專(zhuān)利名稱(chēng)：具有作為電子源的場(chǎng)發(fā)射器的大面積指示電子束照射器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子束照射器，更具體涉及一種設(shè)計(jì)為允許在寬區(qū)域中的電子束照射，而不使用掃描磁鐵系統(tǒng)，以及允許用高電流密度而不使用加熱器如燈絲或附加電源的低能電子束照射器，由此保證簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)以及減小的尺寸。
背景技術(shù)：
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員清楚地了解，每種物質(zhì)的性能由組成原子的鍵合決定，其中通過(guò)束縛到該原子的外層電子進(jìn)行鍵合。用充分能級(jí)的電子束改變物質(zhì)的鍵狀態(tài)可以獲得完全不同于先前物質(zhì)的性能。
亦即，電子束可以被照射到物質(zhì)，以給予它附加的可用性能，或從它除去任意性能，例如對(duì)人體有害的性能。
用于電子束照射器以產(chǎn)生電子束的陰極材料通常選自具有低功函數(shù)的各種單晶、氧化物等。但是，這些材料用于電子束照射源，它們的尺寸受到限制，因此必需使用電磁體，以便在寬的區(qū)域中電子束照射和處理目標(biāo)。
此外，常規(guī)電子束照射器是熱電啟動(dòng)類(lèi)型，其中為了產(chǎn)生電子束，利用燈絲加熱陰極材料直至適合的高溫。由于此，必然需要與燈絲一起使用附加的分開(kāi)電源。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題如上所述，常規(guī)電子束照射器具有復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。此外，由于用點(diǎn)電子束源進(jìn)行常規(guī)電子束照射，存在其中照射效率降低和經(jīng)濟(jì)競(jìng)爭(zhēng)力和加工能力變差的缺點(diǎn)。
由此，在技術(shù)上需要一種能防止上述問(wèn)題的電子束照射器。
為了解決現(xiàn)有技術(shù)的上述問(wèn)題，進(jìn)行本發(fā)明，因此本發(fā)明的目的是提供一種設(shè)計(jì)為在寬的區(qū)域中照射電子束而不使用電磁系統(tǒng)，以及在高電流密度中，而不使用加熱器如燈絲或附加電源的電子束照射器，由此保證簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)以及減小的尺寸。
本發(fā)明的另一目的是提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為從陰極的條形場(chǎng)發(fā)射器尖端徑向地照射電子束，允許在更寬的區(qū)域中照射更大的區(qū)域，由此進(jìn)一步提高電子束的照射效率。
本發(fā)明的再一目的是提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為被簡(jiǎn)單地裝配和拆卸，由此增強(qiáng)裝配、替換和維護(hù)的快速性、簡(jiǎn)單性和效率。
本發(fā)明的另一目的是提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為使通過(guò)電子束照射窗口照射的電子束的加速電場(chǎng)的形變最小化，同時(shí)防止通過(guò)電子束照射窗口損壞真空室的真空狀態(tài)，以及實(shí)現(xiàn)克服真空和空氣之間壓力差的充分承受力，同時(shí)使通過(guò)其照射電子束的金屬箔厚度最小化，由此減小通過(guò)金屬箔的電子束的損失和所得的能量損耗。
