專利名稱：場發(fā)射顯示器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及配備有金屬網(wǎng)狀格柵的場發(fā)射顯示器及其制造方法。
背景技術(shù)：
當(dāng)從場發(fā)射顯示器(FED)的內(nèi)部電子發(fā)射源發(fā)射電子時(shí)，在設(shè)置有電子發(fā)射源的陰極板與具有使電子與其碰撞的熒光層的陽極板之間的內(nèi)部真空間隔中，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生電弧(arcing)。一般認(rèn)為這種電弧是由除氣引起的瞬時(shí)氣體電離(雪崩現(xiàn)象)所導(dǎo)致的放電而產(chǎn)生的。此外，為了在形成于陰極板上的場發(fā)射陣列(FEA)中的腔測試(chamber testing)或者為了在將陰極板和陽極板結(jié)合之后測試FED而施加1KV或更大的陽極電壓時(shí)，可能出現(xiàn)電弧。當(dāng)使用光學(xué)顯微鏡仔細(xì)檢查發(fā)生電弧的FEA的表面時(shí)，可以看到由電弧引起的損壞主要發(fā)生在柵極邊緣。這大概是由于柵極邊緣較為尖銳，由此在高電場下出現(xiàn)電弧。電弧引起施加最高陽極電壓的陽極與施加較低柵極電壓的柵電極之間的短路。因此，陽極電壓施加到柵電極，這種高電壓對將陰極電極與柵電極電絕緣的柵極氧化物以及形成在陰極電極上的電阻層造成損壞。隨著陽極電壓增大，這種現(xiàn)象變得更加嚴(yán)重。結(jié)果，由于當(dāng)施加1KV或更高的陽極電壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)電弧，所以很難從其中陰極和陽極通過隔離物彼此分離的常規(guī)的簡單FED結(jié)構(gòu)來獲得通常在高電壓下工作的具有高亮度的FED。
同時(shí)，因?yàn)檫@種常規(guī)的FED具有由柵電極所吸取的電子朝向熒光層加速的結(jié)構(gòu)，所以其問題在于，電子發(fā)散并與除熒光層的指定象素區(qū)域之外的區(qū)域碰撞。通過將電子束聚焦到熒光層上的指定象素上的附加電極可以解決這一問題。該電極對應(yīng)于FED中的第二柵電極，并通常整體形成而不像設(shè)置為條狀形式的柵電極那樣。第二柵電極不僅控制電子束而且還防止在FED中出現(xiàn)電弧。
韓國專利公開No.2001-81496以及美國專利No.5710483公開了配備有上述第二柵電極的雙柵極FED。
在美國專利No.5710483中公開的FED具有通過淀積金屬而形成的第二柵電極，在韓國專利公開No.2001-81496中所公開的FED具有由通過隔離物與陽極和陰極電極分離的附加金屬網(wǎng)所形成的第二柵電極。
如在美國專利No.5710483中所描述的，通過淀積金屬而形成的第二柵電極的尺寸受到淀積設(shè)備尺寸的限制，由此將FED的尺寸限制為不超過預(yù)定尺寸。因此，這不適合于制造大尺寸的FED，因此應(yīng)重新制造用于生產(chǎn)大尺寸FED的金屬膜淀積設(shè)備，由此需要巨大的成本。此外，因?yàn)橥ㄟ^淀積金屬形成的第二柵電極的厚度局限于約1.5微米或更小，所以很難獲得足以有效控制電子束的厚度。
在韓國專利公開No.2001-81496中所公開的FED中，從金屬板獲得第二柵電極(網(wǎng)狀格柵)。因此，可以自由地選擇第二柵電極的厚度而沒有上述限制，由此有效地控制電子束。
圖1是表示常規(guī)FED的一個(gè)實(shí)例的截面圖，其中將網(wǎng)狀格柵用作第二柵電極。
陰極板10和陽極板20通過隔離物30彼此分離。陰極板10和陽極板20之間的空間處于真空下，由此利用插入其間的下隔離物31和上隔離物32將陰極板10和陽極板20通過內(nèi)部負(fù)壓緊密結(jié)合在一起。
在陰極板10中，陰極電極12形成在后面板11上，而柵極絕緣層13形成在陰極電極12上。在柵極絕緣層13中形成透孔13a，經(jīng)由透孔13a暴露陰極電極12。在經(jīng)由透孔13a暴露的陰極電極12上形成諸如碳納米管(CNT)的電子發(fā)射源14。在柵極絕緣層13上形成柵電極15。柵電極15具有對應(yīng)于透孔13a的柵極孔15a。
同時(shí)，在陽極板20中，陽極電極22形成在前面板21的內(nèi)側(cè)。熒光層23形成在陽極電極22的一部分上，該部分面對柵極孔15a。黑矩陣24形成在陽極電極22的其余部分上。
在陰極板10和陽極板20之間，設(shè)置網(wǎng)狀格柵40，其與陰極板10和陽極板20分離并通過下間隔物31和上間隔物32支撐。網(wǎng)狀格柵40具有對應(yīng)于柵極孔15a的電子束控制孔42。
在這種常規(guī)FED中，結(jié)合隔離物的方法如下。
首先，在網(wǎng)狀格柵40的一側(cè)形成絕緣層(下隔離物31)，在絕緣層31上印制玻璃料糊料34，并將涂敷有玻璃料糊料34的絕緣層31的一部分設(shè)置為與柵極絕緣層13接觸。接著，在430℃的溫度下燒結(jié)玻璃料糊料34預(yù)定時(shí)間，例如20分鐘。
