置中，為了使搭載了工件支承機(jī)構(gòu)的下蓋升降，而需要較大的升降裝置，且需要大的升降空間。進(jìn)而，因?yàn)樾枰构ぜС袡C(jī)構(gòu)能夠從下蓋移動(dòng)，并且每次回收·供給工件時(shí)都需要連動(dòng)地連結(jié)設(shè)于下蓋一側(cè)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)及前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)，所以裝置的構(gòu)造變得復(fù)雜。
另一方面，在使蒸發(fā)源升降的類型的真空蒸鍍裝置中，雖然不需要前述真空蒸鍍裝置那樣的大升降裝置及升降空間，但是仍然需要使工件支承機(jī)構(gòu)在真空腔室的內(nèi)外移動(dòng)，所以裝置的構(gòu)造變得復(fù)雜。
又，在任一種類型的真空蒸鍍裝置中，因?yàn)樵谶M(jìn)行真空腔室的內(nèi)表面的清洗或?qū)υO(shè)于真空腔室內(nèi)的陽極等各種部件進(jìn)行維護(hù)時(shí)都受到作業(yè)空間的限制，所以作業(yè)性差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于相關(guān)問題而作出，其目的在于提供一種真空蒸鍍裝置，無需升降下蓋以及使支承工件的工件支承機(jī)構(gòu)從真空腔室出入，且容易對附設(shè)于真空腔室的內(nèi)表面或其內(nèi)的陽極等的各種部件進(jìn)行維護(hù)。
本發(fā)明涉及的真空蒸鍍裝置在工件的表面上蒸鍍從蒸發(fā)源蒸發(fā)的物質(zhì)，從而形成保護(hù)膜，包括真空腔室，前述真空腔室具有固定腔室部以及相對于前述固定腔室部連結(jié)分離自如地設(shè)置的移動(dòng)腔室部；桿狀的蒸發(fā)源，其安裝在前述固定腔室部上，前述蒸發(fā)源設(shè)置為在前述真空腔室的內(nèi)外移動(dòng)自如；工件支承機(jī)構(gòu)，其安裝在前述移動(dòng)腔室部上，支承相對于移動(dòng)到前述真空腔室內(nèi)的前述蒸發(fā)源而配置成包圍前述蒸發(fā)源的前述工件；水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在前述蒸發(fā)源移動(dòng)并退避到前述真空腔室外的狀態(tài)下，使前述移動(dòng)腔室部相對于前述固定腔室部連結(jié)分離自如地水平移動(dòng)。
根據(jù)前述真空蒸鍍裝置，因?yàn)樵谡婵照翦兲幚砗?，在使前述蒸發(fā)源移動(dòng)并退避到前述真空腔室外之后，通過水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)能使具有工件支承機(jī)構(gòu)的移動(dòng)腔室部從固定腔室部分離，并且水平移動(dòng)到退避位置，所以無需將工件支承機(jī)構(gòu)從真空腔室另外取出，在退避位置上，從與固定腔室部分離了的移動(dòng)腔室部的大的分割開口部，可以直接從工件支承機(jī)構(gòu)上取出處理完畢的工件以及供給未處理的工件，作業(yè)性優(yōu)良。
在前述真空蒸鍍裝置中，能夠設(shè)置2組以上由前述移動(dòng)腔室部及前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)所構(gòu)成的組。由此，能夠交替地使用移動(dòng)腔室部來進(jìn)行真空蒸鍍處理，能夠提高生產(chǎn)性。
又，在前述真空蒸鍍裝置中，作為前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠設(shè)置水平旋轉(zhuǎn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)或者水平直線移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述水平旋轉(zhuǎn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使前述移動(dòng)腔室部以旋轉(zhuǎn)軸為中心旋轉(zhuǎn)，并在水平方向上移動(dòng)；所述水平直線移動(dòng)機(jī)構(gòu)使前述移動(dòng)腔室部沿水平方向直線地移動(dòng)。