專利名稱：等離子顯示板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子顯示板及其制造方法，尤其涉及一種利用膠印技術(shù)將電極形成在基板上的等離子顯示板及其制造方法。
背景技術(shù)：
通常，等離子顯示板(PDP)是一種利用等離子放電來(lái)顯示圖像的顯示裝置。當(dāng)向排列在PDP的放電空間內(nèi)的電極施加電壓時(shí)，會(huì)在電極間發(fā)生等離子放電并同時(shí)產(chǎn)生真空紫外線(VUV)。紫外線激發(fā)呈預(yù)定圖案的磷光體，從而顯示預(yù)期的圖像。
PDP大致分為AC、DC、和混合型PDP。對(duì)于AC型PDP來(lái)說(shuō)，地址電極以特定方向形成在后基板上，并且介電層形成在后基板的整個(gè)表面上同時(shí)覆蓋地址電極。阻擋肋以條狀圖案形成在介電層上從而使每個(gè)阻擋肋設(shè)置在相鄰的地址電極之間，并且紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)磷光層形成在相鄰的阻擋肋之間。
放電維持電極形成在面對(duì)后基板的前基板的表面與地址電極的方向交叉的方向上。放電維持電極具有一對(duì)由氧化銦錫(ITO)形成的透明電極，以及由金屬材料形成的總線電極。介電層和MgO保護(hù)層順序形成在前基板的整個(gè)表面上同時(shí)覆蓋放電維持電極。
形成在后基板上的地址電極和形成在前基板上的放電維持電極互相交叉，并且其交叉區(qū)域形成放電單元。
將尋址電壓施加在地址電極和放電維持電極之間以發(fā)生尋址放電，并且將維持電壓施加在一對(duì)放電維持電極之間以發(fā)生維持放電。此時(shí)，產(chǎn)生真空紫外線，它們激發(fā)相應(yīng)的磷光體通過(guò)透明前基板發(fā)射可見(jiàn)光，由此顯示預(yù)期的圖像。
對(duì)于上述結(jié)構(gòu)的PDP，總線電極通過(guò)光刻形成。在光刻工藝中，將感光銀(Ag)漿料以預(yù)定厚度涂敷到后基板的整個(gè)表面上，并且通過(guò)干躁、曝光和顯影步驟構(gòu)圖感光銀漿料；或者將感光銀(Ag)帶(photosensitivesilver tape)附著到后基板的整個(gè)表面，并且通過(guò)曝光和顯影步驟構(gòu)圖感光銀帶。
具體而言，總線電極具有黑、白雙層結(jié)構(gòu)以提高對(duì)比度。為了達(dá)到這個(gè)目的，將黑色漿料和白色漿料順序涂敷在后基板的整個(gè)表面，并同時(shí)將其曝光?；诤谏珴{料的黑色電極層由傳導(dǎo)性材料形成。
當(dāng)總線電極以上述方式形成時(shí)，它具有恒定的厚度。然而，在總線電極的兩側(cè)邊易于形成邊緣卷曲(隨著電極的焙烤(firing)，其邊緣變尖)。當(dāng)在總線電極上形成介電層時(shí)，邊緣卷曲使介電形成材料淀積在總線電極的側(cè)邊，從而在這些地方產(chǎn)生氣泡。這種伴隨著氣泡產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)容易破壞總線電極的耐電壓性。因此，總線電極區(qū)域的放電單元會(huì)在其放電狀態(tài)出現(xiàn)不正常。
同時(shí)，黑條(black stripe)形成在前基板上其非放電區(qū)域處以提高對(duì)比度。黑條可以與總線電極一起形成，或者可在形成總線電極后單獨(dú)形成。
當(dāng)黑條和總線電極用同樣的材料一起形成時(shí)，黑條與總線電極一樣是導(dǎo)電的。因此，當(dāng)將黑條形成在整個(gè)非放電區(qū)域中時(shí)，用于彼此靠近設(shè)置的放電單元的相鄰放電維持電極就容易短路。此外，因?yàn)楹跅l包含導(dǎo)電材料，所以其密度削弱，限制了對(duì)比度的提高。
另一方面，當(dāng)黑條在形成總線電極之后單獨(dú)形成時(shí)，必須在執(zhí)行用于形成總線電極的印刷、干燥、曝光、顯影和焙烤的步驟之后重復(fù)用于形成黑條的印刷、干燥、曝光、顯影和焙烤步驟。這涉及復(fù)雜的處理步驟和大量的時(shí)間消耗，因此，該方法不適合批量生產(chǎn)工藝。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種PDP的制造方法，在該方法中利用膠印技術(shù)形成電極以減少電極材料消耗，并且形成細(xì)密且精確的電極圖案。
