專利名稱：光反射體及使用該光反射體的面光源裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光反射體及使用該光反射體的面光源裝置，該光反射體作為用于面光源裝置的反射板、反射器以及各種照明器具中使用的光反射用部件是有用的。
背景技術：
配置有內置式光源的背光型液晶顯示器正廣泛普及。背光型的內置光源中，直下式背光的典型結構如圖2所示，其由起到結構體兼光反射體作用的外罩11、擴散板14、及冷陰極燈15等光源組成。側光式背光的典型結構如圖3所示，由對透明的亞克力板(acrylic plate)13進行網點印刷12后的導光板、光反射體11、擴散板14、及冷陰極燈15等光源組成。任何來自光源的光均被光反射體反射，在擴散板上形成均勻的面狀光。近年來對照明光源也謀求一些改良，例如高輸出化和增加光源燈數等。為了在伴隨著顯示物的大型化的同時提高亮度，有時也如圖2、圖3所示那樣設置多個光源。
迄今為止，本用途的光反射體大都使用白色聚酯膜(例如，特開平4-239540號公報)。但是，近年來由于光量的增加及由于來自燈的熱量所致的氛圍溫度的高溫化，在光發(fā)射體使用了白色聚酯膜的情況下，存在引起光反射體的色調變化(變黃)的問題，所以要求變色更少的原料。
因而近年來有提案提出了使用白色聚烯烴膜的光反射體(例如，特開平6-298957號公報和特開2002-31704號公報)。而且，還提出了色調變化小于使用白色聚酯膜的光反射體的白色聚烯烴膜的提案(例如，特開平8-262208號公報和特開2003-176367號公報)。但是，近年來伴隨顯示物的大型化，進一步要求提高亮度，以往的白色聚酯膜或白色聚烯烴膜不能充分滿足該要求。故需要更高亮度、高反射率的光反射體。

發(fā)明內容
本發(fā)明的課題是，通過使光反射體的結構具有特征，來提供一種高反射率的光反射體，該光反射體實現了從未有過的亮度的提高。
本發(fā)明人進行潛心研究提供出一種光反射體，所述光反射體為一種層積膜，該層積膜中，在具有光反射層功能的基材層(A)上設置表面具有固有粗糙度、且具有高效擴散光的功能的光擴散層(B)，其中由于光反射體表面被賦予光擴散性能，因而使反射性能得到飛躍提高；該層積膜被賦予下述特性其表面粗糙度指數Z為1以上、反射率為95％以上、正反射率為3％以下，由此使本發(fā)明得到了完成。
本發(fā)明的光反射體的特征在于，其由在基材層(A)的單面具有光擴散層(B)的層積膜構成，對于光反射體的光反射面，其由式(1)所示的表面粗糙度指數Z為1以上，在波長550nm處的反射率R1為95％以上，由式(2)所示的波長550nm處的正反射率R2為3％以下。
正反射率R2＝反射率R1-擴散反射率R3式(2)其中，R3為波長550nm處的擴散反射率。
對于本發(fā)明的層積膜，其由式(3)所示的散射系數S優(yōu)選為0.5以上，亮度優(yōu)選為1430cd/m2以上；基材層(A)含有熱塑性樹脂和填料，至少向單軸方向拉伸，且面積拉伸倍率為1.3倍～80倍；基材層(A)的填料濃度為5重量％～75重量％；該填料優(yōu)選平均粒徑為0.05μm～1.5μm的無機填料和/或平均分散粒徑為0.05μm～1.5μm的有機填料；光擴散層(B)的填料濃度為5重量％～90重量％，該填料優(yōu)選平均粒徑為0.05μm～15μm的無機填料和/或平均分散粒徑為0.05μm～15μm的有機填料。特別優(yōu)選使用經表面處理的無機填料。
其中，TA為基材層(A)的厚度[單位為μm]，P為式(4)所示的空隙率[單位為％]。
其中，ρ0是層積膜的真密度，ρ是基材層(A)的密度。
并且，層積膜優(yōu)選在基材層(A)的與具有光擴散層(B)的面相反一側的面上具有中間層(C)，與光反射面相反一側的面的表面強度優(yōu)選為250g以上，光反射面的表面強度優(yōu)選為250g以上，光擴散層(B)的厚度優(yōu)選為0.5μm～20μm。