本發(fā)明的又一目的是提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為在一個(gè)圓柱體單元中形成幾個(gè)電子束照射窗口，以便根據(jù)用途，保證各個(gè)電子束照射窗口的獨(dú)立應(yīng)用和高操作效率，具體對(duì)于圓柱體的內(nèi)部進(jìn)一步，提高處理效率，以及能夠根據(jù)照射器和目標(biāo)之間的距離變化進(jìn)行電流密度調(diào)整。
技術(shù)方案根據(jù)用于實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種電子束照射器，包括具有在真空室的外周邊縱向地形成的電子束照射窗口的真空室；在真空內(nèi)部中心地和縱向地放置的陰極，以及具有在陰極上形成的場(chǎng)發(fā)射器尖端，對(duì)應(yīng)于電子束照射窗口；以及在真空室的一端放置的高壓電源，用于朝向陰極施加高壓。
優(yōu)選，該場(chǎng)發(fā)射器尖端由碳納米管制成。
在本發(fā)明中，陰極是具有圓形截面的桿形結(jié)構(gòu)，且包括在桿形結(jié)構(gòu)的外周邊中縱向地形成的條形場(chǎng)發(fā)射器尖端。
該電子束照射器還可以包括在真空室的兩端整體地設(shè)置的固定法蘭(flange)，與固定法蘭之一耦合并具有高壓電源的第一真空法蘭；與另一固定法蘭耦合的第二真空法蘭；第一支撐件，包括在陰極一端形成的管腳插入孔和在高壓電源中形成的、用于通過(guò)連接器管腳的第一絕緣體，以便連接器管腳通過(guò)第一絕緣體被插入陰極的管腳插入孔中；以及第二支撐件，包括在第二真空法蘭的中心部分中縱向地和軸向地形成的第二絕緣體中形成的插入溝槽，以便在陰極的另一端形成的插入突起被插入該插入溝槽中，以支撐陰極。
在本發(fā)明中，電子束照射窗口可以包括固定到真空室的基板，略微地從真空室突出到外面，并具有在其中心區(qū)中形成的延長(zhǎng)矩形縫隙；被插入基板縫隙的外周邊中形成的插入溝槽中的金屬導(dǎo)線；放置在金屬導(dǎo)線上的金屬箔，具有一區(qū)域，該區(qū)域略微地大于被金屬導(dǎo)線圍繞的區(qū)域；以及與基板耦合的蓋板，對(duì)應(yīng)于基板的縫隙，并具有對(duì)應(yīng)于基板的中心區(qū)中的縫隙的電子束照射縫隙。
優(yōu)選，該真空室是圓柱體，具有在其外周邊中形成的多個(gè)電子束照射窗口，以及其中放置在真空室內(nèi)的陰極具有在該陰極的外周邊中形成的場(chǎng)發(fā)射器尖端，分別對(duì)應(yīng)于真空室的電子束照射窗口。
根據(jù)用于實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明的另一方面，提供一種電子束照射器，包括具有在真空室的外周邊區(qū)域中縱向地形成的多個(gè)電子束照射窗口的真空室；放置在真空室內(nèi)的陰極，具有在其上形成的至少一個(gè)線性區(qū)和在該線性區(qū)上形成的多個(gè)場(chǎng)發(fā)射器尖端，分別對(duì)應(yīng)于電子束照射窗口；以及放置在真空室的一端的高壓電源，用于朝向陰極施加高壓。
優(yōu)選，該真空室具有與陰極的線性區(qū)平行相對(duì)的至少一個(gè)線性區(qū)，其中形成電子束照射窗口。
有益效果如上所述，本發(fā)明提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為通過(guò)使用場(chǎng)發(fā)射器尖端，在寬區(qū)域中以低能量照射電子束，以便在寬區(qū)域中可以照射電子束，而不使用電磁體，以及在高電流密度中照射電子束，而不使用加熱器如燈絲或附加電源，由此保證簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)以及減小的尺寸。
此外，根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)使用從陰極中形成的條形場(chǎng)發(fā)射器尖端發(fā)射的電子束，可以迅速地固化在寬區(qū)域中應(yīng)用的油墨或涂料，以及便于醫(yī)學(xué)物品的消毒和殺菌。