進(jìn)而，在設(shè)置2組以上由移動(dòng)腔室部及前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)所構(gòu)成的組的情況下，能夠并用地設(shè)置前述水平旋轉(zhuǎn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)及水平直線移動(dòng)機(jī)構(gòu)。通過設(shè)置所述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)或直線運(yùn)動(dòng)，能夠容易地進(jìn)行移動(dòng)腔室部與固定腔室部的連結(jié)、分離、以及向退避位置的水平移動(dòng)。
又，可做成以下形式前述真空腔室整體上具有筒狀的軀干部、閉塞該軀干部的上部開口及下部開口的上蓋及下蓋，前述固定腔室部包括上蓋固定部，所述上蓋固定部在前述上蓋中包括穿過真空腔室的中心線的中心部，前述移動(dòng)腔室部包括下蓋移動(dòng)部，所述下蓋移動(dòng)部在下蓋中包括穿過真空腔室的中心線的中心部，前述固定腔室部與移動(dòng)腔室部由穿過前述軀干部的中央部的分割面分割。
通過這樣地做成分割面穿過軀干部的中央部的形式，能夠在固定腔室部、移動(dòng)腔室部上容易地形成大的分割開口部。又，因?yàn)樵诠潭ㄇ皇也?、移?dòng)腔室部上具有穿過真空腔室的中心線的中心部的上蓋固定部和下蓋移動(dòng)部，所以能夠在前述上蓋的中心部上形成蒸發(fā)源的出入口，又，能夠在下蓋的中心部上設(shè)置前述工件支承機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)軸，在其附近附設(shè)有一直與前述旋轉(zhuǎn)軸連動(dòng)地連結(jié)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的安裝構(gòu)造、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)變得簡單，能夠做成整體平衡且穩(wěn)定的裝置結(jié)構(gòu)。
在前述真空蒸鍍裝置中，作為前述工件支承機(jī)構(gòu)，能夠使用具有旋轉(zhuǎn)臺(tái)與多個(gè)工件保持件的支承機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)以前述蒸發(fā)源的中心線為旋轉(zhuǎn)中心；所述工件保持件分別可旋轉(zhuǎn)地直立設(shè)置在該旋轉(zhuǎn)臺(tái)的外周上部。又，能夠在前述移動(dòng)腔室部上設(shè)置遮護(hù)板，所述遮護(hù)板用于抑制從前述蒸發(fā)源蒸發(fā)的物質(zhì)附著在前述真空腔室的內(nèi)表面上。進(jìn)而，在AIP用真空蒸鍍裝置的情況下，能夠在前述移動(dòng)腔室部上設(shè)置在與前述蒸發(fā)源之間產(chǎn)生電弧放電的陽極板。通過預(yù)先在移動(dòng)腔室部上設(shè)置陽極板及遮護(hù)板等的部件，能夠在退避位置上容易地從前述分割開口部進(jìn)行這些部件的維護(hù)或各腔室部的內(nèi)表面的清洗，所以維護(hù)性也優(yōu)良。


圖1是第1實(shí)施方式涉及的AIP用真空蒸鍍裝置的整體俯視圖，表示使用第2移動(dòng)腔室部進(jìn)行真空蒸鍍處理的過程。
圖2是該真空蒸鍍裝置的主要部分剖面(圖1的A-A線剖視圖)。
圖3是表示使用該真空蒸鍍裝置中的第1移動(dòng)腔室部進(jìn)行真空蒸鍍處理的過程的俯視圖。
圖4是第2實(shí)施方式涉及的AIP用真空蒸鍍裝置的整體俯視圖。
圖5是第3實(shí)施方式涉及的AIP用真空蒸鍍裝置的整體俯視圖。
圖6是表示種種分割形式的真空腔室的側(cè)視示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖來說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1～圖3是按使用順序表示第1實(shí)施方式涉及的AIP用真空蒸鍍裝置的圖，首先，以圖1及圖2所示的使用狀態(tài)為基礎(chǔ)來說明本裝置的構(gòu)成。