并且，層積膜的空隙率P優(yōu)選為15％～60％，該熱塑性樹脂優(yōu)選為聚烯烴類樹脂。而且，本發(fā)明還提供使用了上述光反射體的面光源裝置。
本發(fā)明的光反射體的反射率高且光擴散性優(yōu)異。使用本發(fā)明的光反射體制造的面光源裝置為高亮度，非常有用。


圖1是光反射體基材結構的例圖。
圖2是表示直下式背光的結構的截面圖。
圖3是表示側光式背光的結構的截面圖。
圖中，1為基材層(A)、2為光擴散層(B)、3為中間層(C)、11為光反射體(外罩)、12為網點印刷、13是亞克力板、14為擴散板、15為冷陰極燈。
具體實施例方式
下面詳細說明本發(fā)明的光反射體的結構和效果。另外，在本發(fā)明中“～”是指以其前后記載的數值分別作為最小值和最大值所包括的范圍。
為了高效地反射可見光線，具有光反射層功能的基材層(A)優(yōu)選含有多個空隙(空孔)，該空隙的厚度控制在可見光線的波長尺寸。基材層(A)優(yōu)選含有熱塑性樹脂和填料。
執(zhí)塑性樹脂本發(fā)明的基材層(A)中使用的熱塑性樹脂的種類沒有特別限定。作為基材膜中所使用的熱塑性樹脂(A)，可以舉出高密度聚乙烯、中密度聚乙烯、低密度聚乙烯等乙烯類樹脂；丙烯類樹脂、聚甲基-1-戊烯、乙烯-環(huán)狀烯烴共聚物等聚烯烴類樹脂；尼龍-6、尼龍-6，6、尼龍-6，10、尼龍-6，12等聚酰胺類樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯或其共聚物、聚萘二酸乙二酯、脂肪族聚酯等熱塑性聚酯類樹脂；聚碳酸酯、無規(guī)聚苯乙烯、間規(guī)立構聚苯乙烯、聚苯硫醚等熱塑性樹脂。這些化合物可以2種以上混合使用。
在上述化合物中，從耐化學性或生產成本等方面考慮，優(yōu)選使用聚烯烴類樹脂，更優(yōu)選使用丙烯類樹脂。
作為丙烯類樹脂，可以使用丙烯均聚物，也可以使用作為主成分的丙烯與乙烯、1-丁烯、1-己烯、1-庚烯、4-甲基-1戊烯等α-烯烴的共聚物。對所述丙烯類樹脂的立體規(guī)則性沒有特別限定，可以使用顯示出等規(guī)立構或間規(guī)立構以及各種程度的立體規(guī)則性的物質。另外，共聚物可以是2元、3元、4元體系，也可以是無規(guī)共聚物、嵌段共聚物。
優(yōu)選在基材層(A)中使用25重量％～95重量％的上述熱塑性樹脂，該使用量更優(yōu)選為30重量％～90重量％。若基材層(A)中的熱塑性樹脂的含量為25重量％以上，則在后述層積膜的拉伸成型時具有不易在表面產生損傷的傾向；若為95重量％以下，則具有易得到充分的空隙數的傾向。
填料作為與熱塑性樹脂同時用于本發(fā)明的基材層(A)的填料，可以舉出各種無機填料或有機填料。
作為無機填料，可以列舉重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣、煅燒粘土、滑石、氧化鈦、硫酸鋇、硫酸鋁、氧化硅、氧化鋅、氧化鎂、硅藻土等。另外，還可以舉出上述無機填料經各種表面處理劑處理得到的表面處理品。其中，若使用重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣及它們的表面處理品、粘土、硅藻土，則價格低廉，且拉伸時的空隙形成性好，因而優(yōu)選。進一步優(yōu)選重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣經各種表面處理劑處理而得到的表面處理品。作為表面處理劑，例如優(yōu)選為樹脂酸、脂肪酸、有機酸、硫酸酯型陰離子表面活性劑、磺酸型陰離子表面活性劑、石油樹脂酸；上述物質的鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等鹽；或上述物質的脂肪酸酯、樹脂酸酯；蠟、石蠟等，還優(yōu)選為非離子型表面活性劑、二烯類聚合物、鈦酸酯類偶聯劑、硅烷類偶聯劑、磷酸類偶聯劑等。