本發(fā)明的另一目的是提供一種PDP的制造方法，在該方法中利用膠印技術(shù)將非導(dǎo)電黑色層形成在非放電區(qū)域中并將總線電極形成在前基板上從而用簡(jiǎn)化的方式提高對(duì)比度。
本發(fā)明的又一目的是提供一種具有改進(jìn)的電極結(jié)構(gòu)和增強(qiáng)的對(duì)比度的PDP。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，PDP包括彼此面對(duì)的第一基板和第二基板，以及在第二基板上平行形成的地址電極。阻擋肋設(shè)置在第一和第二基板之間以限定多個(gè)放電單元，磷光層形成在每個(gè)放電單元內(nèi)部。PDP還包括放電維持電極，該放電維持電極具有形成在第一基板上與地址電極交叉的方向上的透明電極，以及形成在透明電極上同時(shí)在平行于透明電極方向的方向上延伸的總線電極。用非導(dǎo)電不透色層(nonconductive opaque-coloredlayer)填充于地址電極的方向上彼此相鄰設(shè)置的放電單元的相鄰?fù)该麟姌O之間的間隙。
總線電極和非導(dǎo)電不透色層在其厚度方向是具有預(yù)定曲率的凸面形狀。
非導(dǎo)電不透色層與透明電極部分地重疊?？偩€電極位于靠近非導(dǎo)電不透色層的位置，并且非導(dǎo)電不透色層可以與總線電極和透明電極部分地重疊?？偩€電極設(shè)置在透明電極和非導(dǎo)電不透色層上。
總線電極具有位于透明電極上的寬度方向的中心同時(shí)與透明電極電連接，并具有位于非導(dǎo)電不透色層上的外圍?？偩€電極具有垂直于其縱向方向截取的橢圓形橫截面。
總線電極可具有圍繞形成于透明電極上的其寬度方向中心的一個(gè)側(cè)面部分和一相對(duì)側(cè)面部分，所述相對(duì)側(cè)面部分與和透明電極一邊的非導(dǎo)電不透色層的外圍重疊。
非導(dǎo)電不透色層覆蓋總線電極。
非導(dǎo)電不透色層是基于黑色的，總線電極用基于白色的電極材料形成。
對(duì)于PDP的制造方法，將多個(gè)具有預(yù)定圖案的透明電極形成在第一基板上使得所述透明電極彼此平行延伸。用非導(dǎo)電不透色漿料填充具有預(yù)定圖案的凹版槽(gravure groove)。將非導(dǎo)電不透色漿料從凹版槽轉(zhuǎn)印到印刷用氈。將非導(dǎo)電不透色漿料從印刷用氈轉(zhuǎn)錄到第一基板上使得所述漿料對(duì)準(zhǔn)相鄰?fù)该麟姌O之間的非放電區(qū)域。用總線電極漿料填充具有預(yù)定總線電極圖案的凹版槽。將總線電極漿料從凹版槽轉(zhuǎn)印到印刷用氈。將總線電極漿料從印刷用氈轉(zhuǎn)錄到形成在第一基板上的透明電極上。將形成在第一基板上的非導(dǎo)電不透色漿料圖案和總線電極漿料圖案干燥并焙烤。將介電層形成在第一電極上使得該介電層覆蓋透明電極、總線電極和非導(dǎo)電不透色層。將第二基板與第一基板對(duì)準(zhǔn)使得第一和第二基板彼此面對(duì)，并且在第一和第二基板之間注入放電氣體。然后將所述基板相互密封。
用非導(dǎo)電不透色漿料填充與非放電區(qū)域相對(duì)應(yīng)的第一基板上相鄰?fù)该麟姌O之間的間隙。所涂敷的非導(dǎo)電不透色漿料與透明電極的外圍重疊。
總線電極漿料與非導(dǎo)電不透色漿料重疊。總線電極漿料可以完全覆蓋非導(dǎo)電不透色漿料。
總線電極漿料可以與非導(dǎo)電不透色漿料的外圍部分地重疊，并且與透明電極部分地重疊。
可以將總線電極漿料形成在透明電極上使得總線電極漿料設(shè)置為靠近與透明電極部分重疊的非導(dǎo)電不透色漿料的外圍。
可將總線電極形成在透明電極上，并且非導(dǎo)電不透色漿料覆蓋形成在透明電極上的總線電極。
非導(dǎo)電不透色漿料是基于黑色的，并且總線電極漿料用基于白色的電極材料形成。