該裝置備有真空腔室1；桿狀的蒸發(fā)源2，沿著該真空腔室1的中心線而在腔室內(nèi)外升降自如地設(shè)置；工件支承機(jī)構(gòu)3，對相對于配置在前述真空腔室1內(nèi)的前述蒸發(fā)源2以包圍該蒸發(fā)源2的方式同心狀配置的工件進(jìn)行支承。
前述真空腔室1由以下部件構(gòu)成設(shè)置在框架4上的固定腔室部6、相對于前述固定腔室部6而連結(jié)分離自如地設(shè)置的2組移動(dòng)腔室部7A、7B。為了便于說明，根據(jù)需要而將圖1的上側(cè)的移動(dòng)腔室部稱為第1移動(dòng)腔室部7A，將下側(cè)的移動(dòng)腔室部稱為第2移動(dòng)腔室部7B，在不需要對兩者加以區(qū)別時(shí)就僅稱為移動(dòng)腔室部7。在后述的其它實(shí)施方式中也是這樣。
相對于前述固定腔室部6的正表面，在橫向(圖的上下方向)的左右，支柱9A、9B可轉(zhuǎn)動(dòng)地直立設(shè)置在框架4、4上。各支柱9A、9B經(jīng)由支承臂10A、10B而支承著第1、第2移動(dòng)腔室部7A、7B，起到作為各移動(dòng)腔室部7A、7B的旋轉(zhuǎn)軸的作用。各支柱9A、9B通過省略了圖示的流體壓力缸或馬達(dá)等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而能夠旋轉(zhuǎn)，通過各支柱9A、9B的轉(zhuǎn)動(dòng)而使第1、第2移動(dòng)腔室部7A、7B相對于固定腔室部6可分別自如地連結(jié)分離，并且，在水平方向上旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，使得在與固定腔室部6的連結(jié)位置與退避位置之間自如地接近·離開。另外，前述支柱9A、9B與未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)等一起構(gòu)成水平旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
在前述固定腔室部6上連結(jié)了任一個(gè)的移動(dòng)腔室部7(在圖1中為第2腔室部7B)的狀態(tài)下，前述真空腔室1整體上由以下部件構(gòu)成筒狀軀干部51、閉塞該軀干部51的上部開口及下部開口的上蓋52及下蓋53。前述真空腔室1含有在前述上蓋52中劃分上蓋固定部52F與上蓋移動(dòng)部52M的劃分線，所述上蓋固定部52F包含穿過真空腔室1的中心線的中心部，所述上蓋移動(dòng)部52M是該上蓋固定部52F之外的其它區(qū)域；前述真空腔室1還含有在前述下蓋53中劃分下蓋移動(dòng)部53M與下蓋固定部53F的劃分線，所述下蓋移動(dòng)部53M包含穿過前述中心線的中心部，所述下蓋固定部53F是該下蓋移動(dòng)部53M之外的其它區(qū)域；具有利用前述軀干部51的中心線(真空腔室1的中心線)以及在該軀干部51內(nèi)交叉的分割面DP而分割成2部分的形式。在前述上蓋52的中心部形成有使前述蒸發(fā)源2升降的出入口。前述固定腔室部6由前述上蓋固定部52F、下蓋固定部53F、以及將其相連的軀干部51的軀干部固定部51F構(gòu)成，前述移動(dòng)腔室部7由前述上蓋移動(dòng)部52M、下蓋移動(dòng)部53M、將其相連的軀干部51的軀干部移動(dòng)部51M構(gòu)成。在前述固定腔室部6與移動(dòng)腔室部7的分割部上附設(shè)有凸緣11、12，所述凸緣11、12具有用于確保氣密性的密封件。
在前述固定腔室部6上附設(shè)有用于使蒸發(fā)源2在真空腔室1的內(nèi)外升降的升降組件14。該升降組件14包括升降導(dǎo)向件15、沿著該升降導(dǎo)向件15而移動(dòng)自如地設(shè)置的滑塊16、用于使該滑塊16沿著升降導(dǎo)向件15升降的絲杠17、使該絲杠17正反旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18。在前述滑塊16的下部安裝蒸發(fā)源2、并且將蒸發(fā)源2配置在真空腔室1內(nèi)時(shí)，設(shè)有閉塞板19，其開設(shè)于上蓋52(上蓋固定部52F)，用于氣密地閉塞蒸發(fā)源2的出入口。通過前述升降組件14，前述蒸發(fā)源2在真空腔室1內(nèi)的處理位置與真空腔室1外的退避位置之間升降。前述升降組件14不一定非得附設(shè)在固定腔室部6上，例如可以附設(shè)在框架4上。另外，在圖1中省略了前述升降組件14的圖示。