作為硫酸酯型陰離子表面活性劑，例如，可以舉出長鏈醇硫酸酯、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯、硫酸化油等或它們的鈉鹽、鉀鹽等鹽；作為磺酸型陰離子表面活性劑，可以舉出烷基苯磺酸、烷基萘磺酸、石蠟磺酸、α-烯烴磺酸、烷基磺基琥珀酸等或它們的鈉鹽、鉀鹽等鹽。另外，作為脂肪酸，例如，可以舉出己酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸、山萮酸、油酸、亞油酸、亞麻酸、桐酸等；作為有機酸，例如，可以舉出馬來酸、山梨酸等；作為二烯類聚合物，例如，可以舉出聚丁二烯、異戊二烯等；作為非離子類表面活性劑，可以舉出聚乙二醇酯類表面活性劑等。上述表面活性劑可以使用1種，或2種以上組合使用。
作為使用上述表面活性劑對無機填料進行表面處理的方法，例如，可以使用特開平5-43815號公報、特開平5-139728號公報、特開平7-300568號公報、特開平10-176079號公報、特開平11-256144號公報、特開平11-349846號公報、特開2001-158863號公報、特開2002-220547號公報、特開2002-363443號公報等所述的方法。
作為有機填料，可以使用所具有的熔點或玻璃轉移點(例如，120℃～300℃)比熱塑性樹脂的熔點或玻璃轉移點高的物質。例如，可以舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚萘二酸乙二酯、聚苯乙烯、三聚氰胺樹脂、環(huán)狀烯烴均聚物、環(huán)狀烯烴和乙烯的共聚物、聚亞硫酸乙二酯(ポリエチレンサルフアイト)、聚酰亞胺、聚乙基醚酮、聚亞硫酸苯二酯(ポリフエニレンサルフアイト)等。其中，從空隙形成方面考慮，優(yōu)選使用熔點或玻璃轉移溫度高于所用的聚烯烴類樹脂的非相容性的有機填料。
在基材層(A)中，可以從無機填料或有機填料中選擇1種單獨使用，也可以選擇2種以上組合使用。2種以上組合使用的情況下，可以混合使用有機填料和無機填料。
無機填料的平均粒徑和有機填料的平均分散粒徑例如可根據下述方法求得利用顯微跟蹤法求得、通過電子掃描顯微鏡觀察一次粒徑(本發(fā)明中將100個粒子的平均值作為平均粒徑)、由比表面積換算(本發(fā)明中使用(株)島津制作所制的粉體比表面積測定裝置SS-100測定比表面積)求得；等等。
為了對通過后述的層積膜的拉伸成型而產生的空隙尺寸進行調整，優(yōu)選使用上述無機填料的平均粒徑或有機填料的平均分散粒徑分別為0.05μm～1.5μm的填料，更優(yōu)選使用上述無機填料的平均粒徑或有機填料的平均分散粒徑分別為0.1μm～1μm的填料。如果使用平均粒徑或平均分散粒徑為1.5μm以下的填料，則具有更易均一形成空隙的傾向。另外，如果使用平均粒徑或平均分散粒徑為0.05μm以上的填料，則具有更容易得到規(guī)定空隙的傾向。
為了對通過后述的層積膜的拉伸成型而產生的空隙量進行調整，上述填料在構成基材層(A)的拉伸膜中的的混合量優(yōu)選為5重量％～75重量％，更優(yōu)選為10重量％～70重量％。若填料的混合量為5重量％以上，則具有易得到充分的空隙數的傾向。另外，若填料的混合量為75重量％以下，則具有更不易造成表面損傷的傾向。
其他成分構成基材層(A)的主要樹脂是丙烯類樹脂的情況下，為了改善拉伸性，可以混合3重量％～25重量％的聚乙烯、乙烯乙酸乙烯酯等熔點低于丙烯類樹脂的樹脂。
本發(fā)明中使用的基材層(A)可以是單層結構，也可以是多層結構?；膶?A)的厚度優(yōu)選為30μm～1000μm，更優(yōu)選為40μm～400μm，進一步優(yōu)選為50μm～300μm。
