專利名稱：反射器、輔助鏡、光源裝置及投影機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明，涉及反射器，輔助鏡，光源裝置及投影機(jī)。
背景技術(shù)：
在投影機(jī)中，將從照明光學(xué)系統(tǒng)射出的照明光，采用液晶面板等按照圖像信息(圖像信號)進(jìn)行調(diào)制，再通過將調(diào)制后的光投影到屏幕上而實現(xiàn)圖像顯示。
照明光學(xué)系統(tǒng)，通常，具備包括發(fā)光管，和具有為了將從該發(fā)光管發(fā)出的光向被照明區(qū)域反射的凹面的反射器的光源裝置。還有，作為發(fā)光管，利用高壓水銀燈，金屬鹵化物燈，氙氣燈等。
可是，在上述那樣的光源裝置中，由于進(jìn)行投影機(jī)的高亮度化而發(fā)光管的周圍的溫度上升，產(chǎn)生反射器易碎等各種問題。因此，在例如特公平7-92527號公報中記載的光源裝置中，通過使用耐熱性比較高的結(jié)晶化玻璃作為反射器的材料，可以使熱膨脹降低，解決上述問題。
但是，近年來，因投影機(jī)的更高亮度化的進(jìn)展，具有大于等于200W輸出的發(fā)光管使用起來。因此，在反射器中接近于發(fā)光管的部分的溫度比從前上升(約大于等于400℃)，其結(jié)果，由于長時間使用而產(chǎn)生在該部分的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明，為了解決這樣的問題，目的在于提供即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間使用也不會降低反射率的反射器。
本發(fā)明者，為了達(dá)到上述目的反復(fù)銳意努力的結(jié)果，通過減小反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和在該反射器基體材料的凹面上形成的反射膜中的平均的線膨脹系數(shù)之差，具體來說，通過使反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和上述反射膜中構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于預(yù)定的值，發(fā)現(xiàn)能達(dá)到上述目的，達(dá)到使本發(fā)明完成。
本發(fā)明的反射器，是包括具有大于等于400℃的耐熱溫度的反射器基體材料，和由在該反射器基體材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜，為了使來自發(fā)光管的光向被照明區(qū)域側(cè)反射而用的反射器，其特征在于上述反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差小于等于50×10-7/K。
因此，依照本發(fā)明的反射器，即使在使用具有大于等于400℃的耐熱溫度的反射器基體材料作為反射器基體材料的場合下，因為反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于預(yù)定的值，所以反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和在該反射器基體材料的凹面上形成的反射膜中的平均的線膨脹系數(shù)之差仍然為小。因此，即使采用高輸出的發(fā)光管而反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜的溫度上升，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
還有，作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的低折射率膜的電介質(zhì)材料，能優(yōu)選采用通常用的SiO2。
通過這樣地構(gòu)成，能使反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和在該反射器基體材料的凹面上形成的反射膜中的平均的線膨脹系數(shù)之差小。因此，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的反射器中，優(yōu)選上述反射器基體材料由氧化鋁構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2或者Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為反射器基體材料的氧化鋁的線膨脹系數(shù)(80×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)或者Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的反射器中，優(yōu)選上述反射器基體材料由藍(lán)寶石構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5或者TiO2的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為反射器基體材料的藍(lán)寶石的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)或者TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的反射器中，優(yōu)選上述反射器基體材料由石英玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為反射器基體材料的石英玻璃的線膨脹系數(shù)(5×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的反射器中，優(yōu)選上述反射器基體材料由結(jié)晶化玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為反射器基體材料的結(jié)晶化玻璃的線膨脹系數(shù)(1～15×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
本發(fā)明者，如上述那樣地，通過使反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和上述反射膜中構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于預(yù)定的值，發(fā)現(xiàn)了能提供即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間使用也不會降低反射率的反射器，本發(fā)明者，發(fā)現(xiàn)可以說在投影機(jī)的使用中即使用凹面的溫度高達(dá)600～1000℃的輔助鏡也與此相同。