在前述移動(dòng)腔室部7上附設(shè)有前述工件支承機(jī)構(gòu)3。該工件支承機(jī)構(gòu)3包括可圍繞真空腔室1的中心線旋轉(zhuǎn)地被支承的旋轉(zhuǎn)臺(tái)22、等間隔地立設(shè)在該旋轉(zhuǎn)臺(tái)22的外周部上的柱狀的工件保持件23。前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)22通過氣密且旋轉(zhuǎn)自如地設(shè)于中心部的轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24而被支承，所述中心部穿過前述下蓋53(下蓋移動(dòng)部53M)的真空腔室1的中心線。在前述下蓋移動(dòng)部53M的下方附設(shè)有驅(qū)動(dòng)馬達(dá)25，其輸出軸與前述轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24連動(dòng)地連結(jié)。另外，在前述工件保持件23上重合地保持有多個(gè)環(huán)狀的工件W。
前述工件保持件23旋轉(zhuǎn)自如地支承在前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)22上，在其下部設(shè)置自轉(zhuǎn)用齒輪27，該齒輪27與經(jīng)由支承臺(tái)而安裝在下蓋移動(dòng)部53M上的環(huán)形齒輪28(在圖1中省略了其記載)嚙合。因此，若旋轉(zhuǎn)臺(tái)22旋轉(zhuǎn)，則工件保持件23以轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24為中心進(jìn)行公轉(zhuǎn)，并且通過自轉(zhuǎn)用齒輪27的旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行自轉(zhuǎn)。由此，保持于工件保持件23上的工件W的外周面被均勻地涂敷蒸發(fā)物質(zhì)。
又，在前述轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24上設(shè)有用于水冷卻旋轉(zhuǎn)臺(tái)22及前述工件保持件23的冷卻水供給排出管30，經(jīng)由旋轉(zhuǎn)接頭31，冷卻水被供給、排出。從前述旋轉(zhuǎn)接頭31的供給口32供給的冷卻水流經(jīng)冷卻水供給排出管30、轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24、設(shè)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)22及工件保持件23的內(nèi)部的冷卻流路，從而再次回到冷卻水供給排出管30，從旋轉(zhuǎn)接頭31的排出口33向外部排出。
又，在前述移動(dòng)腔室部7的下蓋移動(dòng)部53M上安裝有遮護(hù)板35(在圖1中省略了其記載)，以使包圍立設(shè)于前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)22上的工件保持件23的列周圍。通過該遮護(hù)板35，在進(jìn)行真空蒸鍍時(shí)，能夠防止以下問題從蒸發(fā)源2放射的蒸發(fā)物質(zhì)穿過保持于工件保持件23上的工件W的間隙而堆積在真空腔室1的內(nèi)表面上。雖然不一定非得設(shè)置前述遮護(hù)板35，但是通過設(shè)置遮護(hù)板35，能夠防止真空腔室1的內(nèi)表面被蒸發(fā)物質(zhì)所污染，減輕其去除作業(yè)，提高維護(hù)性。
又，在將蒸發(fā)源2配置在真空腔室1內(nèi)時(shí)，在前述工件保持件23的列的內(nèi)側(cè)、且包圍前述蒸發(fā)源2的外側(cè)的陽極板36(在圖1中省略了其記載)安裝在上蓋移動(dòng)部52M上。不一定必須需要前述陽極板36，而可以將連結(jié)固定腔室部6與移動(dòng)腔室部7并使之一體化的真空腔室1本身作為陽極。本來，象本實(shí)施方式這樣，工件W存在于真空腔室1與蒸發(fā)源2之間的情況下，通過設(shè)置陽極板36而顯著提高電弧的放電穩(wěn)定性。又，在圖例中，工件加熱用的加熱器37安裝在上蓋移動(dòng)部52M上，以使加熱部配置在保持于前述工件保持件23上的工件W與遮護(hù)板35之間。雖然由于蒸鍍處理而在該加熱器37上也堆積了蒸鍍物質(zhì)，但通過預(yù)先將其設(shè)置在移動(dòng)腔室部7上，而提高加熱器7的維護(hù)性。