具有光擴散功能的光擴散層(B)優(yōu)選具有多個微細的凹凸以便有效反射可見光線。
光擴散層(B)可以僅形成在基材層(A)的光反射面，也可以形成在其兩面。微細凹凸的尺寸通常為0.1μm～2.5μm，優(yōu)選為0.2μm～1.5μm，更優(yōu)選為0.2μm～1.0μm，特別優(yōu)選為可見光線的波長尺寸(0.38μm～0.78μm)。
即，在本發(fā)明中有如下發(fā)現即，通過在現有的光反射基材上層疊高效擴散反射可見光線的光擴散層，可使光反射體表面附近的擴散反射的比例得到增加，同時可謀求綜合光反射的提高，由此使得到的光反射體的光反射率更高、亮度更高，從而完成了本發(fā)明。
光擴散層(B)中所使用的熱塑性樹脂和填料可以與基材層(A)中所使用的材料相同。此時，可以根據填料的粒徑，調整光反射層(B)的微細凹凸的尺寸。填料的粒徑越靠近可見光線的波長，光擴散性能越高。因此，填料的粒徑優(yōu)選為0.05μm～1.5μm，更優(yōu)選為0.1μm～1.0μm，進一步優(yōu)選為0.2μm～0.7μm。填料的粒徑為0.05μm以上時，由于易于形成表面凹凸，因而具有容易得到更好的光擴散性能的傾向。若為1.5μm以下，則表面凹凸的過度增大得到抑制，具有易于維持良好的光擴散性能的傾向。在能夠保持表面強度的范圍內，以高濃度混合填料，從而提高光擴散性能。填料的濃度優(yōu)選為5重量％～90重量％，更優(yōu)選為30重量％～80重量％，進一步優(yōu)選為45重量％～70重量％?；旌狭繛?重量％以上時，由于易于形成表面凹凸，因而具有容易得到更好的光擴散性能的傾向?；旌狭繛?0重量％以下時，具有易于將表面強度維持為一定程度以上的傾向。
光擴散層(B)的厚度優(yōu)選為0.5μm～20μm，更優(yōu)選為1μm～15μm，進一步優(yōu)選為2μm～6μm。若為0.5μm以上，則容易賦予充分的光擴散性能，因而具有容易達成良好的反射率的傾向。若為20μm以下，則不易對基材層的反射性能進行阻礙，具有更容易抑制反射率下降的傾向。
構成構成本發(fā)明的光反射體的層積膜可以僅由基材層(A)和光擴散層(B)構成，除此之外，還可以附加中間層(C)或適當的材料。例如，該層積膜可以具有在基材層(A)的兩面層積光擴散層(B)的結構，也可以在基材層(A)的與含有光擴散層(B)的面相對一側的面或在基材層(A)與光擴散層(B)之間等位置具有中間層(C)。具體地講，可以舉出具有(B)/(A)、(B)/(A)/(B)、(B)/(A)/(C)、(B)/(C)/(A)、(B)/(C)/(A)/(B)、(B)/(C)/(A)/(C)/(B)等結構的層積膜。
中間層(C)可以使用與基材層(A)中使用的材料相同的熱塑性樹脂。并且，中間層(C)也可以含有上述填料，填料的混合量可以優(yōu)選為0重量％～20重量％，更優(yōu)選為0重量％～10重量％，進一步優(yōu)選為0重量％～5重量％，特別優(yōu)選為0重量％～3重量％。中間層(C)的厚度優(yōu)選為1μm以上，更優(yōu)選為2μm～30μm，進一步優(yōu)選為3μm～20μm。若為1μm以上，則光反射體的表面強度得到提高，具有容易提高加工性能的傾向。
添加劑在本發(fā)明的層積膜中，根據需要還可以混合熒光增白劑、穩(wěn)定劑、光穩(wěn)定劑、分散劑、潤滑劑等。作為穩(wěn)定劑，可以混合0.001重量％～1重量％的立體位阻酚類或磷類、胺類等穩(wěn)定劑；作為光穩(wěn)定劑，可以混合0.001重量％～1重量％的立體位阻胺或苯并三唑類、二苯甲酮類等光穩(wěn)定劑；作為無機填料的分散劑，可以混合0.01重量％～4重量％的硅烷偶聯劑、油酸或硬脂酸等高級脂肪酸、金屬皂、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸或上述化合物的鹽等。
