專利名稱：具有分布吸氣材料的等離子顯示器的生產(chǎn)工藝以及由此獲得的顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造具有分布吸氣材料的等離子顯示板的工藝；本發(fā)明也涉及根據(jù)本發(fā)明的工藝獲得的顯示器。
背景技術(shù)：
等離子顯示板已知縮寫為PDP，這將在下面使用。
PDP包括由低熔點(diǎn)玻璃膠在其周邊密封的兩個(gè)平面玻璃部分，前面一個(gè)和后面一個(gè)。這樣，封閉空間在兩個(gè)玻璃部分之間形成，用稀有氣體混合物填充并且包含功能組件，如下面詳述的；通常，稀有氣體混合物包括氖和氙，后者以大約4-15％的量存在。
PDP的工作原理基于當(dāng)放電在稀有氣體混合物中產(chǎn)生時(shí)，紫外射線由所謂熒光體到可見光的轉(zhuǎn)變。為了形成圖像，多個(gè)小尺寸的光源是必需的，從而產(chǎn)生局部放電的多個(gè)電極；這樣形成的每個(gè)光源在場“像素”中限定。
圖1和2分別以橫截面顯示已知PDP以及僅其前玻璃板的一部分(相對尺寸不按比例)；特別地，兩個(gè)視圖沿著兩個(gè)相互正交的橫截面而獲取。在前玻璃板FP上存在一系列由介電層FD保護(hù)、分別限定為支持電極和掃描電極的平行電極對E1和E2，介電層FD又用由氧化錳(MgO)制成的層M覆蓋；該后者具有保護(hù)介電層免受因由放電觸發(fā)的等離子引起的離子轟擊，以及提供維持放電的二次電子的雙重功能。在后玻璃板RP上，存在一系列由介電層RD覆蓋的所謂地址電極AE(具有與電極E1和E2正交的方向)；相互平行且與電極AE平行的一系列隔板R(在本領(lǐng)域中已知為“肋”)構(gòu)造在該后者層上。因?yàn)轱@示器的內(nèi)部壓力低于大氣壓力，肋的上部與層M接觸，從而將顯示器的內(nèi)部空間劃分成具有0.1-0.3mm寬度的平行通道，在附圖中表示為C。這些通道的每個(gè)用熒光體內(nèi)部覆蓋；特別地，在通道中以交替方式存在能夠?qū)⒆贤饩€分別轉(zhuǎn)換成紅色(熒光體PR)，綠色(PG)和藍(lán)色(PB)可見光的熒光體。通過將電勢差施加到給定電極對E1和E2以及電極AE，放電在像素區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生，從而引起由圖1中箭頭指示的發(fā)光。與通道區(qū)域相對應(yīng)的前玻璃板的范圍是圖像形成于其上的部分。
最近，已經(jīng)注意到一個(gè)通道中連續(xù)像素的放電之間的干擾效應(yīng)(已知為“串音”的現(xiàn)象)，這引起圖像質(zhì)量的退化，特別在高分辨率顯示器(也就是具有小尺寸的像素)的情況下。為了減小該效應(yīng)，已經(jīng)提出更復(fù)雜的肋構(gòu)造，例如圖3-5中所示。在圖3的情況下，通道由高度低于肋的隔板橫向劃分；在圖4的情況下，肋限定由具有減小橫截面的頸分隔的基本上六邊形幾何形狀的像素；最后，圖5顯示存在與肋具有相同高度的橫向隔板的結(jié)構(gòu)，使得顯示器的內(nèi)部空間變得劃分成有序行的完全封閉單元(每一個(gè)對應(yīng)于一像素)。
PDP的制造工藝基本上有兩種類型，也就是當(dāng)前使用的所謂“抽吸管道”或正在研究的“室處理”。在抽吸管道(pumping tabulation)類型的處理中，在形成顯示器的兩個(gè)玻璃板的一個(gè)(通常后板)中，形成連接到玻璃管道的開口；在兩個(gè)玻璃板的周邊的外圍密封之后，首先通過經(jīng)由管道抽吸執(zhí)行內(nèi)部空間的抽空，隨后所述內(nèi)部空間用期望的稀有氣體混合物填充；最后管道通過在熱量下壓縮而封閉，從而密封顯示器的內(nèi)部空間。代替地，在室處理中，兩個(gè)完成的玻璃板引入到充滿具有與操作PDP所需的稀有氣體混合物相對應(yīng)的成分和壓力的大氣的室中，并且在該室中密封到彼此，以封入適當(dāng)?shù)拇髿?。所以，在抽吸管道處理的情況下，顯示器用氣體混合物的填充在兩個(gè)玻璃板的密封之后，而在室處理的情況下，兩個(gè)步驟同時(shí)。必須注意，雖然通常工藝的選擇是自由的，在具有如圖5中所示具有封閉單元的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的顯示器的特殊情況下，必須采取室處理，因?yàn)樵趦蓚€(gè)玻璃板密封之后，抽空單元或者經(jīng)由管道用稀有氣體混合物填充它們將不再可能。