在此，對于上述第1實(shí)施方式涉及的真空蒸鍍裝置的使用例進(jìn)行說明。
首先，如圖1所示，將任一方的移動(dòng)腔室部(在圖1中為第2移動(dòng)腔室部7B)連結(jié)在固定腔室部6上來構(gòu)成真空腔室1，使用升降組件14使得蒸發(fā)源2從真空腔室外的退避位置下降到真空腔室內(nèi)的處理位置，使真空腔室1的內(nèi)部成為真空，從而進(jìn)行真空蒸鍍處理。在真空蒸鍍處理結(jié)束后，使蒸發(fā)源2上升并保持于退避位置后，如圖3所示，使用水平旋轉(zhuǎn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使第2移動(dòng)腔室部7B從固定腔室部6分離，使支柱9B旋轉(zhuǎn)并旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)到退避位置。在退避位置上，從第2移動(dòng)腔室部7B的分割開口部回收保持于工件保持件23上的處理完畢的工件W，并且安裝未處理的工件。又，根據(jù)需要，進(jìn)行附設(shè)于第2移動(dòng)腔室部7B上的陽極板36及遮護(hù)板35的清掃及更換等的作業(yè)。另一方面，在第2移動(dòng)腔室部7B從固定腔室部6移動(dòng)到退避位置后，并且已搭載了未處理的工件，在退避位置使用水平旋轉(zhuǎn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)將待機(jī)中第1移動(dòng)腔室部7A旋轉(zhuǎn)移動(dòng)到固定腔室部6一側(cè)，如圖3所示，與固定腔室部6氣密地連結(jié)，通過該第1移動(dòng)腔室部7A與固定腔室部6來構(gòu)成真空腔室1，下降蒸發(fā)源2來進(jìn)行真空蒸鍍處理。以后，同樣地交替使用第2移動(dòng)腔室部7B與第1移動(dòng)腔室部7A來進(jìn)行真空蒸鍍處理。又，通過使第1移動(dòng)腔室部7A與第2移動(dòng)腔室部7B一起旋轉(zhuǎn)移動(dòng)到退避位置，在固定腔室部6的前表面上形成大的作業(yè)空間，能夠進(jìn)行固定腔室部6的清掃、維護(hù)等。
這樣，因?yàn)樵谝苿?dòng)腔室部7上附設(shè)有工件支承機(jī)構(gòu)3來進(jìn)行工件的供給·取出，附設(shè)有陽極板36及遮護(hù)板35來在真空蒸鍍處理后進(jìn)行維護(hù)，所以在真空蒸鍍處理結(jié)束后，使移動(dòng)腔室部7從固定腔室部6分離并旋轉(zhuǎn)移動(dòng)到退避位置，由此，在該位置，能夠容易地從移動(dòng)腔室部7的開口較大的分割開口部以安裝著或取下規(guī)定的部件地狀態(tài)進(jìn)行各種作業(yè)。
又，因?yàn)樵谝苿?dòng)腔室部7上附設(shè)有工件支承機(jī)構(gòu)3，所以在一直連動(dòng)地連結(jié)著旋轉(zhuǎn)臺(tái)22與含有其驅(qū)動(dòng)馬達(dá)25的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的狀態(tài)下能夠水平地移動(dòng)，不需要在每次回收、供給工件時(shí)都得切離或連結(jié)旋轉(zhuǎn)臺(tái)22與其驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠使旋轉(zhuǎn)臺(tái)22的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)簡化。又，能夠使冷卻水通過冷卻水供給排出管30而從轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸24向旋轉(zhuǎn)臺(tái)22等送出及從其回收，由此進(jìn)行旋轉(zhuǎn)臺(tái)22等的冷卻。因此，能夠容易地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)臺(tái)22或工件保持件23的冷卻，甚至于工件W的冷卻。