成型作為層積膜的成型方法，可以使用普通的單軸拉伸或雙軸拉伸方法。作為具體例子，可以舉出如下的方法使用與螺桿型擠出機相連接的單層或多層T型?；騃型模將熔融樹脂以薄片狀擠出，然后以利用輥組的線速度差的縱向拉伸進行單軸拉伸的方法；以及將該單軸拉伸與隨后進行的使用拉幅機烘箱的橫向拉伸進行組合的雙軸拉伸的方法；或利用拉幅機烘箱和直線電動機的組合同時進行雙軸拉伸的方法等。
為了形成由基材層(A)和光擴散層(B)構成的層積膜，可以使用如下方法例如，在基材層(A)的拉伸成型前，使用多層T型?；騃型模，共擠出光擴散層(B)的熔融原料，對得到的層積體進行拉伸成型來設置的方法；上述基材層(A)為雙軸拉伸時，在單軸方向的拉伸結束之后，擠出光擴散層(B)的熔融原料并粘合，對該層積體進行單軸拉伸成型來設置的方法；通過拉伸成型得到上述基材層(A)之后，在其上直接粘貼或通過粘合層間接粘貼光擴散層(B)的原料樹脂來設置的方法；等等。形成中間層(C)時，也可以采用與之相同的方法。
拉伸溫度是比所使用的熱塑性樹脂的熔點低2℃～60℃、比玻璃轉移溫度高2℃～60℃的溫度，樹脂是丙烯均聚物(熔點為155℃～167℃)時，拉伸溫度優(yōu)選為95℃～165℃；樹脂為聚對苯二甲酸乙二酯(玻璃轉移溫度約為70℃)時，拉伸溫度優(yōu)選為100℃～130℃。另外，拉伸速度優(yōu)選為20m/分鐘～350m/分鐘。
并且，可以根據需要對所得到的層積膜進行熱處理(軟化處理，annealing)，從而促進結晶化、或降低層積膜的熱收縮率等。
為了調整層積膜中所產生的空隙的大小，基材層(A)的面積拉伸倍率優(yōu)選為1.3倍～80倍，更優(yōu)選為7倍～70倍，進一步優(yōu)選為22倍～65倍，最優(yōu)選為25倍～60倍。若面積拉伸倍率在1.3倍～80倍的范圍內，則容易得到微細的空隙，而且容易抑制反射率的降低。
為了對本發(fā)明的層積膜中每單位體積所產生的空隙量進行調整，空隙率優(yōu)選為15％～60％，更優(yōu)選為20％～55％。在本說明書中的“空隙率”是指根據上述式(4)計算的值。式(4)中的ρ0表示真密度，ρ表示密度(JIS-P8118)。只要拉伸前的材料不含有大量的空氣，真密度與拉伸前的密度幾乎是相等的。
本發(fā)明中所使用的層積膜的密度通常在0.5g/cm3～1.2g/cm3的范圍?？障对蕉鄤t密度越小，空隙率越大。若空隙率大，則能進一步改善表面的反射特性。
本發(fā)明的光反射體含有上述層積膜。本發(fā)明的光反射體的表面粗糙度指數Z為1以上，優(yōu)選為1～1000，更優(yōu)選為2～100，特別優(yōu)選為3～10。表面粗糙度指數Z是指表面凹凸的程度，與光反射體的每單位面積的微細凹凸的數量成正比。表面粗糙度指數Z小于1時，具有正反射率升高、反射率下降的傾向，面光源裝置中的亮度下降，所以不理想。為了使表面粗糙度指數Z在1以上、正反射率R2在3％以下，可以采用如下方法例如，從結構易于微細化、且生產率好的方面考慮，在光擴散層(B)中添加無機填料和/或有機填料，利用填料對表面賦予微細凹凸的方法；使用軋紋輥(embossing roll)對表面賦予微細凹凸的方法；特別優(yōu)選在光擴散層(B)中添加粒徑接近于可見光線的波長尺寸(0.38μm～0.78μm)的填料并進行拉伸的方法等。
以550nm的波長測定的反射率R1為95％以上，優(yōu)選為97％以上，更優(yōu)選為98％～100％。正反射率R2為3％以下，優(yōu)選為2.5％以下，更優(yōu)選為2％～0％。反射率小于95％時，面光源裝置的亮度低，所以不理想。并且，正反射率R2大于3％時，反射率R1有下降的傾向，面光源裝置的亮度下降，所以不理想。為了使反射率R1在95％以上，可以采用如下的方法例如，從結構易于微細化、且生產率良好的方面考慮，在基材層(A)中添加粒徑接近于可見光線的波長尺寸(0.38μm～0.78μm)的填料并進行拉伸，從而形成多個厚度接近于可見光線的波長尺寸的空隙的方法；或者，在基材層(A)中高濃度地添加折射率高、粒徑接近于可見光線的波長尺寸的填料的方法等。