通過(guò)結(jié)合附圖參考以下詳細(xì)描述，對(duì)本發(fā)明更全面的理解以及本發(fā)明的許多優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見(jiàn)，附圖中用相同的附圖標(biāo)記表示相同或相似的部分，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的PDP的局部分解透視圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的圖1的PDP的截面圖，其表示了在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案的結(jié)構(gòu)；圖3A-3E順序描述了利用膠印技術(shù)的電極印刷步驟；圖4示意性地表示在影印版(gravure plate)上形成凹槽、用漿料填充凹槽和將其轉(zhuǎn)錄到玻璃基板上的步驟；圖5示意性地表示在影印輥(gravure roll)上形成凹槽、用漿料填充凹槽和將其轉(zhuǎn)錄到玻璃基板上的步驟；圖6是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的PDP的截面圖，其表示了在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案的結(jié)構(gòu)；圖7是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的PDP的截面圖，其表示了在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案的結(jié)構(gòu)；圖8是根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的PDP的截面圖，其中在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案；圖9是一種AC型PDP的分解透視圖；以及圖10表示通過(guò)光刻將總線電極和黑條形成在前基板上的PDP的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式
下面將參考附圖更充分地描述本發(fā)明，附圖中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的PDP的局部分解透視圖，圖2是PDP的截面圖，表示了其中在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案的PDP的結(jié)構(gòu)。
如圖所示，PDP包括以預(yù)定距離彼此隔開同時(shí)彼此面對(duì)的第一和第二基板10和20，以及排列在第一基板10和第二基板20之間以限定多個(gè)放電單元27的阻擋肋25，在放電單元中發(fā)生等離子放電。放電維持電極12、13和12’形成在第一基板10上，地址電極21形成在第二基板20上。紅(R)、藍(lán)(B)、綠(G)磷光體涂敷在放電單元27的內(nèi)表面上以形成磷光層29。
更具體而言，多個(gè)地址電極21以某一方向(圖中的Y軸方向)形成在與第一基板10面對(duì)的第二基板20的表面上。地址電極21以預(yù)定距離彼此隔開同時(shí)彼此平行延伸。介電層23形成在第二基板20上同時(shí)覆蓋地址電極21。
多個(gè)放電維持電極12、13和12’沿著與地址電極21交叉的方向(圖1中的X軸方向)形成在第一基板10上同時(shí)彼此平行延伸，其中一對(duì)放電維持電極彼此面對(duì)的放電單元形成一個(gè)像素。一對(duì)放電維持電極12和13用作X電極(共用電極)和Y電極(掃描電極)，并且放電維持電極12、13和12’還分別包括透明電極12a、13a和12’a以及總線電極12b、13b和12’b。透明電極12a、13a和12’a可以形成為條形，或者可以以突起形狀分別形成在各個(gè)放電單元27處。
同時(shí)，總線電極12b、13b和12’b分別形成在透明電極12a、13a和12’a上同時(shí)與其平行地延伸，并且從寬度方向的中心向其一個(gè)側(cè)部偏離。更具體地，在一對(duì)透明電極12a和13a對(duì)應(yīng)地形成一放電單元的區(qū)域，總線電極12b和13b排列在各個(gè)透明電極12a和13a上使得它們位于透明電極的相對(duì)側(cè)部，并且彼此相隔。總線電極12b、13b和12’b用銀(Ag)電極材料形成并且是白色的?？偩€電極補(bǔ)償用于透明電極12a、13a和12’a的ITO電極的高電阻從而減小在放電維持電極上的電壓降。