本發(fā)明的輔助鏡，是包括具有大于等于600℃的耐熱溫度的輔助鏡基體材料，和由在該輔助鏡材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜，為了將從發(fā)光管射出到被照明區(qū)域側(cè)上的光向上述發(fā)光管反射而用的輔助鏡，其特征在于上述輔助鏡基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差小于等于50×10-7/K。
因此，依照本發(fā)明的輔助鏡，即使在使用具有大于等于600℃的耐熱溫度的輔助鏡基體材料作為輔助鏡基體材料的場合下，因為輔助鏡基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于預(yù)定的值，所以輔助鏡基體材料的線膨脹系數(shù)，和在該輔助鏡基體材料的凹面上形成的反射膜中的平均的線膨脹系數(shù)之差仍然為小。因此，即使采用高輸出的發(fā)光管而輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜的溫度上升，這些輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在輔助鏡的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
還有，作為構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的低折射率膜的電介質(zhì)材料，能優(yōu)選采用通常用的SiO2。
通過這樣地構(gòu)成，能使輔助鏡基體材料的線膨脹系數(shù)，和在該輔助鏡基體材料的凹面上形成的反射膜中的平均的線膨脹系數(shù)之差小。因此，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在輔助鏡的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的輔助鏡中，優(yōu)選上述輔助鏡基體材料由氧化鋁構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2或者Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為輔助鏡基體材料的氧化鋁的線膨脹系數(shù)(80×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)或者Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在輔助鏡的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的輔助鏡中，優(yōu)選上述輔助鏡基體材料由藍(lán)寶石構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5或者TiO2的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為輔助鏡基體材料的藍(lán)寶石的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)或者TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在輔助鏡的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的反射其中，優(yōu)選上述輔助鏡基體材料由石英玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
通過這樣地構(gòu)成，作為輔助鏡基體材料的石英玻璃的線膨脹系數(shù)(5×10-7/K)，和作為構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，即使采用高輸出的發(fā)光管，這些輔助鏡基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，也能有效地防止在輔助鏡的反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
本發(fā)明的光源裝置，特征在于具備在上述任何一項中所記載的反射器。另外，本發(fā)明的光源裝置，特征在于具備在上述任何一項中所記載的輔助鏡。
因此，本發(fā)明的光源裝置，如上述那樣地，因為具備即使采用高輸出的發(fā)光管也不降低反射率的反射器，和即使采用高輸出的發(fā)光管也不降低反射率的輔助鏡，所以為適于投影機(jī)的高亮度化的光源裝置。
在本發(fā)明的光源裝置中，優(yōu)選上述輔助鏡的反射膜，具有比上述反射器的反射膜寬的頻帶。
在投影機(jī)的使用中，對應(yīng)于反射器的凹面中溫度約為400～500℃，輔助鏡的凹面中溫度也為600～1000℃。因此，輔助鏡的反射膜，其反射頻帶比反射器的反射膜，移向更短波長。從而，通過預(yù)先將輔助鏡的頻帶設(shè)定得比反射器的頻帶更寬，在投影機(jī)的使用中這些反射膜的頻帶變得近似，提高光利用效率。
本發(fā)明，如上述那樣地，通過使反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和上述反射膜中構(gòu)成電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于預(yù)定的值，發(fā)現(xiàn)了能提供即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間使用也不降低反射率的反射器，本發(fā)明，發(fā)現(xiàn)在這樣的光源裝置中，通過進(jìn)一步設(shè)置以下的散熱結(jié)構(gòu)，可以使發(fā)光管的周圍的溫度降低，能更容易地達(dá)到上述目的。
本發(fā)明的光源裝置，優(yōu)選還進(jìn)一步具備配置在上述反射器的凸面?zhèn)壬希瑹徇B接到上述反射器上的散熱用的構(gòu)件。
因此，依照本發(fā)明的光源裝置，因為能通過散熱用的構(gòu)件將來自反射器的熱散熱到系統(tǒng)外，所以可以使發(fā)光管的周圍的溫度降低。由此，即使采用高輸出的發(fā)光管也能抑制反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜的溫度上升，其結(jié)果這些反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，能更加有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在本發(fā)明的光源裝置中，優(yōu)選上述散熱用的構(gòu)件具有散熱用的風(fēng)扇。
通過這樣地構(gòu)成，能更加有效地將反射器的熱散熱。