此外，根據(jù)本發(fā)明，可以簡(jiǎn)單地裝配和拆卸電子束照射器，由此增強(qiáng)裝配、替換以及維護(hù)的快速性、簡(jiǎn)單性和效率。
此外，根據(jù)本發(fā)明，該電子束照射器，可以使通過(guò)電子束照射窗口照射的電子束的加速電場(chǎng)的變形最小化，同時(shí)防止通過(guò)電子束照射窗口損壞真空室的真空狀態(tài)，以及實(shí)現(xiàn)克服真空和空氣之間壓力差的足夠承受力，同時(shí)使通過(guò)其照射電子束的金屬箔厚度最小化，由此減小通過(guò)金屬箔的電子束的損失和所得的能量損耗，。
此外，根據(jù)本發(fā)明，該電子束照射器可以在單個(gè)圓柱體單元中形成幾個(gè)電子束照射窗口，以便根據(jù)使用保證各個(gè)電子束照射窗口的獨(dú)立應(yīng)用和高操作效率，具體進(jìn)一步提高圓柱體內(nèi)的處理效率，以及允許根據(jù)照射器和目標(biāo)之間的距離變化進(jìn)行電流密度調(diào)整。
具體實(shí)施例方式
從下面結(jié)合附圖的詳細(xì)說(shuō)明將更清楚地理解本發(fā)明的上述及其他目的、特點(diǎn)以及其他優(yōu)點(diǎn)，其中

圖1是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子束照射器的分解透視圖；圖2是說(shuō)明圖1所示的電子束照射器的裝配狀態(tài)的剖面圖；圖3是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的電子束照射圖形的剖面圖；圖4是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的電子束照射窗口的分解透視圖；圖5是說(shuō)明圖4所示的電子束照射窗口的裝配狀態(tài)的剖面圖；圖6是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的電子束照射器的透視圖；圖7a至7c說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明來(lái)自圖6所示的電子束照射器的電子束照射圖形，其中圖7a根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)電子束照射窗口的圖例，其中執(zhí)行單獨(dú)的照射，圖7b是根據(jù)本發(fā)明在三個(gè)側(cè)面提供的電子束照射窗口的圖例，其中在曲面上移動(dòng)的目標(biāo)上執(zhí)行多重照射，以及圖7c是根據(jù)本發(fā)明在四個(gè)側(cè)面提供的電子束照射窗口的圖例，其中在圓柱體的內(nèi)表面上執(zhí)行多重照射；以及圖8是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的電子束照射器的工作狀態(tài)的圖例。
下面將結(jié)合附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子束照射器的分解透視圖，如下面將描述。
如圖1所示，本發(fā)明的電子束照射器包括電-陽(yáng)極的真空室1，該真空室1用于保持空內(nèi)真空，在真空室1內(nèi)縱向地居中并具有桿狀結(jié)構(gòu)2A的陰極2，在真空室1內(nèi)分別支撐陰極2的兩端的第一和第二支撐件3和4，以及用于施加高壓到陰極2的高壓電源5。
真空室1可以是在兩端具有開(kāi)口的圓柱體結(jié)構(gòu)，以及具有在該圓柱體結(jié)構(gòu)的外周邊中的基本上中間區(qū)中形成的延長(zhǎng)電子束照射窗口11。此外，第一和第二固定法蘭12和12A與真空室1的兩端集成。
陰極2形成為延長(zhǎng)的桿，具有圓形截面。在陰極2上形成場(chǎng)發(fā)射器尖端20，構(gòu)形為延長(zhǎng)的條，與真空室1中的電子束照射窗口11相對(duì)。場(chǎng)發(fā)射器尖端20優(yōu)選由碳納米管20A構(gòu)成。