為了這些器件的正常操作，等離子形成于其中的氣體混合物的化學(xué)成分保持恒定是必需的事實(shí)上，氣體混合物中痕量大氣氣體如氮、氧、水或二氧化碳的存在具有改變PDP的操作電參數(shù)的效應(yīng)，如由W.E.Ahearn等人在“IBM J.RES.DEVELOP(IBM研究發(fā)展雜志)”Vol.22，No.6(1978)，p.622中發(fā)表的文章“Effect ofreactive gas dopants on the MgO surface in AC plasma display panels(AC等離子顯示板中MgO表面上活性氣體摻雜物的效應(yīng))”；由H.Doyeux在SID 00 Digest，p.212中發(fā)表的“Color plasma displaysstatus of cell structure designs(彩色等離子顯示器單元結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的狀態(tài))”；以及由J.-E.Heo等人在“Journal of Information Display(信息顯示雜志)”，Vol.2，No.4(2001)，p.29中發(fā)表的“Relationships between impurity gas and luminance/dischargecharacteristics of AC PDP(摻雜氣體與AC PDP的輝度/放電特性之間的關(guān)系)”中討論的。特別地，在PDP制造商中，水是認(rèn)為最危險(xiǎn)的雜質(zhì)。這些雜質(zhì)作為組成材料自身除氣的結(jié)果可能在制造工藝之后保留在板中，或者它們可能隨著時(shí)間在內(nèi)部累積。第一作用在抽吸管道處理的情況下特別重要，其中內(nèi)部空間排空速度的限制因素是通道中的低氣體導(dǎo)電性，這使得雜質(zhì)的去除不能在與PDP的工業(yè)制造工藝相適合的排空時(shí)間(一些小時(shí))內(nèi)完成；在具有類似圖3和4中所示內(nèi)部結(jié)構(gòu)的PDP的情況下，問題甚至更糟(雖然如已經(jīng)陳述的，具有類型5結(jié)構(gòu)的顯示器不能這樣產(chǎn)生)。使用壽命期間除氣的作用代替地在由兩種方法產(chǎn)生的PDP中相同。
為了解決這些問題，已經(jīng)提出以各種方法將吸氣材料，也就是能夠與雜質(zhì)反應(yīng)并且化學(xué)地解決它們，從而確切地從這些顯示器的內(nèi)部空間中去除它們的材料引入到PDP中。
專利US 6,472,819，專利申請US-A1-2003-0071579及韓國專利申請KR-A1-2001-104469公開吸氣材料沉積在前和后玻璃板與圖像形成區(qū)域之間的密封區(qū)域內(nèi)在外圍區(qū)域中存在的PDP。根據(jù)這些文獻(xiàn)的吸氣劑沉積在增加顯示器制造工藝期間雜質(zhì)的去除速度，以及去除在其使用壽命期間由除氣產(chǎn)生的雜質(zhì)方面是有效的。盡管提供的優(yōu)點(diǎn)，根據(jù)這些文獻(xiàn)的吸氣系統(tǒng)仍然不能產(chǎn)生完全令人滿意的結(jié)果；事實(shí)上，特別是在顯示器的使用壽命期間，雜質(zhì)需要一些時(shí)間到達(dá)吸氣材料，在此期間跨越PDP氣體組成的不均勻性可能出現(xiàn)，從而顯示器不同部分的亮度或圖像質(zhì)量的差異。