本發(fā)明的另外的光源裝置，是具備是包括具有大于等于400℃的耐熱溫度的橢圓面反射器基體材料，和由在該橢圓面反射器基體材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜，上述橢圓面反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差為小于等于50×10-7/K的橢圓面反射器；在該橢圓面反射器的第1焦點附近具有其發(fā)光中心的發(fā)光管；和將來自上述橢圓面反射器的光大致平行化的平行化透鏡的光源裝置，其特征在于還進(jìn)一步具備配置在上述橢圓面反射器的凹面?zhèn)韧庵懿可希瑹徇B接到上述橢圓面反射器上的散熱用的框，在該散熱用的框上安裝上述平行化透鏡。
因此，依照本發(fā)明的光源裝置，因為能通過散熱用的框?qū)E圓面反射器的熱散熱到系統(tǒng)外，所以可以使發(fā)光管的周圍的溫度降低。由此，即使采用高輸出的發(fā)光管也能抑制橢圓面反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜的溫度上升，其結(jié)果這些橢圓面反射器基體材料和電介質(zhì)多層膜之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，能更加有效地防止在反射膜上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
另外，由在該散熱用的框上安裝平行化透鏡，能容易地將平行化透鏡對于橢圓面反射器一體化。
在本發(fā)明的另外的光源裝置中，優(yōu)選上述散熱用的框具有散熱用的風(fēng)扇。
通過這樣地構(gòu)成，能更加有效地將橢圓面反射器的熱散熱。
在本發(fā)明的另外的光源裝置中，優(yōu)選在上述散熱用的框的內(nèi)面上，形成紅外線吸收層。
通過這樣地構(gòu)成，該紅外線吸收層吸收掉對圖像顯示來說不需要的紅外線，能將該吸收熱從散熱用的框散熱到系統(tǒng)外。
在本發(fā)明的另外的光源裝置中，優(yōu)選還進(jìn)一步具備在上述任何一項中所記載的輔助鏡。
通過這樣地構(gòu)成，因為輔助鏡，是即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間使用也不降低反射率的輔助鏡，所以為適于投影機(jī)的高亮度化的光源裝置。
本發(fā)明的投影機(jī)，特征在于具備包括在上述任何一項中所記載的光源裝置的照明光學(xué)系統(tǒng)，將來自該照明光學(xué)系統(tǒng)的光按照圖像信息進(jìn)行調(diào)制的電光調(diào)制裝置，和投影來自該電光調(diào)制裝置的調(diào)制光的投影光學(xué)系統(tǒng)。
因此，本發(fā)明的投影機(jī)，因為光源裝置，是即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間使用也不降低反射率的光源裝置，所以為易于高亮度化的投影機(jī)。


圖1是實施方式1的光源裝置的剖面圖。
圖2是表示實施方式1的光源裝置中的拋物面反射器的透射特性的圖。
圖3是為了說明實施方式1的光源裝置中的拋物面反射器的制造方法的圖。
圖4是實施方式2的光源裝置的剖面圖。
圖5是表示實施方式2的光源裝置中的橢圓面反射器及輔助鏡的透射特性的圖。
圖6是表示實施方式2的光源裝置中的散熱用的構(gòu)件及散熱用的框的平面圖。
圖7是實施方式3的光源裝置的剖面圖。
圖8是表示關(guān)于反射器和輔助鏡，其基體材料和構(gòu)成反射膜的電介質(zhì)多層膜的高折射率的材料的關(guān)系的圖。
圖9是表示實施方式4的投影機(jī)的一例的概略構(gòu)成圖。
具體實施例方式
以下，關(guān)于本發(fā)明適用的反射器、輔助鏡、光源裝置及具備這些的投影機(jī)，基于圖中所示的實施方式而說明。
實施方式1圖1，是本發(fā)明的實施方式1的光源裝置110A的剖面圖。該光源裝置110A，具備作為發(fā)光管的200W的高壓水銀燈10，為了將來自該高壓水銀燈10的光向被照明區(qū)域(未圖示出)側(cè)反射而用的拋物面反射器20A，和安裝在該拋物面反射器20A的開口部上的透光性的前面玻璃30。
高壓水銀燈10，如圖1中所示那樣地，由中央部突出成球狀的石英玻璃管構(gòu)成，具備中央部分的發(fā)光部，和延伸到該發(fā)光部的兩側(cè)的一對密封部。
在發(fā)光管的內(nèi)部，封進(jìn)了離開預(yù)定距離配制的一對鎢制電極，和水銀、稀有氣體、及少量的鹵素。
在延伸到發(fā)光部的兩側(cè)的一對密封部的內(nèi)部，分別送進(jìn)去與發(fā)光部的電極電連接的鉬制金屬箔，用玻璃材料等密封。在各金屬箔上，再連接作為電極引出線的引線，該引線一直延伸到光源裝置110A的外部。
然后，一在引線上加以電壓，就通過金屬箔在電極間產(chǎn)生電位差而產(chǎn)生放電，生成弧像而發(fā)光部發(fā)光。
還有，在發(fā)光部的外周面上，一實施包括氧化鉭膜、氧化鉿膜、氧化鈦膜等的多層膜的防止反射鍍敷，就能降低由于通過那里的光的反射所引起的光損失。
拋物面反射器20A，具有拋物面反射器基體材料22A，和由形成于拋物面反射器基體材料22A的凹面上的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜24A。配置于拋物面反射器20A的內(nèi)部的高壓水銀燈10，配置成使得發(fā)光部內(nèi)的電極間的發(fā)光中心為拋物面反射器20A的焦點附近。
而且，在該光源裝置110A中，來自高壓水銀燈10的光，被拋物面反射器20A中的反射膜24A反射，作為大致平行于照明光軸110Aax的平行光通過前面玻璃30而射出到被照明區(qū)域(+z方向)側(cè)。此時的拋物面反射器20A的高壓水銀燈10附近部分的溫度約為400～500℃。
還有，所謂照明光軸110Ax，是從光源裝置110A射出的照明光束的中心軸。
在光源裝置110A中的拋物面反射器20A中，拋物面反射器基體材料22A由石英玻璃構(gòu)成。另外，反射膜24A，由由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜(40層)構(gòu)成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成。
因此，作為拋物面反射器基體材料22A的石英玻璃的線膨脹系數(shù)(5×10-7/K)，和作為構(gòu)成作為反射膜24A的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為45×10-7/K。其結(jié)果，這些拋物面反射器基體材料22A的線膨脹系數(shù)和反射膜24A中的平均的線膨脹系數(shù)之差為小，即使采用這樣的高輸出的高壓水銀燈10，在拋物面反射器基體材料22A和反射膜24A之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在反射膜24A上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