碳納米管由NEC Corporation′s Fundamental Research Laboratory的Dr.Iijima Sumio在1991年發(fā)現(xiàn)，當(dāng)他通過(guò)使用放電分析石墨陰極上生長(zhǎng)的碳固體時(shí)，其中六個(gè)碳原子的六角形連接在一起變?yōu)榫哂屑s為僅僅幾納米至幾十納米直徑的管形狀。這也稱(chēng)作場(chǎng)發(fā)射器尖端。此外，納米，如1/1,000,000,000m基本上等于人頭發(fā)的1/100,000。
碳納米管顯示出高達(dá)銅的導(dǎo)電率，高達(dá)金剛石的導(dǎo)熱率，已知其特性具有最優(yōu)異的強(qiáng)度和大于鋼100倍的強(qiáng)度。碳納米管可以忍受高達(dá)15％形變，而碳纖維在僅僅1％形變時(shí)切斷。在本發(fā)明中，采用碳納米管作為電子束照射器。
當(dāng)碳納米管20A施加有高壓時(shí)，它通過(guò)場(chǎng)致發(fā)射，發(fā)射高電流密度電子束。
本發(fā)明的高壓電源5用于氣密密封真空室1的開(kāi)口以及施加高壓到陰極2。
本發(fā)明的電子束照射器包括與真空室1的第一固定法蘭12耦合的第一真空法蘭51以及固定到真空室1的第二固定法蘭12A上的第二真空法蘭6，以便從外面氣密地密封真空室1。真空法蘭51和6通過(guò)螺栓加固密封。
此外，在本發(fā)明的電子束照射器中，第一和第二支撐件3和4用于在真空室1內(nèi)在其兩端支撐陰極2。第一支撐件3包括在陰極2的一端形成的管腳插入孔31，如圖2所示，用于接收從其中的高壓電源5突出的連接器管腳52，以便提供到陰極2的電連接，同時(shí)支撐它們?cè)谶m當(dāng)?shù)奈恢谩?br> 第一支撐件3具有圍繞連接器管腳52成形并由絕緣陶瓷構(gòu)成的第一絕緣體32。第一絕緣體32在其中心部分具有管腳穿通孔321，允許高壓電源5的連接器管腳52通過(guò)。第一絕緣體32的外表面被旋入高壓電源5的絕緣體5a中設(shè)置的安裝溝槽33中。
該絕緣結(jié)構(gòu)保證沿連接器管腳52流動(dòng)的高電壓肯定地與除陰極2以外的其他元件電絕緣。
第二支撐件4包括在第二真空法蘭6的中心部分中形成的耦合溝槽45，第二絕緣體41在其后部中具有耦合突起44。后耦合突起44適合于與耦合溝槽45螺旋地耦合。
此外，第二絕緣體41具有在其前中心部分中形成的插入溝槽42，以及陰極2具有將被插入該插入溝槽42并在其中支撐的插入突起43。
此外，優(yōu)選在第一和第二絕緣體32和41的表面中形成大量突起和凹坑，延伸其表面通道，以便防止高電壓下的絕緣擊穿。
圖2是說(shuō)明圖1所示的電子束照射器的裝配狀態(tài)的剖面圖，如下面將描述。
在本發(fā)明的電子束照射器中，在真空室1的中心部分中縱向地設(shè)置陰極2，其中陰極2的一端通過(guò)第一支撐件3與高壓電源5連接，以及由此支撐，而陰極2的另一端通過(guò)第二支撐4與第二真空法蘭6連接并由此支撐在適當(dāng)?shù)奈恢?。?dāng)高壓電源5的連接器管腳52通過(guò)第一支撐件3的第一絕緣體32被插入陰極2的管腳插入孔31中時(shí)，陰極2的一端被支撐，以及當(dāng)陰極2的后插入突起43被插入第二絕緣體41的插入溝槽42中時(shí)，陰極2的另一端被支撐。
連接器管腳52通過(guò)高壓電源5電連接到電源(未示出)，以便從電源提供的高電壓被施加到陰極2。
在如上構(gòu)成的本發(fā)明的電子束照射器中，當(dāng)高電壓被施加到陰極2時(shí)，與真空室1的電子束照射窗口11相對(duì)設(shè)置的場(chǎng)發(fā)射器尖端20通過(guò)場(chǎng)致發(fā)射，發(fā)射高電流密度的電子束。由于陰極2具有圓形截面和沿圓形截面的曲線形成場(chǎng)發(fā)射器尖端20，因此如圖3所示徑向地產(chǎn)生電子束。