另外，對于本發(fā)明的光反射體，其以上述式(3)定義的散射系數S優(yōu)選為0.5以上，更優(yōu)選為0.6～100，進一步優(yōu)選為0.8～50。散射系數S是指每單位體積的空隙對光的散射程度，與R1成正比，與基材層(A)的厚度TA和空隙率P成反比。利用本發(fā)明能在基材層(A)上大量形成更微細的且大小均勻的扁平狀空隙，由此可以使基材層(A)的厚度不必為必需厚度以上就能得到作為光反射體所希望的亮度。
光反射體的亮度可以利用后述的方法測定。本發(fā)明的光反射體的亮度優(yōu)選為1430cd/m2以上，更優(yōu)選為1450cd/m2以上，進一步優(yōu)選為1460cd/m2～3000cd/m2，特別優(yōu)選為1470cd/m2～2000cd/m2。
本發(fā)明的光反射體中，與光反射面相對一側的面(非反射面)的表面強度優(yōu)選為250g以上，更優(yōu)選為270g～1000g。并且，光反射體的光反射面的表面強度優(yōu)選為250g以上，更優(yōu)選為270g～1000g。若表面強度小于250g，則在使用光反射體時，表面容易受傷，有時產生表面破壞等問題。
本說明書中，所謂的表面強度如后述的測定方法所示，是在光反射體的測定面粘合寬為18mm的膠帶并以300mm/min的速度剝離時的剝離荷重。若表面強度在250g以上，則將本發(fā)明的光反射體粘合在板材上進行各種成型加工時，能避免發(fā)生起皮或脫落等問題。
本發(fā)明的光反射體的形狀沒有特別限定，可根據使用目的和使用方式適當決定。通常設計成板狀和膜狀使用，可以以其它形狀使用，只要作為光反射體使用，就包括在本發(fā)明的范圍內。
使用本發(fā)明的光反射體，能夠制造面光源裝置。本發(fā)明的面光源裝置的具體結構沒有特別限制。典型的面光源裝置至少具備光源、導光板、光反射板，優(yōu)選還具備擴散板。例如，可以舉出如圖2所示的直下式背光、圖3所示的側光式背光。本發(fā)明的光反射體作為構成其中的側光式背光等的光反射體是非常有用的。使用了本發(fā)明的光反射體的側光式背光中，光反射體能夠將從導光板露出的光無亮度斑而均勻地反射到面方向，所以能夠給看到的人以自然的感覺。
本發(fā)明的面光源裝置能夠有效地配置在液晶顯示器等中。用于液晶顯示器的情況下，能夠長期維持良好的畫質和亮度。
本發(fā)明的光反射體不限于這種面光源裝置，還可以用于希望不使用內置式光源而將室內光反射的低功耗型的顯示裝置。并且，在室內外照明用、燈飾招牌用光源的背面上也能夠廣泛利用。
下面，記載實施例、比較例、試驗例，進一步具體說明本發(fā)明。下面所示的材料、使用量、比例、操作等，在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內，可以適當變更。因此，本發(fā)明的范圍不限于下面所示的具體例。另外，表1示出本實施例中使用的材料。
表1

(實施例1)將表1所述的材料按照表2所示的配比進行混合，將所得到的組合物(A)、組合物(B)以及組合物(C)分別使用擠出機在250℃熔融混煉。然后，供給到一臺共擠出模，在模內將(B)層積到(A)的表面、將(C)層積到(A)的背面，然后以薄片狀擠出，用冷卻輥冷卻至約60℃，得到B/A/C層積物。
將上述層積物再次加熱至145℃后，利用多個輥組的線速度差進行縱向拉伸，然后再加熱至約150℃用拉幅機進行橫向拉伸。接著，將該層積物再次加熱至160℃后，用拉幅機進行橫向拉伸。之后在160℃進行軟化處理，然后冷卻至60℃，切去飛邊，得到三層結構的層積膜。將上述層積膜作為光反射體。