非導(dǎo)電黑色層15形成在相鄰?fù)该麟姌O13a和12’a之間的區(qū)域，透明電極13a和12’a位于在地址電極的方向(圖中的Y軸方向)上彼此相鄰的不同放電單元內(nèi)，與非放電區(qū)域(下文簡(jiǎn)稱‘非放電區(qū)’)相對(duì)應(yīng)。非導(dǎo)電黑色層15與透明電極12a、13a和12’a重疊。也就是說(shuō)，黑色層15占據(jù)了所有非放電區(qū)，并且與非放電區(qū)旁邊的部分透明電極部分地重疊。
總線電極12b、13b和12’b設(shè)置在透明電極12a、13a和12’a以及非導(dǎo)電黑色層15上。也就是說(shuō)，總線電極的寬度方向的中心位于透明電極12a、13a和12’a上同時(shí)與其電連接，總線電極的外圍在非導(dǎo)電黑色層15上。為了達(dá)到這個(gè)目的，使總線電極12b、13b和12’b具有垂直于其縱向方向得到的橢圓形截面?？偩€電極可以通過(guò)膠印技術(shù)形成。
因?yàn)榉菍?dǎo)電黑色層15用非導(dǎo)電材料形成以提高對(duì)比度，其包含足夠的不透明度。因此，黑色層15可以形成在整個(gè)非放電區(qū)中，而在相鄰的放電維持電極之間不產(chǎn)生短路，由此發(fā)揮了可靠的對(duì)比度提高效果。
現(xiàn)在將參考圖3-5解釋利用膠印技術(shù)在PDP的基板上形成電極的方法。
圖3A-3E順序地表示采用膠印技術(shù)的電極印刷步驟。
如圖3A所示，在具有目標(biāo)電極圖案的板31中形成凹槽，并且用電極漿料34填充該凹槽。使用刀片32去除在凹槽板(grooved plate)31上溢出的電極漿料34。
此后，如圖3B和3C所示，將填充在凹槽板31的凹槽內(nèi)的電極漿料34轉(zhuǎn)印到印刷用氈35上。如圖3D和3E所示，然后將電極漿料34從印刷用氈35轉(zhuǎn)錄到玻璃基板37上，之后干燥和焙烤它。
圖4表示在影印版中形成凹槽、用漿料填充凹槽、以及將漿料轉(zhuǎn)錄到玻璃基板上的過(guò)程，圖5表示在影印輥中形成凹槽、用漿料填充凹槽、以及將漿料轉(zhuǎn)錄到玻璃基板上的過(guò)程。
通過(guò)在影印版31或影印輥39中制成凹槽、用漿料填充凹槽、將漿料轉(zhuǎn)印到氈35上、并且將漿料轉(zhuǎn)錄到玻璃基板37上，來(lái)形成總線電極圖案和非導(dǎo)電黑色層圖案。
現(xiàn)將更具體地解釋形成在PDP的基板上形成總線電極和非導(dǎo)電黑色層的膠印技術(shù)。
首先，參考圖2，將具有預(yù)定圖案的多個(gè)透明電極12a、13a和12’a形成在第一基板10上使得它們彼此平行延伸。
此后，用非導(dǎo)電黑色漿料填充具有預(yù)定圖案的凹版槽。凹版槽的圖案是基于預(yù)先形成的透明電極12a、13a和12’a的形狀而形成，使得目標(biāo)層覆蓋非放電區(qū)，同時(shí)與部分透明電極12a、13a和12’a部分地重疊?？梢赃x擇性地將凹版槽形成在影印版31(圖4)或影印輥39上(圖5)。在用漿料填充凹槽后，用刀片32將溢出的漿料去除(圖3A)。
將填充在凹版槽內(nèi)的非導(dǎo)電黑色漿料轉(zhuǎn)印到印刷用氈35上(圖3B和3C)。
然后將非導(dǎo)電黑色漿料從印刷用氈35轉(zhuǎn)錄到第一基板10上(圖2)。此時(shí)，非導(dǎo)電黑色漿料對(duì)準(zhǔn)第一基板10上的非放電區(qū)同時(shí)與透明電極12a、13a和12’a部分地重疊。
在涂敷非導(dǎo)電黑色漿料之后，將總線電極漿料涂敷到基板10上。涂敷總線電極漿料的方法與涂敷非導(dǎo)電黑色漿料的方法類似。
也就是說(shuō)，用總線電極漿料填充具有預(yù)定總線電極圖案的凹版槽。此時(shí)，考慮到預(yù)先形成的透明電極12a、13a和12’a以及非導(dǎo)電黑色層15的形狀，將總線電極12b、13b和12’b形成在透明電極12a、13a和12’a上從而使它們平行于透明電極延伸。