然后在電氣地用作陽(yáng)極的真空室1和陰極2之間用預(yù)定能量加速該電子束，以便通過(guò)真空室1的電子束照射窗口11照射該加速的電子束。
圖4和5圖示了本發(fā)明的電子束照射器中裝備的電子束照射窗口，如下面將描述。
電子束照射窗口11被設(shè)置在真空室1中，以及具有在真空室1的延長(zhǎng)的、基本上矩形的開(kāi)口中形成的基板111。基板111從真空室1整體地突出。在基板111的中心部分中形成延長(zhǎng)的矩形縫隙111A，以及在縫隙111A的外圓周中形成基本上矩形的導(dǎo)線插入溝槽111B，由此在基板111中容納金屬導(dǎo)線112。
在金屬導(dǎo)線112上密封薄的金屬箔113，以及在金屬箔113上放置蓋板114并通過(guò)螺栓加固與基板111耦合。在蓋板114的中心部分中，電子束照射縫隙114A具有基板111的縫隙111A的形狀匹配。
基板111優(yōu)選被設(shè)計(jì)成能以最小尺寸突出，以便減小加速電場(chǎng)的變形。該金屬導(dǎo)線112用作密封件，以防止真空室1內(nèi)的真空通過(guò)電子束照射窗口11損失。
在如上構(gòu)成的本發(fā)明的電子束照射器中裝備的電子束照射窗口11中，薄的金屬箔113可以肯定地承受真空和空氣之間的壓力差，由于基板111中的縫隙A具有小的寬度。由于此可以相對(duì)增加貫穿金屬箔113的電子束數(shù)量，超過(guò)貫穿厚金屬箔的電子束數(shù)量，由此減小能量損耗。因此，有利地，電子束照射窗口11可以用作用于低能量電子束的適合電子束照射窗口。
圖6是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的電子束照射器的透視圖。如圖6所示，本發(fā)明的電子束照射器具有圍繞真空室1的多個(gè)電子束照射窗口11。此外，在真空室1內(nèi)縱向地、中心地設(shè)置陰極2，以及具有分別匹配電子束照射窗口11的多個(gè)場(chǎng)發(fā)射器尖端20。
亦即，在本發(fā)明的一個(gè)電子束照射器中設(shè)置多個(gè)電子束照射窗口11，以便可以同時(shí)使用單個(gè)電子束照射窗口11，分開(kāi)地具有不同的用途，如圖7a至7c所示。此外，對(duì)圓柱體目標(biāo)的內(nèi)表面提供處理是有效的，以及通過(guò)徑向地照射電子束，可以根據(jù)照射器和目標(biāo)之間的距離變化調(diào)整電流密度。
如圖7a所示，利用在真空室1的兩側(cè)形成的電子束照射窗口11，本發(fā)明的電子束照射器可以對(duì)目標(biāo)提供處理，而它們?cè)谡婵帐?外面沿箭頭S線性地移動(dòng)。此外，如圖7b所示，利用在真空室1的三個(gè)側(cè)面設(shè)置的三個(gè)電子束照射窗口11，電子束照射器可以對(duì)目標(biāo)提供處理，該目標(biāo)在箭頭S的方向中在電子束照射窗口11周?chē)€性地移動(dòng)。
此外，如圖7c所示，在真空室1的四個(gè)側(cè)面形成四個(gè)電子束照射窗口11，本發(fā)明的電子束照射器可以對(duì)圓柱體目標(biāo)提供處理，而該目標(biāo)在圓柱體內(nèi)在箭頭S的方向中旋轉(zhuǎn)。
由于通過(guò)使用旋轉(zhuǎn)電動(dòng)機(jī)(未示出)和電力傳輸(未示出)可以容易地制成用于旋轉(zhuǎn)真空室1的機(jī)構(gòu)，這些在技術(shù)上是公共的，因此它們將不被詳細(xì)描述。
圖8是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的電子束照射器的工作狀態(tài)的圖例。
圖8所示的本發(fā)明的電子束照射器包括具有在真空室1上縱向地形成的多個(gè)電子束照射窗口11。
真空室1優(yōu)選在外表面上具有線性區(qū)1a，其上形成電子束照射窗口11。