圖2，是表示光源裝置110A中的拋物面反射器20A的反射膜24A的透射特性(反射率)的圖。如圖2中所示那樣地，可知拋物面反射器20A的反射膜24A，反射對投影機(jī)的圖像顯示來說必需的可見光頻帶的光。
而且，因為石英玻璃很好地透射紫外線頻帶，所以因吸收紫外線引起的發(fā)熱減少，能防止因反射膜24A的裂紋引起的剝離。
圖3，是為了說明光源裝置110A中的拋物面反射器基體材料22A的制造方法的圖。圖3(a)是為了說明拋物面反射器基體材料的一種制造方法(壓力成型法)的圖，圖3(b)是為了說明拋物面反射器基體材料的另一種制造方法(氣壓成型法)的圖。
拋物面反射器基體材料的一種制造方法(壓力成型法)，如圖3(a)中所示地，以將是拋物面反射器基體材料的材料的石英玻璃W，放入到下模ML和上模MU之間的狀態(tài)而進(jìn)行壓力成型。依照該制造方法，通過上模MU的復(fù)制，能比較容易地制造拋物面反射器基體材料。另外，通過采用高精度的上模MU，能制造具有高精度的凹面的高質(zhì)量的拋物面反射器基體材料22A。
拋物面反射器基體材料的另一種制造方法(氣壓成型法)，如圖3(b-1)中所示地，加熱是拋物面反射器基體材料的材料的石英玻璃管T的一部分。其次，如圖3(b-2)中所示地，在放進(jìn)模M之后，包括一邊加以由惰性氣體的內(nèi)壓一邊使管的中心部膨脹，成型為使得內(nèi)面具有預(yù)期的形狀的工序；和在中央部和兩端部切斷該成型的管的工序。依照該制造方法，在成為反射面的內(nèi)側(cè)，因為通常使通過脫出時的模而被良好地控制的石英玻璃的管的內(nèi)面為初始形狀，所以得到良好的反射面而能經(jīng)常維持高的反射率。另外，因為可以一次成型2個所以還可以低成本化。依照該制造方法，因為反射面與金屬模不接觸就能成型，所以能制造具有表面粗糙度小的凹面的高反射率、高質(zhì)量的拋物面反射器基體材料22A。
實施方式2其次，基于

本發(fā)明的實施方式2。
在以下的說明中，對與上述實施方式1同樣的結(jié)構(gòu)及相同構(gòu)件附加相同符號，省略或者簡化其詳細(xì)的說明。
圖4，是本發(fā)明的實施方式2的光源裝置110B的剖面圖。該光源裝置110B，具備作為發(fā)光管的200W的高壓水銀燈10，為了將來自該高壓水銀燈10的光向被照明區(qū)域(未圖示出)側(cè)反射而用的橢圓面反射器20B，為了將從高壓水銀燈10射出到被照明區(qū)域側(cè)的光向高壓水銀燈10反射而用的輔助鏡40B，和將來自橢圓面反射器20B的光大致平行化的平行化透鏡50。
橢圓面反射器20B，具有橢圓面反射器基體材料22B，和由形成于橢圓面反射器基體材料22B的凹面上的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜24B。配置于橢圓面反射器20B的內(nèi)部的高壓水銀燈10，配置成使得發(fā)光部內(nèi)的電極間的發(fā)光中心為橢圓面反射器20B的旋轉(zhuǎn)橢圓面的第1焦點位置的附近。
而且，在該光源裝置110B中，來自高壓水銀燈10的光，被橢圓面反射器20B中的反射膜24B反射而成為聚焦到橢圓面反射器20B的旋轉(zhuǎn)橢圓面的第2焦點位置的聚焦光束，通過平行化透鏡50而成為大致平行于照明光軸110Bax的平行光射出到被照明區(qū)域(+z方向)側(cè)。此時的橢圓面反射器20B的高壓水銀燈10附近部分的溫度約為300～400℃。
還有，所謂照明光軸110Bx，是從光源裝置110B射出的照明光束的中心軸。
輔助鏡40B，具有輔助鏡基體材料42B，和由形成于輔助鏡基體材料42B的凹面上的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜44B。輔助鏡40B，配置成使得輔助鏡40B的焦點為高壓水銀燈10的發(fā)光部內(nèi)的電極間的發(fā)光中心附近。而且，在該光源裝置110B中，從高壓水銀燈10射出到被照明區(qū)域側(cè)上的光，被輔助鏡40B中的反射膜44B向高壓水銀燈10反射，謀求光利用效率的提高。此時的輔助鏡40B的溫度約為600～1000℃。
輔助鏡40B，是夾住高壓水銀燈10的發(fā)光部而與橢圓面反射器20B對向配置的反射元件。通過將輔助鏡40B設(shè)置在高壓水銀燈10的發(fā)光部的被照明區(qū)域側(cè)上，如圖4中所示那樣地，從高壓水銀燈10的發(fā)光部發(fā)出的光束之中的放射到與橢圓面反射器20B相反側(cè)(被照明區(qū)域側(cè))上的光束，被該輔助鏡40B向高壓水銀燈10反射，進(jìn)而透過高壓水銀燈10而入射到橢圓面反射器20B上，與從高壓水銀燈10直接入射到橢圓面反射器20B上的光束同樣地，被橢圓面反射器20B向第2焦點位置反射而成為聚焦的聚焦光束，通過平行化透鏡50而成為大致平行于照明光軸110Bax的平行光射出到被照明區(qū)域(+z方向)側(cè)。
如上述那樣地通過采用這樣的輔助鏡40B，能使從高壓水銀燈10放射到與橢圓面反射器20B相反側(cè)(非照明區(qū)域側(cè))上的光束，與從高壓水銀燈10直接入射到橢圓面反射器20B上的光束同樣地，入射到橢圓面反射器20B上。
現(xiàn)有的未設(shè)置輔助鏡40B的光源裝置，必須僅僅利用橢圓面反射器將從高壓水銀燈10發(fā)出的光束聚焦到第2焦點位置上，必須擴(kuò)大橢圓面反射器的反射面積。
但是通過設(shè)置輔助鏡40B，因為能使從高壓水銀燈10放射到與橢圓面反射器20B相反側(cè)(非照明區(qū)域側(cè))上的光束由輔助鏡40B入射到橢圓面反射器20B上而反射到后方側(cè)，所以即使橢圓面反射器20B的反射面積小，也能使從高壓水銀燈10發(fā)出的光束的幾乎全部聚焦到一定位置上那樣地射出，能使橢圓面反射器20B的照明光軸110Bax方向尺寸及口徑直徑小。即，能使光源裝置110B小型化，將光源裝置110B組入到其他光學(xué)裝置的布局也容易。
另外，通過設(shè)置輔助鏡40B，即使為了減小在橢圓面反射器20B的第2焦點的焦斑直徑而使橢圓面反射器20B的第1焦點和第2焦點靠近，從高壓水銀燈10發(fā)出的光的幾乎全部被橢圓面反射器20B及輔助鏡40B聚焦到第2焦點上而可以利用，能使光的利用效率大幅度提高。因此，可以采用比較低輸出的高壓水銀燈10，還可以謀求光源裝置110B的低溫化。
在光源裝置110B中的橢圓面反射器20B中，橢圓面反射器基體材料22B由透光性氧化鋁構(gòu)成。另外，反射膜24B，由由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2的疊層膜(40層)構(gòu)成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成。