更具體而言，為了形成總線電極12b、13b和12’b，優(yōu)選總線電極漿料完全覆蓋涂敷在第一基板10上的非導(dǎo)電黑色漿料。因?yàn)榉菍?dǎo)電黑色漿料在干燥之前具有某種流動(dòng)性，所以非導(dǎo)電黑色漿料流出到總線電極中心(寬度方向)周圍的側(cè)部，從而使總線電極漿料直接接觸透明電極同時(shí)與其電連接。
凹版槽內(nèi)的總線電極漿料被轉(zhuǎn)印到印刷用氈35上(圖3B和圖3C)，然后從印刷用氈35被轉(zhuǎn)錄到第一基板10上(圖2)。
然后干燥并焙烤非導(dǎo)電黑色漿料圖案和總線電極漿料圖案。將介電層形成在第一基板10上以使其覆蓋透明電極12a、13a和12’a、總線電極和非導(dǎo)電黑色層15，并且將保護(hù)層形成在介電層上，由此完成用于PDP的前基板。當(dāng)利用膠印技術(shù)形成總線電極和非導(dǎo)電黑色層15時(shí)，對(duì)比度提高黑色層和總線電極12b、13b和12’b可以以簡(jiǎn)化的方式形成。因?yàn)椴恍枰箍偩€電極的一部分形成為黑色電極，所以可以保持極佳的電導(dǎo)率。在工藝中的這點(diǎn)上，總線電極或非導(dǎo)電黑色層15是在其厚度方向上具有預(yù)定曲率的凸面形狀。
前基板與通過(guò)單獨(dú)的工藝制造的后基板對(duì)準(zhǔn)使得它們互相面對(duì)，并且將放電氣體注入基板之間。然后將基板彼此密封，由此完成PDP。
用于形成非導(dǎo)電黑色層15的非導(dǎo)電漿料不限于黑色的一種漿料。也可以使用其他能很好地適用于提高對(duì)比度的非導(dǎo)電不透色漿料。此外，白色電極材料、如銀(Ag)，也可以用作形成總線電極的總線電極漿料，但是，也可以為了這一目的而采用不同顏色的材料，只要其具有適當(dāng)?shù)碾妼?dǎo)率。
現(xiàn)將詳細(xì)解釋根據(jù)本發(fā)明第二至第四實(shí)施例的PDP。對(duì)于這些PDP，可以利用膠印技術(shù)來(lái)形成總線電極12b、13b和12’b以及非導(dǎo)電黑色層15。
圖6是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的PDP的截面圖，其表示了其中放電維持電極和黑色圖案一起形成在第一基板上的PDP的結(jié)構(gòu)。
如圖6所示，非導(dǎo)電黑色層45占據(jù)了整個(gè)非放電區(qū)同時(shí)與透明電極42a、43a和42’a部分地重疊。也就是說(shuō)，黑色層45覆蓋非放電區(qū)同時(shí)與非放電區(qū)旁邊的部分透明電極42a、43a和42’a部分地重疊。
總線電極42b、43b和42’b位于透明電極42a、43a和42’a以及非導(dǎo)電黑色層45上，正如在與本發(fā)明第一實(shí)施例相關(guān)的結(jié)構(gòu)中那樣。然而，在本實(shí)施例中，總線電極42b、43b和42’b的一側(cè)位于透明電極42a、43a和42’a上同時(shí)與其電連接，而總線電極42b、43b和42’b的另一側(cè)與非導(dǎo)電黑色層45的外圍重疊，該非導(dǎo)電黑色層45與透明電極42a、43a和42’a部分地重疊。
圖7是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的PDP的截面圖，其表示了放電維持電極和黑色圖案一起形成在第一基板上的PDP的結(jié)構(gòu)。
如圖7所示，非導(dǎo)電黑色層55占據(jù)了整個(gè)非放電區(qū)同時(shí)與透明電極52a、53a和52’a部分地重疊。也就是說(shuō)，黑色層55覆蓋非放電區(qū)并與非放電區(qū)旁邊的部分透明電極52a、53a和52’a部分地重疊。
總線電極52b、53b和52’b設(shè)置在透明電極52a、53a和52’a上同時(shí)與其平行延伸，并且設(shè)置在非導(dǎo)電黑色層55附近，該非導(dǎo)電黑色層與透明電極52a、53a和52’a部分地重疊。
圖8是根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的PDP的截面圖，其表示了在第一基板上形成有放電維持電極和黑色圖案的結(jié)構(gòu)。