在真空室1內(nèi)，提供具有多個(gè)場(chǎng)發(fā)射器尖端20的陰極2。陰極2具有與真空室1的線性區(qū)1平行相對(duì)的至少一個(gè)線性區(qū)2a。在線性區(qū)2a上，對(duì)應(yīng)于電子束照射窗口11分別放置場(chǎng)發(fā)射器尖端20。此外，在真空室1中設(shè)置用于朝向陰極2施加高電壓的高壓電源(未示出)。
該場(chǎng)發(fā)射器尖端20優(yōu)選由碳納米管20A構(gòu)成。
本發(fā)明的電子束照射器可以有利地處理真空室1外面的目標(biāo)，同時(shí)該目標(biāo)在箭頭S的方向沿線性區(qū)1a線性地移動(dòng)。該布置的優(yōu)點(diǎn)是在短時(shí)期內(nèi)可以同時(shí)照射大量劑量。
應(yīng)當(dāng)理解，盡管相對(duì)于幾個(gè)可能的優(yōu)選實(shí)施例說(shuō)明和描述了本發(fā)明，但是這種實(shí)施例僅僅是說(shuō)明性的，以及本發(fā)明沒(méi)有理由被限于此。相反，打算對(duì)于所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)無(wú)疑將發(fā)生體現(xiàn)本發(fā)明的原理的改進(jìn)和改變。因此發(fā)明應(yīng)該延伸至所有這種改進(jìn)和改變，如在附加權(quán)利要求的全部精神和范圍內(nèi)可以引入本發(fā)明的廣泛原理。具體，盡管可以不同地提出材料替換、簡(jiǎn)單的功能增加、簡(jiǎn)單的形狀改變和尺寸改變，很明顯這些應(yīng)該屬于本發(fā)明的權(quán)利范圍。
工業(yè)實(shí)用性如上所述，本發(fā)明提供一種電子束照射器，該電子束照射器設(shè)計(jì)為通過(guò)使用場(chǎng)發(fā)射器尖端，在寬區(qū)域中用低能量照射電子束，以便可以在寬區(qū)域中照射電子束，而不使用電磁體，以及可以用高電流密度，而不使用加熱器如燈絲或附加電源，由此保證簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)以及減小的尺寸。
權(quán)利要求
1.一種電子束照射器，包括真空室，具有在真空室的外周邊縱向地形成的電子束照射窗口；在真空室內(nèi)中心地和縱向地放置的陰極，并具有在陰極上形成的場(chǎng)發(fā)射器尖端，對(duì)應(yīng)于電子束照射窗口；以及在真空室的一端放置的高壓電源，用于朝向陰極施加高壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的電子束照射器，其中該場(chǎng)發(fā)射器尖端由碳納米管制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的電子束照射器，其中陰極是具有圓形截面的桿狀結(jié)構(gòu)，以及包括在桿狀結(jié)構(gòu)的外周邊中縱向地形成的條形場(chǎng)發(fā)射器尖端。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的電子束照射器，其中沿陰極的圓形截面形成場(chǎng)發(fā)射器尖端，以徑向地發(fā)射電子束。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3的電子束照射器，還包括在真空室的兩端整體地設(shè)置的固定法蘭；與固定法蘭之一耦合并具有高壓電源的第一真空法蘭；與另一固定法蘭耦合的第二真空法蘭；第一支撐件，包括在陰極的一端形成的管腳插入孔和在高壓電源中形成的、用于通過(guò)高壓電源的連接器管腳的第一絕緣體，以便該連接器管腳通過(guò)第一絕緣體插入陰極的管腳插入孔中；以及第二支撐件，包括在第二真空法蘭的中心部分中縱向地和軸向地設(shè)置的第二絕緣體中形成的插入溝槽，以便在陰極的另一端形成的插入突起被插入該插入溝槽中，以支撐陰極。