因此，作為橢圓面反射器基體材料22B的透光性氧化鋁的線膨脹系數(shù)(80×10-7/K)，和作為構(gòu)成作為反射膜24B的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)之差為10×10-7/K。其結(jié)果，這些橢圓面反射器基體材料22B的線膨脹系數(shù)和反射膜24B中的平均的線膨脹系數(shù)之差變小，即使采用這樣的高輸出的高壓水銀燈10，在橢圓面反射器基體材料22B和反射膜24B之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在反射膜24B上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在光源裝置110B中的輔助鏡40B中，輔助鏡基體材料42B由透光性氧化鋁構(gòu)成。另外，反射膜44B，由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2的疊層膜(40層)構(gòu)成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成。
因此，作為輔助鏡基體材料42B的透光性氧化鋁的線膨脹系數(shù)(80×10-7/K)，和作為構(gòu)成作為反射膜44B的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的TiO2的線膨脹系數(shù)(90×10-7/K)之差為10×10-7/K。其結(jié)果，這些輔助鏡基體材料42B的線膨脹系數(shù)和反射膜44B中的平均的線膨脹系數(shù)之差變小，即使采用這樣的高輸出的高壓水銀燈10，在輔助鏡基體材料42B和反射膜44B之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在輔助鏡40B的反射膜44B上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
圖5，是表示光源裝置110B中的橢圓面反射器20B的反射膜24B(實線)及輔助鏡40B的反射膜44B(虛線)的透射特性(反射率)的圖。如圖5中所示那樣地，在該光源裝置110B中，輔助鏡40B的反射膜44B，具有比橢圓面反射器20B的反射膜24B寬的頻帶。
在投影機(jī)的使用中，對應(yīng)于橢圓面反射器20B的凹面中的高壓水銀燈10附近部分的溫度約為300～400℃，輔助鏡40B的凹面中的溫度約達(dá)600～1000℃。因此，輔助鏡40B的反射膜44B，其反射頻帶比橢圓面反射器20B的反射膜24B，移向更短波長。從而，如圖5中所示那樣地，通過預(yù)先將輔助鏡40B的反射膜44B的頻帶設(shè)定得比橢圓面反射器20B的反射膜24B的頻帶更寬，在投影機(jī)的使用中這些反射膜24B、44B的頻帶變得近似，提高光利用效率。
實施方式2的光源裝置110B，如圖4及圖6中所示那樣地，在橢圓面反射器20B的凸面?zhèn)鹊拈_口部上，粘接用絕緣子的燈固定體25，在燈固定體25上，連接固定高壓水銀燈10和散熱用的構(gòu)件26B。另外，還具備配置在橢圓面反射器20B的凹面?zhèn)韧庵懿可系纳嵊玫目?8B。圖6，是表示散熱用的構(gòu)件及框的平面圖。這些散熱用的構(gòu)件26B及散熱用的框28B都熱連接到橢圓面反射器20B上。另外，在散熱用的框28B上安裝平行化透鏡50。因為實施方式2的氧化鋁的反射器熱傳導(dǎo)性高，所以橢圓面反射器20B的熱通過用絕緣子的燈固定體25傳到散熱用的構(gòu)件26B上而散熱。
散熱用的構(gòu)件26B及散熱用的框28B，由熱傳導(dǎo)性好的銅構(gòu)成。而且，在散熱用的框28B的內(nèi)面上，形成紅外線吸收層。另外，散熱用的構(gòu)件26B及散熱用的框28B，如圖6中所示那樣地，具有多個散熱風(fēng)扇27B、29B，謀求散熱性的提高。另外，通過氧化處理表面等提高輻射效率。作為散熱用的構(gòu)件26B及散熱用的框28B，也能采用鋁等其他金屬代替銅。另外，也可以用相同的熱傳導(dǎo)性的絕緣子構(gòu)成燈固定體25、散熱用的構(gòu)件26B及散熱風(fēng)扇27B。
因此，依照實施方式2的光源裝置110B，因為能通過散熱用的構(gòu)件26B將橢圓面反射器20B的熱散熱到系統(tǒng)外，所以可以使高壓水銀燈10的周圍的溫度降低。另外，依照實施方式2的光源裝置110B，也可以通過散熱用的框28B將橢圓面反射器20B的熱散熱到系統(tǒng)外。由此，即使采用高輸出的高壓水銀燈10也抑制橢圓面反射器基體材料22B和反射膜24B的溫度上升，其結(jié)果這些橢圓面反射器基體材料22B和反射膜24B之間的應(yīng)力為小于等于預(yù)定的值，能更加有效地防止在反射膜24B上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
另外，依照實施方式2的光源裝置110B，通過在該散熱用的框28B上安裝平行化透鏡50，能容易地將平行化透鏡50對于橢圓面反射器20B一體化。因此，光源裝置110B成為封閉型的燈，在燈破裂的場合下碎片不飛散到外部等，有利于使用性、安全性。
而且，為了增加實施方式2的效果，還能配置冷卻風(fēng)扇，使散熱風(fēng)扇27B、29B及氧化鋁的橢圓面反射器20B的外面全體流過冷卻風(fēng)。另外，用是與反射器相同材料的氧化鋁結(jié)晶體同形狀地構(gòu)成散熱用的構(gòu)件26B、散熱用的框28B及散熱風(fēng)扇27B、29B，還有不吸收紅外線的效果。
實施方式3其次，基于

本發(fā)明的實施方式3。
在以下的說明中，對與上述實施方式1及2同樣的結(jié)構(gòu)及相同構(gòu)件附加相同符號，省略或者簡化其詳細(xì)的說明。
圖7，是本發(fā)明的實施方式3的光源裝置110C的立體圖。該光源裝置110C，具備作為發(fā)光管的200W的高壓水銀燈10，為了將來自該高壓水銀燈10的光向被照明區(qū)域(未圖示出)側(cè)反射而用的拋物面反射器20C，和為了將從高壓水銀燈10射出到被照明區(qū)域側(cè)的光向高壓水銀燈10反射而用的輔助鏡40C。
拋物面反射器20C，具有拋物面反射器基體材料22C，和由形成于拋物面反射器基體材料22C的凹面上的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜24C。配置于拋物面反射器20C的內(nèi)部的高壓水銀燈10，配置成使得發(fā)光部內(nèi)的電極間的發(fā)光中心為拋物面反射器20C焦點附近。而且，在該光源裝置110C中，來自高壓水銀燈10的光，被拋物面反射器20C中的反射膜24C反射而成為大致平行光射出到被照明區(qū)域(+z方向)側(cè)。此時的拋物面反射器20C的高壓水銀燈10附近部分的溫度約為450～550℃。
輔助鏡40C，具有輔助鏡基體材料42C，和由形成于輔助鏡基體材料42C的凹面上的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜44C。輔助鏡42C，配置成使得輔助鏡42C的焦點為高壓水銀燈10的發(fā)光部內(nèi)的電極間的發(fā)光中心附近。而且，在該光源裝置110C中，從高壓水銀燈10射出到被照明區(qū)域側(cè)上的光，被輔助鏡40C中的反射膜44C向拋物面反射器20C，謀求光利用效率的提高。此時的輔助鏡40C的溫度約為600～1000℃。