如圖8所示，非導(dǎo)電黑色層65占據(jù)整個(gè)非放電區(qū)同時(shí)與透明電極62a、63a和62’a部分地重疊。在該實(shí)施例中，非導(dǎo)電黑色層65覆蓋總線電極62b、63b和62’b。
為了這個(gè)目的，首先將總線電極漿料涂敷到透明電極62a、63a和62’a上，并且將非導(dǎo)電黑色漿料涂敷于其上。
圖9是一種AC型PDP的分解透視圖，圖10表示了其中通過(guò)光刻將總線電極和黑條形成在前基板上的PDP的結(jié)構(gòu)。
如圖9所示，在AC型PDP中，地址電極112形成在后基板110上一特定方向(圖9中的X軸方向)上，介電層113形成在后基板110的整個(gè)表面上同時(shí)覆蓋地址電極112。阻擋肋115以條狀圖案形成在介電層113上使得每個(gè)阻擋肋115位于相鄰的地址電極112之間，并且紅(R)、綠(G)、和藍(lán)色(B)磷光層117形成在相鄰的阻擋肋115之間。
放電維持電極102和103形成在面對(duì)后基板110的前基板100的表面上與地址電極112交叉的方向(圖9的Y軸方向)。放電維持電極102和103分別具有一對(duì)由氧化銦錫(ITO)形成的透明電極102a和103a并分別具有由金屬材料形成的總線電極102b和103b。介電層106和MgO保護(hù)層108順序形成在前基板100的整個(gè)表面上同時(shí)覆蓋放電維持電極102和103。
形成在后基板110上的地址電極112和形成在前基板100上的放電維持電極102和103彼此交叉，其交叉區(qū)域形成放電單元。
將尋址電壓Va施加在地址電極112和放電維持電極102、103之間以產(chǎn)生尋址放電，并且將維持電壓Vs施加在一對(duì)放電維持電極102和103之間以產(chǎn)生維持放電。此時(shí)，產(chǎn)生真空紫外線，并且真空紫外線激發(fā)相應(yīng)的磷光體以通過(guò)透明前基板100發(fā)射可見(jiàn)光，由此顯示預(yù)期的圖像。
對(duì)于上述結(jié)構(gòu)的PDP，總線電極102b和103b通過(guò)光刻形成。在光刻工藝中，感光銀(Ag)漿料被涂敷到后基板110的整個(gè)表面上達(dá)到預(yù)定的厚度，并通過(guò)干燥、曝光和顯影步驟被構(gòu)圖；或者感光銀(Ag)帶附著到后基板110的整個(gè)表面，并通過(guò)曝光和顯影步驟被構(gòu)圖。
具體地，總線電極102b和103b具有黑色和白色的雙層結(jié)構(gòu)以提高對(duì)比度。為了這個(gè)目的，黑色漿料和白色漿料被順序涂敷到后基板110的整個(gè)表面上，并且同時(shí)曝光。基于黑色漿料的黑色電極層用導(dǎo)電材料形成。
當(dāng)總線電極102b和103b按上述方式形成時(shí)，其具有恒定的厚度。然而，如圖10所示，在總線電極102b和103b的橫向兩側(cè)易形成邊緣卷曲(隨著電極的焙烤，其邊緣變尖)。當(dāng)在總線電極102b和103b上形成介電層時(shí)，邊緣卷曲使介電形成材料淀積在總線電極的橫向側(cè)上，這樣就在這些位置產(chǎn)生了氣泡。伴隨氣泡產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)容易使總線電極的耐電壓性變差。因此，在總線電極區(qū)域的放電單元的放電狀態(tài)就出現(xiàn)了不正常。
同時(shí)，如圖10所示，黑條120形成在前基板100的非放電區(qū)域以提高對(duì)比度。可以將黑條120與總線電極102和103一起形成，或者可以在形成總線電極102和103之后單獨(dú)形成。
當(dāng)將黑條120與總線電極102、103用同樣的材料一起形成時(shí)，黑條120就與總線電極102、103一樣是導(dǎo)電的。因此，當(dāng)將黑條120形成在整個(gè)非放電區(qū)域中時(shí)，用于彼此靠近的放電單元的相鄰放電維持電極就容易短路。此外，因?yàn)楹跅l120包含導(dǎo)電材料，所以其密度削弱，限制了對(duì)比度的提高。
如上所述，對(duì)于制造PDP的本發(fā)明的方法，對(duì)比度提高黑色層和總線電極用簡(jiǎn)化的方式形成，而不必用黑色電極部分地形成總線電極，由此保持非常好的電導(dǎo)率。