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的電子束照射器，其中第二支撐件的第二絕緣體具有在第二絕緣體上形成的多個(gè)突起和凹坑，以延伸其表面通道，以便防止高電壓下的絕緣擊穿。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的電子束照射器，其中該電子束照射窗口包括基板，固定到真空室，從真空室略微地突出到外面，以及具有在其中心區(qū)中形成的延長(zhǎng)矩形縫隙；金屬導(dǎo)線，插入基板縫隙的外周邊中形成的插入溝槽中；金屬箔，放置在金屬導(dǎo)線上并具有一區(qū)域，該區(qū)域略微地大于被金屬導(dǎo)線圍繞的區(qū)域；以及與基板耦合的蓋板，對(duì)應(yīng)于基板的縫隙，以及具有對(duì)應(yīng)于基板中心區(qū)中的縫隙的電子束照射縫隙。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或3的電子束照射器，其中該真空室是圓柱體，具有在其外周邊中形成的多個(gè)電子束照射窗口，以及其中在真空室內(nèi)放置的陰極具有在陰極的外周邊中形成的場(chǎng)發(fā)射器尖端，分別對(duì)應(yīng)于真空室的電子束照射窗口。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的電子束照射器，其中在真空室的兩側(cè)形成該電子束窗口，以為在真空室外面線性地移動(dòng)的目標(biāo)提供處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的電子束照射器，其中在真空室的三個(gè)側(cè)面形成電子束窗口，以為在真空室周?chē)苿?dòng)的目標(biāo)提供處理。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的電子束照射器，其中在真空室的四個(gè)側(cè)面形成電子束窗口，以對(duì)圓柱體目標(biāo)提供處理，同時(shí)該真空室在圓柱體內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
12.一種電子束照射器，包括真空室，具有在真空室的外圍區(qū)中縱向地形成的多個(gè)電子束照射窗口；陰極，放置在真空室內(nèi)，以及具有在其上形成的至少一個(gè)線性區(qū)和在該線性區(qū)上形成的多個(gè)場(chǎng)發(fā)射器尖端，分別對(duì)應(yīng)于該電子束照射窗口；以及高壓電源，放置在真空室的一端，并用于朝向陰極施加高壓。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的電子束照射器，其中該真空室具有與陰極的線性區(qū)平行相對(duì)的至少一個(gè)線性區(qū)，其中形成電子束照射窗口。
全文摘要
本發(fā)明提供一種電子束照射器，該電子束照射器能用場(chǎng)發(fā)射器尖端，在高電流密度下，在寬區(qū)域中執(zhí)行電子束照射。該電子束照射器包括具有在真空室的外周邊縱向地形成的電子束照射窗口的真空室；在真空室內(nèi)中心地和縱向地放置的陰極，并具有在陰極上形成的場(chǎng)發(fā)射器尖端，對(duì)應(yīng)于電子束照射窗口；以及在真空室的一端放置的高壓電源，用于朝向陰極施加高壓。根據(jù)本發(fā)明，可以在寬區(qū)域中進(jìn)行電子束照射，而不使用電磁體，以及用高電流密度，而不使用加熱器如燈絲或附加電源，由此保證簡(jiǎn)化的結(jié)構(gòu)以及減小的尺寸。
文檔編號(hào)H01J31/02GK1954402SQ200580007663
公開(kāi)日2007年4月25日 申請(qǐng)日期2005年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月9日
發(fā)明者李炳鐵, 林永暻, 韓泳煥, 鄭永旭, 樸圣姬, 李鐵真, 李泰宰 申請(qǐng)人:韓國(guó)原子力研究所