輔助鏡42C，是夾住高壓水銀燈10的發(fā)光部而與拋物面反射器20C對向配置的反射元件。通過將輔助鏡42C設(shè)置在高壓水銀燈10的發(fā)光部的被照明區(qū)域側(cè)上，如圖7中所示那樣地，從高壓水銀燈10的發(fā)光部發(fā)出的光束之中的放射到與拋物面反射器20C相反側(cè)(被照明區(qū)域側(cè))上的光束，被該輔助鏡40C向高壓水銀燈10反射，進(jìn)而透過高壓水銀燈10而入射到拋物面反射器20C上，與從高壓水銀燈10直接入射到拋物面反射器20C上的光束同樣地，被拋物面反射器20C反射而成大致平行于照明光軸110Cax的平行光射出到被照明區(qū)域(+z方向)側(cè)。
還有，所謂照明光軸110Cx，是從光源裝置110C射出的照明光束的中心軸。
如上述那樣地通過采用這樣的輔助鏡42C，能使從高壓水銀燈10放射到與拋物面反射器20C相反側(cè)(非照明區(qū)域側(cè))上的光束，與從高壓水銀燈10直接入射到拋物面反射器20C上的光束同樣地，入射到拋物面反射器20C上。
現(xiàn)有的未設(shè)置輔助鏡42C的光源裝置，必須僅僅利用拋物面反射器使從高壓水銀燈10發(fā)出的光束成為大致平行于照明光軸110Cax的平行光，必須擴(kuò)大拋物面反射器的反射面積。
但是通過設(shè)置輔助鏡42C，因為能使從高壓水銀燈10放射到與拋物面反射器20C相反側(cè)(非照明區(qū)域側(cè))上的光束反射到后方側(cè)而使得由輔助鏡42C入射到拋物面反射器20C上，所以即使拋物面反射器20C的反射面積小，也能使從高壓水銀燈10發(fā)出的光束的幾乎全部大致平行于照明光軸110Cax地射出，能使拋物面反射器20C的照明光軸110Cax方向尺寸及口徑直徑小。即，能使光源裝置110C小型化，使光源裝置110C組入到其他光學(xué)裝置的布局也容易。
在光源裝置110C中的拋物面反射器20C中，拋物面反射器基體材料22C由包含LiO2-SiO2-Al2O3的結(jié)晶體的結(jié)晶化玻璃構(gòu)成。因為結(jié)晶化玻璃吸收紫外線，所以與實施方式1、2相比較反射器為高溫。另外，反射膜24C，由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜(40層)構(gòu)成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成。
因此，作為拋物面反射器基體材料22C的結(jié)晶化玻璃的線膨脹系數(shù)(1～15×10-7/K)，和作為構(gòu)成作為反射膜24C的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為小于等于50×10-7/K。其結(jié)果，這些拋物面反射器基體材料22C的線膨脹系數(shù)和反射膜24C中的平均的線膨脹系數(shù)之差小，即使采用這樣的高輸出的高壓水銀燈10，在拋物面反射器基體材料22和反射膜24C之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在反射膜24C上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
在光源裝置110C中的輔助鏡40C中，輔助鏡基體材料42C由石英玻璃構(gòu)成。另外，反射膜44C，由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜(40層)構(gòu)成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成。
因此，作為輔助鏡基體材料42C的石英玻璃的線膨脹系數(shù)(5×10-7/K)，和作為構(gòu)成作為反射膜44C的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的Ta2O5的線膨脹系數(shù)(50×10-7/K)之差為45×10-7/K。其結(jié)果，這些輔助鏡基體材料42C的線膨脹系數(shù)和反射膜44C中的平均的線膨脹系數(shù)之差小，即使采用這樣的高輸出的高壓水銀燈10，在輔助鏡基體材料42C和反射膜44C之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在輔助鏡40C的反射膜44C上出現(xiàn)裂紋而降低反射率。
圖8，是表示關(guān)于反射器和輔助鏡，其基體材料和構(gòu)成反射膜的電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的材料的關(guān)系的圖。在圖8中，符號◎，表示即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間的使用也看不出反射率的降低而特別能適于使用，符號○，表示看不出反射率的降低而能適于使用，符號×，表示存在看得到反射率的降低的場合而不能適于使用。另外，所謂反射器基體材料及輔助鏡基體材料的「不適于使用」，是因為成為在離材料的畸點近的狀態(tài)下的使用的緣故。
實施方式4其次，基于

本發(fā)明的實施方式4。
在以下的說明中，對與上述實施方式1～3同樣的結(jié)構(gòu)及相同構(gòu)件附加相同符號，省略或者簡化其詳細(xì)的說明。
圖9，是表示適用了本發(fā)明的投影機(jī)的一例的概略構(gòu)成圖。投影機(jī)1000，具備照明光學(xué)系統(tǒng)100，色光分離光學(xué)系統(tǒng)200，中繼光學(xué)系統(tǒng)300，光學(xué)裝置，和投影光學(xué)系統(tǒng)600。構(gòu)成這些光學(xué)系統(tǒng)100～300的光學(xué)元件及光學(xué)裝置，調(diào)整定位收置在設(shè)定了預(yù)定的照明光軸Z的光學(xué)部件用殼體內(nèi)。
照明光學(xué)系統(tǒng)100，具備實施方式1的光源裝置110A和均勻照明光學(xué)系統(tǒng)。
光源裝置110A，使從高壓水銀燈10發(fā)出的光束一致成一定方向而射出，照明光學(xué)裝置。
然后，從光源裝置110A放射的光束，射出到均勻照明光學(xué)系統(tǒng)上。
均勻照明光學(xué)系統(tǒng)，是將從光源裝置110A射出的光束分割成多個部分光束，并使照明區(qū)域的面內(nèi)照度均勻化的光學(xué)系統(tǒng)。該均勻照明光學(xué)系統(tǒng)，具備第1透鏡陣列120，反射鏡125，第2透鏡陣列130，偏振變換元件140，及重疊透鏡150。
第1透鏡陣列120，具有將從光源裝置110A射出的光束分割成多個部分光束的作為光束分割光學(xué)元件的功能，具備在與照明光軸Z正交的面內(nèi)排列成矩陣狀的多個小透鏡而構(gòu)成。
第2透鏡陣列130，是聚焦被上述的第1透鏡陣列120分割的多個部分光束的光學(xué)元件，與第1透鏡陣列同樣地具有具備在正交于照明光軸Z的面內(nèi)排列成矩陣狀的多個小透鏡的構(gòu)成。