為了解決該問題，一些專利文獻(xiàn)描述吸氣材料分布在圖像形成區(qū)域中的各種構(gòu)造。
韓國專利366095號和韓國專利申請KR-A1-2001-049126描述與(圖1中類型E1和E2的)電極平行的線形吸氣材料沉積存在于前玻璃板上，使得吸氣劑沉積也形成顯示器的所謂“黑色矩陣”(增加顯示器對比度的像素周圍的暗單元)的PDP。但是，在這些文獻(xiàn)中描述的結(jié)構(gòu)中，吸氣劑沉積覆蓋專用于發(fā)光的表面的部分，從而使用非常復(fù)雜的制造工藝非常精確地控制這些沉積的尺寸和位置是必需的；而且，至少在韓國專利366095的情況下，吸氣劑沉積的表面相對于氧化鎂層的表面形成底切，由此每個(gè)吸氣劑沉積提供連續(xù)通道之間氣體的可能流通通路，串音可能增加。
專利US 6,483,238B1和日本專利申請JP-A1-2002-075170公開肋由包含吸氣材料的多孔材料制成的PDP，而韓國專利申請KR-A1-2001-091313公開肋由吸氣材料制成的PDP。但是，就肋通常使用絲網(wǎng)印刷技術(shù)由期望材料的顆粒的懸浮體的連續(xù)沉積構(gòu)造，在每個(gè)層沉積之后烘干，最后肋通過熱處理固結(jié)來說，這些結(jié)構(gòu)顯示相同的構(gòu)造問題；各種材料，尤其是吸氣劑的混合物的使用給出一些問題，因?yàn)槲鼩鈩┛赡茉诤娓珊凸探Y(jié)的熱處理期間由用于沉積的溶劑的蒸汽污染，從而變得在顯示器的有效壽命期間無效；反過來，吸氣劑顆粒的存在可能損害肋通常由其形成的陶瓷材料顆粒的相互粘著，從而減小它們的機(jī)械阻力。
最后，專利US 6,603,260 B1公開吸氣材料沉積在肋的頂面上、與前玻璃板接觸的PDP。但是，同樣該解決方案表現(xiàn)出顯著的構(gòu)造難點(diǎn)，事實(shí)上，為了將吸氣劑選擇性地僅沉積在肋的頂面上，非常精確的掩蔽操作是必需的，以避免材料沿著側(cè)壁蔓延并且占據(jù)指定給熒光體的區(qū)域(或者覆蓋它們，在這些已經(jīng)存在的情況下)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，特別地提供一種產(chǎn)生包含分布吸氣劑的等離子顯示板的簡單制造工藝。
該目的和其他目的根據(jù)本發(fā)明使用包括下面步驟的等離子顯示板制造工藝而獲得-制造提供有支持電極和掃描電極對、用于保護(hù)所述電極的一層介電材料以及覆蓋該層介電材料的一層氧化鎂的等離子顯示板的前玻璃板；-制造提供有設(shè)計(jì)以在完成的顯示器中限定通道或單元的隔板、地址電極以及熒光體的等離子顯示板的后玻璃板；-沿著所述前和后玻璃板的外圍密封，從而在顯示器內(nèi)限定一個(gè)或多個(gè)封閉空間；-使用顯示器操作所必需的稀有氣體混合物填充所述空間；其特征在于，在所述密封步驟之前，在所述氧化鎂層的自由表面上，吸氣材料沉積在特別地對應(yīng)于所述前玻璃板與后玻璃板上隔板之間的接觸面的位置形成。


本發(fā)明將參考附圖在下面描述，其中-圖1顯示垂直于現(xiàn)有技術(shù)等離子顯示板的通道而獲取的橫截面視圖；-圖2顯示現(xiàn)有技術(shù)等離子顯示板的僅前玻璃板與圖1正交的橫截面的部分視圖；-圖3-5顯示限定現(xiàn)有技術(shù)中已知的顯示器的通道或單元的肋的一些特別實(shí)施方案；-圖6以與圖2類似的視圖顯示表征第一實(shí)施方案中本發(fā)明的工藝的主要操作步驟；-圖7類似于圖6，顯示表征備選實(shí)施方案中本發(fā)明的工藝的主要操作步驟；-圖8以與圖1類似的橫截面視圖顯示最一般實(shí)施方案中本發(fā)明的等離子顯示板；以及-圖9以與圖8類似的視圖顯示根據(jù)備選實(shí)施方案的等離子顯示板。
具體實(shí)施例方式
圖1-5已經(jīng)在引言中描述。
本發(fā)明的工藝不同于已知工藝僅在于，前玻璃板的制造包括在表面上形成許多吸氣劑沉積的步驟，其在完成的顯示器中面向內(nèi)部空間，位于特別對應(yīng)于與肋上部的接觸面的位置。吸氣劑沉積可以形成在MgO層(圖1中M)的平表面上或者在該層中形成的凹槽中。本發(fā)明中性地適用于抽吸管道或PDP的室制造工藝中。