接下來，將以通常方式附著有上隔離物32的陽極板20與其上具有網(wǎng)狀格柵40的陰極板10對準(zhǔn)，然后真空封裝。
根據(jù)這種常規(guī)方法，在約430℃的高溫下燒制玻璃料糊料34花費(fèi)約4至8小時(shí)，包括溫度升高時(shí)間和冷卻時(shí)間，并且金屬網(wǎng)狀格柵40和陰極板10之間的熱膨脹差異會(huì)引起其間的未對準(zhǔn)。此外，高溫會(huì)引起網(wǎng)狀格柵40的變形。另外，暴露的電子發(fā)射源14的劣化會(huì)削弱電子發(fā)射效果。
此外，玻璃料糊料34會(huì)流入網(wǎng)狀格柵40的電子束控制孔42的橫向側(cè)，由此在驅(qū)動(dòng)FED時(shí)出現(xiàn)電弧。
網(wǎng)狀格柵的變形導(dǎo)致FED性能劣化。因此需要克服這一問題的新方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種FED及其制造方法，其中在低溫下將網(wǎng)狀格柵固定到陰極板。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種FED，包括具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層的陽極板；具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極的陰極板，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；固定在所述陰極板內(nèi)側(cè)的網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔，并具有在面對所述陰極板的表面上的光敏粘附層；以及，隔離物，其設(shè)置在所述陽極板和所述網(wǎng)狀格柵之間，并通過所述陽極板和所述陰極板之間的負(fù)壓將所述網(wǎng)狀格柵緊密的粘附到所述陰極板。
所述網(wǎng)狀格柵可以進(jìn)一步包括形成在面對所述陰極板的表面與所述光敏粘附層之間的絕緣層。
所述光敏粘附層可以由光敏聚酰亞胺層形成。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種FED的制造方法，該方法包括(a)制備具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層的陽極板；(b)制備具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極的陰極板，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；(c)提供附加網(wǎng)狀格柵，其具有電子束控制孔以面對所述柵極孔并具有順序疊置在對應(yīng)于所述陰極板的所述第一表面上的絕緣層和粘附層；(d)將所述網(wǎng)狀格柵與所述陰極板結(jié)合使得所述網(wǎng)狀格柵的粘附層面對所述陰極板；(e)使用插入在所述陰極板和所述陽極板之間的隔離物，將所述陽極板和所述陰極板結(jié)合并真空密封。
所述網(wǎng)狀格柵的絕緣層可以由SiO2制成。
制備所述網(wǎng)狀格柵可以包括在金屬板上形成電子束控制孔；形成絕緣層，其具有對應(yīng)于所述金屬板上的電子束控制孔的孔；在所述絕緣層上形成光敏粘附層；從所述金屬板的第二表面曝光所述光敏粘附層；以及，去除曝光的光敏粘附層。
所述光敏粘附層可以由光敏聚酰亞胺形成。
同時(shí)，所述光敏粘附層可以通過從旋涂法、絲網(wǎng)印刷法和輥筒印刷法所構(gòu)成的組中選取的方法而形成。
此外，所述密封可以在150-300℃的溫度下固化。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了一種FED的制造方法，該方法包括(a)制備具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層的陽極板；(b)制備具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極的陰極板，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；(c)提供附加網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔；(d)形成光敏粘附層，其覆蓋所述陰極板上的所述柵電極；(e)將所述網(wǎng)狀格柵設(shè)置在所述粘附層上；(f)從所述陰極板的上面曝光所述粘附層；(g)去除曝光的粘附層；(h)使用插入在所述陰極板和所述陽極板之間的隔離物，將所述陽極板和所述陰極板結(jié)合并真空密封。
操作(c)可以包括在所述網(wǎng)狀格柵的一側(cè)形成絕緣層，其具有對應(yīng)于所述電子束控制孔的孔。