又，在上述實(shí)施方式中，因?yàn)樵O(shè)有2組的移動(dòng)腔室部7A、7B，所以在將一個(gè)移動(dòng)腔室部(在圖1中為第2腔室部7B)連結(jié)到固定腔室部6上并進(jìn)行真空蒸鍍處理期間，另一個(gè)移動(dòng)腔室部(在圖1中為第1腔室部7A)能夠在退避位置進(jìn)行所需的作業(yè)，能夠事先準(zhǔn)備好下一次的真空蒸鍍處理。因此，能夠交替地將2組的移動(dòng)腔室部7A、7B連結(jié)到固定腔室部6上加以使用，生產(chǎn)性優(yōu)良。
以下，雖然對于其它實(shí)施方式進(jìn)行說明，但是對與前述第1實(shí)施方式相同的構(gòu)成標(biāo)注相同的標(biāo)記，省略其說明，以不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明。
圖4表示第2實(shí)施方式涉及的AIP用真空蒸鍍裝置的整體配置，該裝置與第1實(shí)施方式同樣地，備有相對于固定腔室部6而左右地旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的2組第1、第2移動(dòng)腔室部7A、7B，還在其正表面上設(shè)有自如地接近離開地水平直線移動(dòng)的第3移動(dòng)腔室部7C。該第3移動(dòng)腔室部7C利用由導(dǎo)引導(dǎo)向件或流體壓力缸等構(gòu)成的水平直線移動(dòng)機(jī)構(gòu)(省略圖示)，能夠在與固定腔室部6的連結(jié)位置與退避位置之間水平移動(dòng)。
在該實(shí)施方式中，因?yàn)樵O(shè)有3組移動(dòng)腔室部，所以能夠依次使用各移動(dòng)腔室部7A、7B、7C來進(jìn)行真空蒸鍍處理。又，能夠交替地使用任意2組的移動(dòng)腔室部來進(jìn)行真空蒸鍍處理，將剩余的1組作為后備，用于定期檢查或需要長時(shí)間的維護(hù)中。
圖5表示第3實(shí)施方式的AIP用真空蒸鍍裝置的整體配置，在該裝置中，也相對于一個(gè)固定腔室部6而具有3組移動(dòng)腔室部7A、7B、7C。各移動(dòng)腔室部通過移動(dòng)臺(tái)車等的水平直線移動(dòng)機(jī)構(gòu)而在第3退避位置P3與第1、第2退避位置P1、P2之間水平自如地移動(dòng)，所述第3退避位置P3設(shè)定在相對于固定腔室部6的連結(jié)面成直角方向(連結(jié)分離方向)的后方，所述第1、第2退避位置P1、P2相對于前述連結(jié)分離方向而設(shè)定在右橫方向、左橫方向上。
在該實(shí)施方式中，首先使在第3退避位置P3等待的第3移動(dòng)腔室部7C水平直線移動(dòng)到固定腔室部6一側(cè)，與固定腔室部6連結(jié)，進(jìn)行真空蒸鍍處理。在真空蒸鍍處理后，使該移動(dòng)腔室部7C后退至第3退避位置P3，使退避在第1退避位置P1并搭載了未處理工件的第1移動(dòng)腔室部7A經(jīng)由交叉點(diǎn)C而水平移動(dòng)到固定腔室部6一側(cè)，與固定腔室部6連結(jié)，進(jìn)行真空蒸鍍處理。另一方面，后退到第3退避位置P3的第3移動(dòng)腔室部7C，在該位置進(jìn)行處理完畢的工件的回收、未處理工件的供給、適當(dāng)?shù)木S護(hù)。若使用了第1移動(dòng)腔室部7A的真空蒸鍍處理結(jié)束，則使第1移動(dòng)腔室部7A移動(dòng)到第1退避位置P1，在那里進(jìn)行處理完畢的工件的回收等。另一方面，使退避在第2退避位置P2并搭載了未處理工件的第2移動(dòng)腔室部7B經(jīng)由交叉點(diǎn)C而與固定腔室部6連結(jié)，進(jìn)行真空蒸鍍處理。這樣，能夠依次使用第1、第2、第3移動(dòng)腔室部7A、7B、7C來進(jìn)行真空蒸鍍處理。又，也能夠使任一組的移動(dòng)腔室部(例如7C)保持在退避位置(P3)不動(dòng)，交替地使用其它2組的移動(dòng)腔室部來進(jìn)行真空蒸鍍處理。
在上述第3實(shí)施形式中，盡管移動(dòng)腔室部7為3組，但通過設(shè)定適當(dāng)?shù)耐吮芪恢茫部梢詾?組以上。此外，也可以是上述第1實(shí)施方式的裝置與第4實(shí)施方式的裝置的組合裝置。