圖6顯示表征本發(fā)明的操作的各種步驟(在該附圖中，前玻璃板顯示相對于圖1-5而顛倒)。在步驟a的過程中，在吸氣劑沉積必須形成于其上的氧化鎂層的表面上，提供有孔徑61，61′，...的掩模60對準(zhǔn)，其幾何地對應(yīng)于前玻璃板將接觸完成的顯示器中肋上部的區(qū)域；為了附圖清楚，掩模60顯示與層M的表面相隔，但是它們可能彼此接觸。在步驟b中，吸氣材料的顆粒(通常稱作單元62)根據(jù)采用的沉積技術(shù)以各種方法帶進(jìn)掩模60的頂面上，并且僅在孔徑61，61′，...的區(qū)域中到達(dá)層M的自由表面。最后，在步驟e中，吸氣材料顆粒的沉積63，63′，...已經(jīng)形成；這些沉積可能需要或可能不需要用于固結(jié)的熱處理，取決于沉積過程。
圖7，類似于圖6，顯示在備選實(shí)施方案中表征本發(fā)明的另外操作的各種步驟。在這種情況下，MgO層的自由表面具有對應(yīng)于掩模60的孔徑61，61′，...的凹槽71，71′，...；這些凹槽可能在層M的形成期間獲得，或者通過在該操作中使用(附圖中沒有顯示)相同掩模60例如由離子轟擊從層M選擇性去除材料而獲得；附圖中顯示的凹槽71，71′，...僅在層M內(nèi)延伸，但是也可能傳過它并到達(dá)底層DF。步驟a′對應(yīng)于第一實(shí)施方案的步驟a，唯一的差別在于在這種情況下需要掩模60相對于層M的表面對準(zhǔn)的更高精度。下面的步驟b′和c′類似于第一實(shí)施方案的步驟b和c，導(dǎo)致吸氣材料沉積72，72′，...的形成。優(yōu)選地，步驟b′具有比步驟b更長的持續(xù)時(shí)間，以便允許凹槽71，71′，...的完全填充以及具有從層M的自由表面伸出的這種高度的沉積72，72′，...的形成(從而獲得與沉積63，63′，...類似的結(jié)果)；這具有有利于在完成的顯示器中吸附氣體與沉積72，72′，...的側(cè)面之間接觸的效果。
掩模60的材料和構(gòu)造，以及吸氣材料顆粒62沉積期間掩模與層M之間的距離取決于采用的沉積技術(shù)，其自身可以取決于待沉積材料的性質(zhì)。
如在引言中所述，吸附的主要雜質(zhì)是水，由此使用吸濕材料作為吸氣劑是可能的。為此目的的優(yōu)選材料是根據(jù)下面的反應(yīng)與水反應(yīng)的堿土金屬氧化物
其中M可以是鈣、鍶或鋇；使用這些氧化物的混合物，可能地添加氧化鎂也是可能的。
為了制造這些氧化物的沉積(63，63′，...；72，72′，...)，使用各種技術(shù)是可能的，其中例如絲網(wǎng)印刷、濺射、化學(xué)汽相沉積(CVD)或電子束蒸發(fā)。
絲網(wǎng)印刷技術(shù)在紡織品、陶瓷或其他材料上圖案再現(xiàn)領(lǐng)域中眾所周知，并且在吸氣劑沉積制備的情況下在例如為了細(xì)節(jié)而引用的專利US 5,882,727中描述。在這種情況下，掩模60由具有由聚合材料選擇性阻塞的開口的網(wǎng)組成，保留與孔徑61，61′，...相對應(yīng)的開口暢通；然后待沉積材料顆粒的懸浮體在適當(dāng)懸浮介質(zhì)中準(zhǔn)備；掩模優(yōu)選地位于前玻璃板的層M上，懸浮體分布到網(wǎng)上并且強(qiáng)制傳遞到底層支撐體，與所述孔徑一致。在本發(fā)明的特殊情況下，懸浮介質(zhì)因沉積材料的性質(zhì)顯然不能基于水(如在技術(shù)的其他應(yīng)用中常見的)；由此可以使用有機(jī)溶劑例如室溫下的液態(tài)烴。使用該技術(shù)，從不同氧化物顆粒的混合物開始產(chǎn)生混合沉積特別容易。