在操作(e)中，所述網(wǎng)狀格柵的絕緣層可以接觸所述粘附層。


圖1是表示常規(guī)FED的截面圖；圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的FED的截面圖；圖3A和3B是表示陽極板制造工藝的截面圖；圖4是表示陰極板制造工藝的截面圖；
圖5A至5E是表示根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例提供網(wǎng)狀格柵的過程的圖；圖6是表示附著在陰極板內(nèi)側(cè)的網(wǎng)狀格柵的截面圖；圖7是表示將陽極板與陰極板結(jié)合的過程的圖；以及圖8A至8C是表示根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例將網(wǎng)狀格柵附著到陰極板上的過程的圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)將參照附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例。為了本發(fā)明的清楚起見，夸大了附圖中所示的層或區(qū)域的厚度。
圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的FED的截面圖。
陰極板100和陽極板200通過隔離物300彼此分離。陰極板100和陽極板200之間的空間處于真空下，由此利用隔離物300將陰極板100和陽極板200通過內(nèi)部負(fù)壓緊密結(jié)合在一起。
在陰極板100中，陰極電極120形成在后面板110上，而柵極絕緣層130形成在陰極電極120上。在柵極絕緣層130中形成透孔130a。在經(jīng)由透孔130a暴露的陰極電極120上形成諸如碳納米管(CNT)的電子發(fā)射源140。在柵極絕緣層130上形成柵電極150。柵電極150具有對應(yīng)于透孔130a的柵極孔150a。柵電極150和陰極電極120通常設(shè)置成條形并以直角設(shè)置。柵電極150由厚度約0.25μm的Cr形成。
同時(shí)，在陽極板200中，陽極電極220形成在前面板210的內(nèi)側(cè)。熒光層230形成在陽極電極220的一部分上，該部分面對柵極孔150a。黑矩陣240形成在陽極電極220的其余部分上，其用于阻擋外部光的吸收并防止光學(xué)串?dāng)_。
在陰極板100和陽極板200之間設(shè)置網(wǎng)狀格柵400，網(wǎng)狀格柵400通過設(shè)置在網(wǎng)狀格柵400之下的絕緣層440和粘附層460以及設(shè)置在其上方的隔離物300與陰極板100和陽極板200分離。
網(wǎng)狀格柵400之下的絕緣層440可以由SiO2形成。絕緣層440之下的粘附層460可以由光敏聚酰亞胺形成。該聚酰亞胺可以在約150-300℃的低溫下固化。
網(wǎng)狀格柵400具有對應(yīng)于柵極孔150a的電子束控制孔420。
因此，在根據(jù)本發(fā)明的FED中，能夠防止由于高溫?zé)扑碌淖冃魏臀磳?zhǔn)，因?yàn)橛糜趯⒂山饘侔逍纬傻木W(wǎng)狀格柵400與陰極板100相結(jié)合的加熱工藝在低溫下執(zhí)行較短時(shí)間。
現(xiàn)將詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的FED制造方法的實(shí)施例。
圖3A和3B是表示陽極板制造工藝的截面圖。
提供陽極板200，其中陽極電極220、熒光層230和黑矩陣240形成在前面板210的內(nèi)側(cè)(圖中的上側(cè))。
隔離物300與陽極板20設(shè)置在一起并附著到黑矩陣240上。當(dāng)附著隔離物300時(shí)，使用由糊料形成的粘合劑310。通過加熱附著有間隔物300的陽極板200來燒制熒光層230并硬化粘合劑310。使用常規(guī)方法執(zhí)行此工藝。
圖4是表示陰極板制造工藝的截面圖。
當(dāng)在后面板110的內(nèi)側(cè)(圖中的上側(cè))形成陰極電極120、柵極絕緣層130、柵電極150和電子發(fā)射源140時(shí)，提供了陰極板100。此處，柵極絕緣層130和柵電極150疊置在陰極電極120上并分別具有對應(yīng)于熒光層230的透孔130a和柵極孔150a，在經(jīng)由柵極孔150a暴露的陰極電極120上，電子發(fā)射源140發(fā)射電子。仍通過常規(guī)方法來制造陰極板100。
圖5A至5E是表示根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例提供網(wǎng)狀格柵的過程的圖。
如圖5A所示，通過擠壓在約50-100μm厚的Invar的一側(cè)上印制絕緣層440，例如SiO2糊料。在約460-500℃的溫度下燒制絕緣層440。