(實施例2)將表1所述的材料按照表2所示的配比進行混合，將所得到的組合物(A)以擠出機在250℃熔融混煉。然后以薄片狀擠出，用冷卻輥冷卻至約60℃，得到基材層(A)。將上述基材層(A)加熱至145℃后，利用多個輥組的線速度差以表2所述的倍率縱向拉伸。
將表1所述的材料按照表2所示的配比進行混合，對所得到的組合物(B)、(C)進行熔融混煉，將該混煉物熔融擠出到所得到的基材層(A)的兩面，以B/C/A/C的方式層積光擴散層(B)、中間層(C)。接著，將該層積物再次加熱至160℃，用拉幅機以表2所述的倍率橫向拉伸。然后在160℃進行軟化處理，接著冷卻至60℃，切去飛邊，得到具有表2所述厚度的四層結構的層積膜(圖1)。將上述層積膜作為光反射體。
(實施例3)將表1所述的材料按照表2所述的配比混合，除此之外，采用與實施例2相同的方式，得到光反射體。
(比較例1)將表1所述的材料按照表2所示的配比進行混合，將所得到的組合物(A)以擠出機在250℃熔融混煉。然后以薄片狀擠出，用冷卻輥冷卻至約60℃，得到基材層(A)。將該基材層(A)再次加熱至145℃后，利用多個輥組的線速度差以表2所述的倍率縱向拉伸。
將表1所述的材料按照表2所示的配比進行混合，對所得到的組合物(C)進行熔融混煉，將該混煉物熔融擠出到所得到的基材層(A)的兩面，以C/A/C的方式層積中間層(C)。接著，將該層積物再次加熱至160℃，用拉幅機以表2所述的倍率橫向拉伸。然后在160℃進行軟化處理，接著冷卻至60℃，切去飛邊，得到具有表2所述厚度的三層結構的層積膜。將上述層積膜作為光反射體。
(比較例2)將特開2002-031704號公報的實施例5作為光反射體。
(試驗方法)使用實施例1～5和比較例1、2的光反射體進行下面的試驗。
1)光反射面的表面積Sf、凹凸部的體積V使用超深度形狀測定顯微鏡(VK8510(株)Keyence制)，以2000倍的倍率測定光反射體的光反射面，將其光反射面的表面積作為Sf、凹凸部的體積作為V。
2)反射率R1將按照JIS-Z8722條件d所述的方法所測定的波長550nm的反射率作為R1。
3)擴散反射率R3按照JIS-Z8722條件d所述的方法，使用光學捕獲，分割正反射成分，將波長550nm的反射率作為擴散反射率R3。
亮度圖3所示的14英寸大小的面光源裝置中，在11位置處設置各光反射體，將HARRISON社(制)反相器元件連接在冷陰極燈15上。使冷陰極燈15中流過12V、6mA的管電流，點亮光源進行照射，3小時后進行下面的評價。測定亮度時，使用(株)TOPCON社制亮度計(商品名BM-7)，使亮度測定部位相對于面光源裝置的法線方向的距離為50cm，測定共9點的亮度，計算其平均值。
4)表面強度在光反射體的測定面上粘合長度為100mm以上、寬度為18mm的膠帶(NICHIBAN制、商品名Cellotape(注冊商標))，并留下最后10mm以上的膠帶不進行粘合，注意粘合時不要進入空氣。將上述試料切成20mm寬。采用拉伸試驗機((株)ORIENTEC制、商品名RTM-250)，使用荷重5kg用的測壓元件，使夾具間隔為1cm，將未粘合的膠帶部分和未粘合膠帶的光反射體部分夾在各上下夾具之間。以300mm/min的速度拉伸，讀出繪圖(chart)穩(wěn)定部分的荷重。測定3次，計算其平均值，求出表面強度。
5)加工性使用粘合劑(東洋Morton社制、商品名TM590)和固化劑(東洋Morton社制、商品名CAT56)，將由實施例和比較例得到的光反射體干裱(drylamination)在不銹鋼板(SUS#5052，厚度為0.6mm)上，并將此作為樣品。在光反射體側用壓力機對2處彼此反向地以90°的角度彎曲加工，使其變成峰和谷，以下面的兩個等級進行評價。
○未見從不銹鋼板的起皮或剝離。
×觀察到從不銹鋼板的起皮或剝離。
上述各測定結果如表2和表3所示。