反射鏡125，反射從第1透鏡陣列120射出的光而入射到第2透鏡陣列上。
偏振變換元件140，是使被第1透鏡陣列120分割的各部分光束的偏振方向一致成大致一個方向的直線偏振的偏振變換元件。
該偏振變換元件120，雖然省略了圖示，具備交替排列了對于照明光軸Z傾斜配置的偏振分離膜及反射膜的構(gòu)成。偏振分離膜，使包含于各部分光束中的P偏振光束及S偏振光束之中，一種偏振光束透射，并反射另一種偏振光束。被反射的另一種偏振光束，被反射膜曲折，射出到沿第一種偏振光束的射出方向、即照明光軸Z的方向上。射出的偏振光束的任何一種，都由設(shè)置在偏振變換元件140的光束射出面上的相位差板進(jìn)行偏振變換，全部的偏振光束的偏振方向大致一致。通過采用這樣的偏振變換元件140，因為能使從光源裝置110A射出的光束，一致成大致一個方向的偏振光束，所以能提高在光學(xué)裝置中利用的光源光的利用效率。
重疊透鏡150，是使經(jīng)過了第1透鏡陣列120、反射鏡125、第2透鏡陣列130、及偏振變換元件140的多個部分光束聚光而重疊到光學(xué)裝置的后述的3個液晶顯示裝置400R、400G、400B的圖像形成區(qū)域上的光學(xué)元件。
從該重疊透鏡150射出的光束，射出到色光分離光學(xué)系統(tǒng)200上。
色光分離光學(xué)系統(tǒng)200，具備2片分色鏡210、220，具備通過分色鏡210、220將從照明光學(xué)系統(tǒng)100射出的多個部分光束，分離成紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)的3色的色光的功能。
分色鏡210、220，是在基板上形成有反射預(yù)定的波長范圍的光束且透射其他的波長范圍的光束的波長選擇膜的光學(xué)元件。而且，配置在光路前級的分色鏡210，是透射紅色光并反射其他的色光的鏡。另外，配置在光路后級的分色鏡220，是反射綠色光并透射藍(lán)色光的鏡。
中繼光學(xué)系統(tǒng)300，具備入射側(cè)透鏡310，中繼透鏡330，和反射鏡320、340，具有將透射了構(gòu)成色光分離光學(xué)系統(tǒng)200的分色鏡220的藍(lán)色光引導(dǎo)至光學(xué)裝置上的功能。還有，在藍(lán)色光的光路中設(shè)置這樣的中繼光學(xué)系統(tǒng)300，是由于藍(lán)色光的光路長度比其他的色光的光路長度長，防止因光的發(fā)散引起的光的利用效率的降低的緣故。雖然在本實施方式中因為藍(lán)色光的光路長度長所以為這樣的構(gòu)成，但是也能考慮加長紅色光的光路長度而將中繼光學(xué)系統(tǒng)300用于紅色光的光路中。
被上述的分色鏡210分離的紅色光，被反射鏡230曲折后，通過場透鏡供給到光學(xué)裝置上。另外，被分色鏡220分離的綠色光，直接通過場透鏡供給到光學(xué)裝置上。而且，藍(lán)色光，被構(gòu)成中繼光學(xué)系統(tǒng)300的透鏡310、330及反射鏡320、340聚光，曲折而通過場透鏡供給到光學(xué)裝置上。還有，設(shè)置在光學(xué)裝置的各色光的光路前級的場透鏡，為了將從第2透鏡陣列130射出的各部分光束，變換成對于照明光軸Z大致平行的光束而設(shè)置。
光學(xué)裝置，按照圖像信息調(diào)制入射的光束而形成彩色圖像。該光學(xué)裝置，具備成為照明對象的作為光調(diào)制裝置的液晶顯示裝置400R、400G、400B(紅色光側(cè)的液晶顯示裝置為400R，綠色光側(cè)的液晶顯示裝置為400G，藍(lán)色光側(cè)的液晶顯示裝置為400B)，和十字分色棱鏡500而構(gòu)成。還有，在介于場透鏡及各液晶顯示裝置400R、400G、400B之間，配置入射側(cè)偏振板，在介于各液晶顯示裝置400R、400G、400B及十字分色棱鏡500之間，配置射出側(cè)偏振板，通過入射側(cè)偏振板，液晶顯示裝置400R、400G、400B，及射出側(cè)偏振板而進(jìn)行入射的各色光的光調(diào)制。
液晶顯示裝置400R、400G、400B，在一對透明的玻璃基板中密閉封入了是電光物質(zhì)的液晶，例如，以多晶硅TFT作為開關(guān)元件，按照給與的圖像信號，調(diào)制從入射側(cè)偏振板44射出的偏振光束的偏振方向。
十字分色棱鏡500，是合成調(diào)制了從前述射出側(cè)偏振板射出的每種色光的光學(xué)像而形成彩色圖像的光學(xué)元件。該十字分色棱鏡500，呈貼合4個直角棱鏡的平面看大致正方形狀，在貼合了直角棱鏡之間的交界面上，形成電介質(zhì)多層膜。大致X字狀的一種電介質(zhì)多層膜，反射紅色光，另一種電介質(zhì)多層膜，反射藍(lán)色光，紅色光及藍(lán)色光被這些電介質(zhì)多層膜曲折，通過與綠色光的行進(jìn)方向一致，合成3種色光。
然后，從十字分色棱鏡500射出的彩色圖像，通過投影光學(xué)系統(tǒng)600而擴(kuò)大投射，在屏幕SC上形成大畫面圖像。
還有，關(guān)于如圖9中所示那樣的投影機(jī)的各部分的構(gòu)成及功能，例如，詳述在由本申請申請人公開的特開平10-325954號公報中。
在該投影機(jī)1000中，作為照明光學(xué)系統(tǒng)100的光源裝置，采用圖1中所示的光源裝置110A。該光源裝置110A，如前述那樣地，具備即使采用高輸出的高壓水銀燈10，在拋物面反射器基體材料22A和反射膜24A之間所產(chǎn)生的應(yīng)力也為小于等于預(yù)定的值，能有效地防止在反射膜24A上出現(xiàn)裂紋而降低反射率的拋物面反射器20A。從而，具備該光源裝置110A的投影機(jī)1000，即使采用高輸出的高壓水銀燈10，以長時間使用也不降低反射率，為適于高亮度化的投影機(jī)。
還有，本發(fā)明不限于上述的實施例和實施方式，在不脫離其要旨的范圍內(nèi)可以在各種的形態(tài)中實施，也可以例如如下那樣的變形。
也可以將在上述實施方式2中說明的散熱用的構(gòu)件26B，用在實施方式1的光源裝置110A或者光源裝置110C中。
上述實施方式2的光源裝置110B，也可以為不具備輔助鏡40B的構(gòu)成。
在上述實施方式4的投影機(jī)1000中，作為照明光學(xué)系統(tǒng)100的光源裝置，雖然用了光源裝置110A，但是不限于此，在投影機(jī)1000中也可以具備光源裝置110B或者光源裝置110C。
在上述實施方式4的投影機(jī)1000中，雖然僅僅舉出了采用3個液晶顯示裝置400R、400G、400B的例。但是本發(fā)明，也可以適用于只用1個液晶顯示裝置的投影機(jī)，采用2個液晶顯示裝置的投影機(jī)，或者，采用大于等于4個液晶顯示裝置的投影機(jī)。
在上述實施方式中，雖然用了光入射面和光射出面不相同的透射型的液晶面板，但是也可以采用光入射面和光射出面為相同的反射型的液晶面板。