如圖5B所示，通過光刻工藝在Invar中形成電子束控制孔420。在這種情況下，使用光致抗蝕劑掩模。該光致抗蝕劑掩模具有對應(yīng)于電子束控制孔420的窗，并且可以將FeCl3用作蝕刻劑。
如圖5C所示，通過使用具有電子束控制孔420的Invar作為掩模蝕刻絕緣層440而完全穿通電子束控制孔420。在這種情況下，可以將HF用作蝕刻劑。
如圖5D所示，通過旋涂法、絲網(wǎng)印刷法或輥筒印刷法，然后進(jìn)行軟烘烤，在絕緣層440上形成光敏粘合劑，例如光敏聚酰亞胺460或光敏環(huán)氧樹脂。在這種情況下，聚酰亞胺460可以涂敷在電子束控制孔420的橫向側(cè)上或者網(wǎng)狀格柵400的下側(cè)。
接下來，在使用網(wǎng)狀格柵400作為掩模將聚酰亞胺曝光于紫外線然后使其顯影時(shí)，去除了涂敷在電子束控制孔420的橫向側(cè)或者網(wǎng)狀格柵400的下側(cè)的聚酰亞胺(參照圖5E)。
圖6和7是表示將分開制造的陰極板、網(wǎng)狀格柵和陽極板結(jié)合的過程的圖。
網(wǎng)狀格柵400對準(zhǔn)于陰極板100的內(nèi)側(cè)，并通過在約150-300℃的溫度下固化10分鐘而附著到陰極板100。
通過將陰極板100與陽極板200結(jié)合并密封來獲得預(yù)期的FED。
圖8A至8C是表示根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例將網(wǎng)狀格柵附著到陰極板上的過程的圖。相同的部件用相同的附圖標(biāo)記來表示，再次省略其詳細(xì)描述。
參照圖8A，通過旋涂法、絲網(wǎng)印刷法或輥筒印刷法，然后進(jìn)行軟烘烤，在陰極板100上形成光敏聚酰亞胺層460，其覆蓋電子發(fā)射源140和陰極電極150。
如圖8B所示，將預(yù)先制備的網(wǎng)狀格柵400(參照圖5C)與陰極板100對準(zhǔn)。接著，使用網(wǎng)狀格柵400作為掩模將聚酰亞胺層460曝光于紫外線。附圖標(biāo)記460a表示曝光的部分。然后，使曝光部分460a顯影。
圖8C表示顯影之后的所得物體。當(dāng)所得物體在150-300℃的溫度下固化10分鐘時(shí)，網(wǎng)狀格柵400固定到陰極板100。
將陰極板100與陽極板200結(jié)合并密封的過程與如上所述的相同，所以在此省略對其的詳細(xì)描述。
同時(shí)，盡管上述實(shí)施例已說明了將其下形成有絕緣層的網(wǎng)狀格柵對準(zhǔn)在聚酰亞胺層上，但可以將沒有絕緣層的網(wǎng)狀格柵直接附著到聚酰亞胺層。在這種情況下，聚酰亞胺層的厚度增大到約20-50μm。
此外，盡管上述實(shí)施例已說明了在對準(zhǔn)網(wǎng)狀格柵之前軟烘烤聚酰亞胺層，但也可以在對準(zhǔn)網(wǎng)狀格柵之后軟烘烤聚酰亞胺層。在對準(zhǔn)網(wǎng)狀格柵之后執(zhí)行軟烘烤時(shí)，網(wǎng)狀格柵可以堅(jiān)固地附著到聚酰亞胺層上。
根據(jù)本發(fā)明，可以使網(wǎng)狀格柵和陰極板之間的未對準(zhǔn)最小化，因?yàn)樵趯⒕W(wǎng)狀格柵附著到陰極板時(shí)通過使用聚酰亞胺在低溫下執(zhí)行熱處理工藝。此外，在附著工藝期間可以防止CNT電子發(fā)射源的劣化。因此，這種FED的制造方法適于制造大尺寸的FED。
盡管已參考其示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解的是，在不背離由所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍的前提下，可以對其進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。
權(quán)利要求
1.一種場發(fā)射顯示器，包括陽極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層；陰極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；固定在所述陰極板內(nèi)側(cè)的網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔，并具有在面對所述陰極板的表面上的光敏粘附層；以及，隔離物，其設(shè)置在所述陽極板和所述網(wǎng)狀格柵之間，并通過所述陽極板和所述陰極板之間的負(fù)壓將所述網(wǎng)狀格柵緊密地粘附到所述陰極板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場發(fā)射顯示器，其中所述網(wǎng)狀格柵還包括形成在面對所述陰極板的表面與所述光敏粘附層之間的絕緣層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的場發(fā)射顯示器，其中所述光敏粘附層由光敏聚酰亞胺層形成。