進(jìn)一步地，對(duì)于本發(fā)明的PDP，使用非導(dǎo)電材料來(lái)提高對(duì)比度，由此得到足夠的強(qiáng)度，并且黑色層形成在整個(gè)非放電區(qū)中而在相鄰的放電維持電極之間沒(méi)有引起短路，這樣就可靠地提高了對(duì)比度。
盡管以上已詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但應(yīng)清楚理解的是，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)基本發(fā)明構(gòu)思的多種變化和/或修改仍將落入由所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的主旨和范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示板，包括彼此面對(duì)的第一基板和第二基板；形成在所述第二基板上并且彼此平行延伸的地址電極；設(shè)置在所述第一和第二基板之間以限定多個(gè)放電單元的阻擋肋；形成在所述各個(gè)放電單元中的每一個(gè)內(nèi)部的磷光層；以及放電維持電極，其包括形成在所述第一基板上與所述地址電極交叉的方向上的透明電極以及形成在所述透明電極上并且平行于所述透明電極延伸的總線電極，其中用非導(dǎo)電不透色層填充在所述地址電極的方向上彼此靠近設(shè)置的所述放電單元的相鄰?fù)该麟姌O之間的間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極是具有預(yù)定曲率的凸面形狀并在其厚度方向上延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層是具有預(yù)定曲率的凸面形狀并在其厚度方向上延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層與所述透明電極部分地重疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子顯示板，其中所述總線電極設(shè)置為靠近所述非導(dǎo)電不透色層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層與所述總線電極和所述透明電極部分地重疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子顯示板，其中所述總線電極設(shè)置在所述透明電極和所述非導(dǎo)電不透色層上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極具有位于所述透明電極中相應(yīng)的一個(gè)透明電極上的寬度方向的中心同時(shí)與所述相應(yīng)的一個(gè)透明電極電連接，并具有位于所述非導(dǎo)電不透色層上的外圍。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極具有垂直于其縱向方向延伸的橢圓形橫截面。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極具有在形成于所述透明電極中對(duì)應(yīng)的一個(gè)透明電極上的其寬度方向的中心附近的一個(gè)側(cè)部，以及與相鄰于所述對(duì)應(yīng)的一個(gè)透明電極的非導(dǎo)電不透色層的外圍重疊的一相對(duì)側(cè)部。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層覆蓋所述總線電極。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層是基于黑色的。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極用基于白色的電極材料形成。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中所述非導(dǎo)電不透色層利用膠印技術(shù)形成。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示板，其中每個(gè)所述總線電極利用膠印技術(shù)形成。