在上述實施例的投影機(jī)1000中，雖然例示了將本發(fā)明的光源裝置適用于透射型的投影機(jī)中的場合，但是本發(fā)明也可以適用于反射型的投影機(jī)中。在此，所謂「透射型」，意味著如透射型液晶面板那樣地作為光調(diào)制單元的電光裝置是透射光的類型；所謂「反射型」，意味著如反射型液晶面板那樣地作為光調(diào)制單元的電光裝置是反射光的類型。在將本發(fā)明適用于反射型的投影機(jī)的場合下，也能得到與透射型的投影機(jī)同樣的效果。
在上述實施例中，投影機(jī)1000，雖然采用液晶面板作為電光裝置，但是不限于此。作為電光裝置，一般地，只要按照圖像信息調(diào)制入射光即可，也可以利用微鏡型光調(diào)制裝置。
作為微鏡型光調(diào)制裝置，例如，能采用DMD(Digital MicromirrorDevice，數(shù)字微鏡設(shè)備)(TI公司的商標(biāo))。
權(quán)利要求
1.一種反射器，包括具有大于等于400℃的耐熱溫度的反射器基體材料，和由在該反射器基體材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜，用于使來自發(fā)光管的光向被照明區(qū)域側(cè)反射，其特征在于上述反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差小于等于50×10-7/K。
2.按照權(quán)利要求1所述的反射器，其特征在于上述反射器基體材料由氧化鋁構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2或者Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
3.按照權(quán)利要求1所述的反射器，其特征在于上述反射器基體材料由藍(lán)寶石構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5或者TiO2的疊層膜構(gòu)成。
4.按照權(quán)利要求1所述的反射器，其特征在于上述反射器基體材料由石英玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
5.按照權(quán)利要求1所述的反射器，其特征在于上述反射器基體材料由結(jié)晶化玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
6.一種輔助鏡，包括具有大于等于600℃的耐熱溫度的輔助鏡基體材料，和由在該輔助鏡基體材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜，用于使從發(fā)光管射出到被照明區(qū)域側(cè)上的光向上述發(fā)光管反射，其特征在于上述輔助鏡基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差小于等于50×10-7/K。
7.按照權(quán)利要求6所述的輔助鏡，其特征在于上述輔助鏡基體材料由氧化鋁構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的TiO2或者Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
8.按照權(quán)利要求6所述的輔助鏡，其特征在于上述輔助鏡基體材料由藍(lán)寶石構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5或者TiO2的疊層膜構(gòu)成。
9.按照權(quán)利要求6所述的輔助鏡，其特征在于上述輔助鏡基體材料由石英玻璃構(gòu)成，上述電介質(zhì)多層膜由作為低折射率膜的SiO2和作為高折射率膜的Ta2O5的疊層膜構(gòu)成。
10.一種光源裝置，其特征在于，具備發(fā)光管，權(quán)利要求1～5的任何一項中所述的反射器，和權(quán)利要求6～9的任何一項中所述的輔助鏡。
11.按照權(quán)利要求10所述的光源裝置，其特征在于上述輔助鏡的反射膜，具有比上述反射器的反射膜寬的頻帶。
12.一種光源裝置，其特征在于，具備發(fā)光管，和權(quán)利要求1～5的任何一項中所述的反射器。
13.按照權(quán)利要求10～12中的任何一項所述的光源裝置，其特征在于還具備配置在上述反射器的凸面?zhèn)壬?，熱連接到上述反射器上的散熱用的構(gòu)件。
14.按照權(quán)利要求13所述的光源裝置，其特征在于上述散熱用的構(gòu)件具有散熱用的風(fēng)扇。
15.一種光源裝置，其特征在于具備包括具有大于等于400℃的耐熱溫度的橢圓面反射器基體材料，和由在該橢圓面反射器基體材料的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜的，上述橢圓面反射器基體材料的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差小于等于50×10-7/K的橢圓面反射器；在該橢圓面反射器的第1焦點附近具有其發(fā)光中心的發(fā)光管；和將來自上述橢圓面反射器的光大致平行化的平行化透鏡，還具備配置在上述橢圓面反射器的凹面?zhèn)韧庵懿可?，熱連接到上述橢圓面反射器上的散熱用的框，在該散熱用的框上安裝上述平行化透鏡。
16.按照權(quán)利要求15所述的光源裝置，其特征在于上述散熱用的框具有散熱用的風(fēng)扇。
17.按照權(quán)利要求15或者16所述的光源裝置，其特征在于在上述散熱用的框的內(nèi)面上，形成紅外線吸收層。
18.按照權(quán)利要求15～17中的任何一項所述的光源裝置，其特征在于還具備權(quán)利要求6～9的任何一項中所述的輔助鏡。
19.一種投影機(jī)，其特征在于，具備包含權(quán)利要求12～18的任何一項中所述的光源裝置的照明光學(xué)系統(tǒng)，按照圖像信息調(diào)制來自該照明光學(xué)系統(tǒng)的光的電光調(diào)制裝置，和投影來自該電光調(diào)制裝置的調(diào)制光的投影光學(xué)系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明，為了提供即使采用高輸出的發(fā)光管以長時間的使用也不降低反射率的反射器和具備其反射器的光源裝置及投影機(jī)，反射器(20A)，包括具有大于等于400℃的耐熱溫度的反射器基體材料(22A)，和由在該反射器基體材料(22A)的凹面上形成的電介質(zhì)多層膜構(gòu)成的反射膜(24A)，為了使來自高壓水銀燈(10)的光向被照明區(qū)域側(cè)反射而采用，特征在于上述反射器基體材料(22B)的線膨脹系數(shù)，和構(gòu)成上述電介質(zhì)多層膜的高折射率膜的電介質(zhì)材料的線膨脹系數(shù)之差是小于等于50×10
文檔編號F21Y101/00GK1777824SQ20048001059
公開日2006年5月24日 申請日期2004年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月9日
發(fā)明者橋爪俊明 申請人:精工愛普生株式會社