4.一種場發(fā)射顯示器的制造方法，該方法包括(a)制備陽極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層；(b)制備陰極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；(c)提供附加的網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔并具有順序疊置在面對所述陰極板的第一表面上的絕緣層和粘附層；(d)將所述網(wǎng)狀格柵與所述陰極板結(jié)合使得所述網(wǎng)狀格柵的粘附層面對所述陰極板；以及(e)使用插入在所述陰極板和所述陽極板之間的隔離物，將所述陽極板與所述陰極板結(jié)合并真空密封。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述網(wǎng)狀格柵的絕緣層由SiO2制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中提供所述網(wǎng)狀格柵包括在金屬板上形成電子束控制孔；形成絕緣層，其具有對應(yīng)于所述金屬板上的電子束控制孔的孔；在所述絕緣層上形成光敏粘附層；從所述金屬板的第二表面曝光所述光敏粘附層；以及，去除曝光的光敏粘附層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所述光敏粘附層由光敏聚酰亞胺形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述光敏粘附層通過從旋涂法、絲網(wǎng)印刷法和輥筒印刷法所構(gòu)成的組中選取的方法而形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述密封在150-300℃的溫度下固化。
10.一種場發(fā)射顯示器的制造方法，該方法包括(a)制備陽極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層；(b)制備陰極板，其具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；(c)提供附加的網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔；(d)形成光敏粘附層，其覆蓋所述陰極板上的所述柵電極；(e)將所述網(wǎng)狀格柵設(shè)置在所述粘附層上；(f)從所述陰極板的上方曝光所述粘附層；(g)去除曝光的粘附層；以及(h)使用插入在所述陰極板和所述陽極板之間的隔離物，將所述陽極板與所述陰極板結(jié)合并真空密封。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述光敏粘附層由光敏聚酰亞胺形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述光敏粘附層通過從旋涂法、絲網(wǎng)印刷法和輥筒印刷法所構(gòu)成的組中選取的方法而形成。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中提供附加的網(wǎng)狀格柵包括在所述網(wǎng)狀格柵的一側(cè)形成絕緣層，該絕緣層具有對應(yīng)于所述電子束控制孔的孔，以及其中設(shè)置所述網(wǎng)狀格柵包括使所述網(wǎng)狀格柵上的絕緣層與所述粘附層接觸。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中形成光敏粘附層包括軟烘烤所述粘附層。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中設(shè)置所述網(wǎng)狀格柵包括軟烘烤所述粘附層。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中將所述陽極板與所述陰極板結(jié)合并真空密封包括在150-300℃的溫度下進(jìn)行固化。
全文摘要
提供了一種場發(fā)射顯示器及其制造方法。該場發(fā)射顯示器包括具有形成在內(nèi)側(cè)的陽極電極和熒光層的陽極板；具有形成在內(nèi)側(cè)的電子發(fā)射源和柵電極的陰極板，所述電子發(fā)射源面對所述熒光層并發(fā)射電子，所述柵電極具有柵極孔，電子穿過該柵極孔；固定在所述陰極板內(nèi)側(cè)的網(wǎng)狀格柵，其具有對應(yīng)于所述柵極孔的電子束控制孔，并具有在面對所述陰極板的表面上的光敏粘附層；以及，隔離物，其設(shè)置在所述陽極板和所述網(wǎng)狀格柵之間，并通過所述陽極板和所述陰極板之間的負(fù)壓將所述網(wǎng)狀格柵緊密的粘附到所述陰極板。
文檔編號(hào)H01J29/48GK1710700SQ200510077959
公開日2005年12月21日 申請日期2005年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月17日
發(fā)明者宋炳權(quán), 申文珍 申請人:三星Sdi株式會(huì)社