表2

表2(續(xù))

表3

權利要求
1.一種光反射體，所述光反射體由在基材層(A)的單面具有光擴散層(B)的層積膜構成，其特征在于，對于所述光反射體的光反射面，其以式(1)所示的表面粗糙度指數Z為1以上，波長550nm處的反射率R1為95％以上，以式(2)所示的波長550nm處的正反射率R2為3％以下， 正反射率R2＝反射率R1-擴散反射率R3式(2)；式(2)中，R3為波長550nm處的擴散反射率。
2.如權利要求1所述的光反射體，其特征在于，其光反射面以式(3)所示的散射系數S為0.5以上， 式(3)中，TA為基材層(A)的厚度，P為以式(4)表示的層積膜的空隙率，所述厚度的單位為μm，所述空隙率的單位為％， 式(4)中，ρ0是層積膜的真密度，ρ是基材層(A)的密度。
3.如權利要求1或2所述的光反射體，其特征在于，所述光反射體的亮度為1430cd/m2以上。
4.如權利要求1～3的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述基材層(A)含有熱塑性樹脂和填料、至少向單軸方向拉伸、且面積拉伸倍率為1.3倍～80倍。
5.如權利要求1～4的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述基材層(A)含有平均粒徑為0.05μm～1.5μm的無機填料和/或平均分散粒徑為0.05μm～1.5μm的有機填料，基材層(A)的填料濃度為5重量％～75重量％。
6.如權利要求1～5的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述光擴散層(B)含有平均粒徑為0.05μm～15μm的無機填料和/或平均分散粒徑為0.05μm～15μm的有機填料，光擴散層(B)的填料濃度為5重量％～90重量％。
7.如權利要求1～6的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述基材層(A)和/或光擴散層(B)含有經表面處理的無機填料。
8.如權利要求1～7的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述層積膜在基材層(A)的與具有光擴散層(B)的面相反一側的面上具有中間層(C)。
9.如權利要求1～8的任意一項所述的光反射體，其特征在于，與所述層積膜的光反射面相反一側的面的表面強度為250g以上。
10.如權利要求1～9的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述層積膜的光反射面的表面強度為250g以上。
11.如權利要求1～10的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述光擴散層(B)的厚度為0.5μm～20μm。
12.如權利要求1～11的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述層積膜的空隙率P為15％～60％。
13.如權利要求1～12的任意一項所述的光反射體，其特征在于，所述熱塑性樹脂為聚烯烴類樹脂。
14.一種面光源裝置，其使用了權利要求1～13的任意一項所述的光反射體。
全文摘要
本發(fā)明提供光反射體及使用該光反射體的面光源裝置。所述光反射體由層積膜構成，所述層積膜具有基材層和形成于基材層(A)單面的光擴散層(B)，所述光反射體的特征是，光反射面的表面粗糙度指數為1以上，反射率為95％以上，正反射率為3％以下。該光反射體具有高亮度和高反射率。
文檔編號F21S2/00GK1985192SQ200580017780
公開日2007年6月20日 申請日期2005年5月31日 優(yōu)先權日2004年5月31日
發(fā)明者上田隆彥, 小山廣 申請人:優(yōu)泊公司