在前述各實(shí)施方式中，固定腔室部6與移動(dòng)腔室部7通過從上蓋52斜向遍及下蓋53的分割面而將真空腔室1的軀干部51分割，但分割面相對于真空腔室1的取法不限于上述的例子。作為分割方式，如圖6(1)～(5)所示，固定腔室部6包括在上蓋中具有穿過真空腔室1的中心線的中心部的上蓋固定部52F，移動(dòng)腔室部7包括在下蓋中具有穿過真空腔室1的中心線的中心部的下蓋移動(dòng)部53M，能夠采用由穿過真空腔室1的軀干部51的中央部的分割面來進(jìn)行分割的各種方式。
即，圖6(1)是上述實(shí)施方式的分割方式的例子，該圖(2)是通過從軀干部的上端到下端將軀干部整體斜向切斷的分割面DP來進(jìn)行分割的例子，該圖(3)是通過從軀干部的上端到中央部沿垂直方向切斷、并在中央部斜向切斷、并從中央部到下端沿垂直方向切斷的分割面DP來進(jìn)行分割的例子，該圖(4)是通過從軀干部的上端到中央部沿垂直方向切斷、并在中央部橫向切斷、進(jìn)而朝向下端沿垂直方向切斷的彎曲狀的分割面DP來進(jìn)行分割的例子，該圖(5)是通過從軀干部的上端到下部沿垂直方向切斷、并在下部沿橫向切斷軀干部的分割面DP進(jìn)行分割的例子。
因?yàn)樵谌我环N情況下，分割面都通過軀干部51的中央部，所以能夠形成大的分割開口部。進(jìn)而，因?yàn)樵诠潭ㄇ皇也?上具有包括穿過真空腔室1的中心線的中心部的上蓋固定部52F，所以能夠在前述中央部上形成蒸發(fā)源的出入口，還能夠附設(shè)使蒸發(fā)源升降的升降組件。又，因?yàn)樵谝苿?dòng)腔室部7上也具有包括穿過前述中心線的中心部的下蓋移動(dòng)部53M，所以能夠在下蓋的中心部上貫通地設(shè)置旋轉(zhuǎn)臺(tái)的轉(zhuǎn)臺(tái)支承軸，并且附設(shè)其旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部。固定腔室部6與移動(dòng)腔室部7的連結(jié)部(分割開口緣部)其分割方式為在將移動(dòng)腔室部7連結(jié)在固定腔室部6上之際以全部的部分進(jìn)行對接(在圖6中為(1)～(3))，由此，具有可容易地確保連結(jié)部的氣密性的優(yōu)點(diǎn)。又，固定腔室部6與移動(dòng)腔室部7的分割方式不限于圖6所示，例如雖然能夠以多個(gè)部分來構(gòu)成移動(dòng)腔室部7，但是因?yàn)闃?gòu)造變得復(fù)雜的同時(shí)還必須確保各部分之間的氣密性，所以真空腔室1的分割方式優(yōu)選地為2分割。
在上述實(shí)施方式中，雖然使用了使移動(dòng)腔室部沿水平方向移動(dòng)的水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)，但是其移動(dòng)方向?yàn)榇笾滤郊纯?。在此所說的水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)中，使移動(dòng)腔室部沿著從水平方向稍稍傾斜的方向移動(dòng)也沒關(guān)系。
雖然上述實(shí)施方式是AIP用真空蒸鍍裝置的例子，但是本發(fā)明不限于AIP用，能夠適用于由從蒸發(fā)源放出的蒸發(fā)物質(zhì)來在工件的表面上形成保護(hù)膜的表面處理裝置，例如適用于濺鍍用真空蒸鍍裝置。
本發(fā)明適用于以下真空蒸鍍裝置在真空氣氛中使從蒸發(fā)源放出的蒸發(fā)物質(zhì)堆積在工件上，從而涂敷保護(hù)膜，例如適用于電弧離子鍍裝置或?yàn)R鍍裝置。
權(quán)利要求
1.一種真空蒸鍍裝置，在工件的表面上蒸鍍從蒸發(fā)源蒸發(fā)的物質(zhì)，從而形成保護(hù)膜，包括真空腔室，前述真空腔室具有固定腔室部以及相對于前述固定腔室部連結(jié)分離自如地設(shè)置的移動(dòng)腔室部；桿狀的蒸發(fā)源，安裝在前述固定腔室部上，前述蒸發(fā)源設(shè)置為在前述真空腔室的內(nèi)外移動(dòng)自如；工件支承機(jī)構(gòu)，安裝在前述移動(dòng)腔室部上，前述工件支承機(jī)構(gòu)支承相對于移動(dòng)到前述真空腔室內(nèi)的前述蒸發(fā)源而配置成包圍前述蒸發(fā)源的前述工件；及水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在前述蒸發(fā)源移動(dòng)并退避到前述真空腔室外的狀態(tài)下，使前述移動(dòng)腔室部相對于前述固定腔室部連結(jié)分離自如地水平移動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，設(shè)有2組以上由前述移動(dòng)腔室部及前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)所構(gòu)成的組。