16.一種等離子顯示板的制造方法，該方法包括以下步驟在第一基板上形成多個(gè)具有預(yù)定圖案的透明電極，使得所述透明電極彼此平行延伸；用非導(dǎo)電不透色漿料填充具有預(yù)定圖案的凹版槽；將所述非導(dǎo)電不透色漿料從所述凹版槽轉(zhuǎn)印到印刷用氈上；將所述非導(dǎo)電不透色漿料從所述印刷用氈轉(zhuǎn)錄到所述第一基板上使得所述漿料對(duì)準(zhǔn)相鄰?fù)该麟姌O之間的非放電區(qū)；用總線電極漿料填充具有預(yù)定總線電極圖案的凹版槽；將所述總線電極漿料從所述凹版槽轉(zhuǎn)印到所述印刷用氈上；將所述總線電極漿料從所述印刷用氈轉(zhuǎn)錄到形成在所述第一基板上的所述透明電極上；干燥和焙烤形成在所述第一基板上的非導(dǎo)電不透色漿料圖案和總線電極漿料圖案；在所述第一基板上形成介電層使得該介電層覆蓋所述透明電極、所述總線電極和非導(dǎo)電不透色層；以及將第二基板與所述第一基板對(duì)準(zhǔn)，使得所述第一和第二基板彼此面對(duì)，在所述第一和第二基板之間注入放電氣體，并將所述第一和第二基板彼此密封。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中用所述非導(dǎo)電不透色漿料填充與所述非放電區(qū)相對(duì)應(yīng)的所述第一基板上的相鄰?fù)该麟姌O之間的間隙。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述非導(dǎo)電不透色漿料與所述透明電極的外圍重疊。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述總線電極漿料與所述非導(dǎo)電不透色漿料重疊。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所述總線電極漿料設(shè)置在整個(gè)所述非導(dǎo)電不透色漿料上。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所述總線電極漿料與所述非導(dǎo)電不透色漿料的外圍部分地重疊，并且與所述透明電極部分地重疊。
22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述總線電極漿料形成在所述透明電極上使得所述總線電極漿料設(shè)置為靠近所述非導(dǎo)電不透色漿料的外圍，該非導(dǎo)電不透色漿料與所述透明電極部分地重疊。
23.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述總線電極形成在所述透明電極上，并且所述非導(dǎo)電不透色漿料覆蓋形成在所述透明電極上的所述總線電極。
24.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述非導(dǎo)電不透色漿料是基于黑色的。
25.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述總線電極漿料用基于白色的電極材料形成。
全文摘要
在制造等離子顯示板(PDP)的方法和利用該方法制造的PDP中，利用膠印技術(shù)將電極形成在基板上。此外，在該方法中，用非導(dǎo)電不透色漿料填充具有預(yù)定圖案的凹版槽。將非導(dǎo)電不透色漿料從凹版槽經(jīng)由印刷用氈轉(zhuǎn)錄到第一基板上從而使?jié){料對(duì)準(zhǔn)相鄰?fù)该麟姌O之間的非放電區(qū)。類似地，將總線電極漿料轉(zhuǎn)錄到透明電極上。干燥和焙烤漿料圖案。將介電層形成在圖案上，由此完成前基板。使后基板與前基板對(duì)準(zhǔn)，并且將放電氣體注入基板之間，然后將兩基板彼此密封。
文檔編號(hào)H01J11/34GK1624857SQ200410082060
公開日2005年6月8日 申請(qǐng)日期2004年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月29日
發(fā)明者文喆熙, 吳丞憲, 宋詠和 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社