3.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)使前述移動(dòng)腔室部以旋轉(zhuǎn)軸為中心旋轉(zhuǎn)，并使之在水平方向上移動(dòng)。
4.如權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，在前述2組以上的組的至少1組中，前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)使前述移動(dòng)腔室部以旋轉(zhuǎn)軸為中心旋轉(zhuǎn)，并使之在水平方向上移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述水平移動(dòng)機(jī)構(gòu)使前述移動(dòng)腔室部沿水平方向直線地移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述真空腔室整體上具有筒狀的軀干部、閉塞該軀干部的上部開口及下部開口的上蓋及下蓋，前述固定腔室部包括上蓋固定部，所述上蓋固定部在前述上蓋中包括穿過真空腔室的中心線的中心部，前述移動(dòng)腔室部包括下蓋移動(dòng)部，所述下蓋移動(dòng)部在下蓋中包括穿過真空腔室的中心線的中心部，前述固定腔室部與移動(dòng)腔室部由穿過前述軀干部的中央部的分割面分割。
7.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述工件支承機(jī)構(gòu)具有旋轉(zhuǎn)臺(tái)與多個(gè)工件保持件，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)以前述蒸發(fā)源的中心線為旋轉(zhuǎn)中心；所述工件保持件分別可旋轉(zhuǎn)地直立設(shè)置在前述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的外周上部上。
8.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述移動(dòng)腔室部備有遮護(hù)板，所述遮護(hù)板用于防止從前述蒸發(fā)源蒸發(fā)的物質(zhì)附著在前述真空腔室的內(nèi)表面上。
9.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述移動(dòng)腔室部備有陽極板，所述陽極板用于在與前述蒸發(fā)源之間產(chǎn)生電弧放電。
10.如權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，前述移動(dòng)腔室部備有加熱工件用的加熱器。
全文摘要
本發(fā)明涉及的真空蒸鍍裝置包括真空腔室，在該真空腔室的內(nèi)外升降自如地設(shè)置的桿狀的蒸發(fā)源，工件支承機(jī)構(gòu)，其支承相對于下降到前述真空腔室內(nèi)的前述蒸發(fā)源而配置成包圍該蒸發(fā)源的工件(W)。前述真空腔室具有固定腔室部以及移動(dòng)腔室部，所述移動(dòng)腔室部相對于前述固定腔室部連結(jié)分離自如地設(shè)置并且安裝了前述工件支承機(jī)構(gòu)。在前述蒸發(fā)源上升并退避到前述真空腔室外的狀態(tài)下，任一方的移動(dòng)腔室部相對于前述固定腔室部水平移動(dòng)并連結(jié)，進(jìn)行真空蒸鍍處理。通過這樣的構(gòu)成，無需升降下蓋并使工件支承機(jī)構(gòu)從真空腔室出入，就能夠進(jìn)行真空蒸鍍裝置的維護(hù)。
文檔編號(hào)H01J37/32GK1576388SQ20041006371
公開日2005年2月9日 申請日期2004年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月7日
發(fā)明者下島克彥, 藤井博文, 河口博 申請人:株式會(huì)社神戶制鋼所