濺射、CVD和電子束蒸發(fā)技術(shù)在微電子行業(yè)中廣泛使用并且對本領(lǐng)域技術(shù)人員眾所周知，不需要進(jìn)一步說明。在這種情況下，掩模60可以是離散單元，例如具有與孔徑61，61′，...相對應(yīng)的孔的金屬箔；或者，如本領(lǐng)域中廣泛已知的，使用形成在層M上的聚合沉積是可能的，其中孔徑通過使用UV光敏化以及對敏化區(qū)域的隨后化學(xué)侵蝕而形成；在沉積63，63′，...或72，72′，...形成之后，全部聚合材料使用不同于第一次的化學(xué)侵蝕去除。在濺射的情況下，一種或多種氧化物的沉積可以直接從氧化物目標(biāo)開始，或者通過在所謂“反應(yīng)濺射”條件下，也就是在反應(yīng)氣氛中使用小百分比的氧氣操作從金屬目標(biāo)開始而獲得。在CVD的情況下，襯底保持在分解載有關(guān)注金屬的有機(jī)成分的足夠高的溫度以及氧化氣氛中，使得有機(jī)前體的分解和氧化物的形成同時(shí)發(fā)生；在這種情況下，形成混合氧化物特別容易，因?yàn)閷⒂刹煌饘俚那绑w組成的蒸汽混合物充分輸送到襯底(層M)上。最后，在電子束蒸發(fā)的情況下，使與為沉積而設(shè)計(jì)的材料相對應(yīng)的材料(或材料的混合物)經(jīng)歷電子轟擊是充分的；該材料(或混合物)可以例如包含在與沉積形成于其上的支撐體位于相同室中、頂面打開的坩堝中。
為了吸附不同于水的雜質(zhì)，形成不可蒸發(fā)吸氣金屬或合金的沉積是可能的。這些材料(已知為NEG)廣泛用于需要維持真空或惰性氣體純度的所有應(yīng)用中活性氣體的吸附。這些材料的實(shí)例是金屬鈦和鋯或者它們與選自過渡金屬和鋁的一種或多種元素的合金。特別地，合金Zr-Al可以提及并在專利US 3,203,901中描述，并且特別地具有重量百分比成分Zr84％-Al16％的合金由申請者在商品名稱St 101下制造和銷售；在專利US 4,312,669中描述的合金Zr-V-Fe，特別地具有重量百分比成分Zr70％-V24.6％-Fe5.4％的合金由申請者在商品名稱St 707下制造和銷售；以及在專利US 5,961,750中描述的三元合金Zr-Co-A(其中A表示選自釔、鑭、稀土的元素或其混合物)，特別地具有重量百分比成分Zr80.8％-Co14.2％-A5％的合金由申請者在商品名稱St 787下制造和銷售。這些材料的沉積優(yōu)選地通過濺射或電子束蒸發(fā)而產(chǎn)生。
圖8顯示在最一般的實(shí)施方案中，根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示板80垂直于通道方向而獲取的橫截面視圖，其中吸氣材料的沉積由81，81′，...指示，獨(dú)立于后者的性質(zhì)。
NEG材料在相對高的溫度，例如300℃之上更好地操作，因此主要在PDP的制造工藝期間、顯示器的組件經(jīng)歷有利的除氣或用于兩個(gè)(前和后)玻璃板密封的一般加熱步驟期間有效。反過來，吸濕材料在室溫下更好地工作，并且在氧化鈣的情況下，在PDP制造工藝期間發(fā)生的溫度下，水甚至可以釋放。所以，NEG對于PDP制造期間雜質(zhì)的去除更有用，而吸濕劑在其使用壽命期間更有用?？紤]兩種類型的材料互補(bǔ)，根據(jù)本發(fā)明的工藝預(yù)見吸濕材料和NEG的交替沉積的形成也是可能的。圖9以類似于圖8的視圖顯示該備選可能性在顯示器90中，吸濕材料的沉積91，91′，...與NEG材料的沉積92，92′，...交替。這樣，PDP的每個(gè)通道(或單元)暴露于兩種材料的表面，使得NEG有助于在PDP制造期間保持該通道(或單元)的內(nèi)部氣氛純凈，并且吸附在該步驟期間可能從吸濕劑中釋放的水，然而吸濕劑執(zhí)行在PDP使用壽命期間從每個(gè)通道(或單元)中去除水的功能。為了獲得該構(gòu)造，在兩個(gè)隨后沉積階段中例如通過濺射制造兩種不同材料的沉積，注意在兩個(gè)階段之間以與兩個(gè)連續(xù)肋之間距離一樣大的步長移動(dòng)掩模60可能是足夠的。
在任何情況下，以這種方式操作以產(chǎn)生不太致密的吸氣劑沉積可能是優(yōu)選地，因?yàn)檫@些沉積中多孔性的存在增加與氣體接觸的材料表面，從而吸附比，特別地速度。通過濺射產(chǎn)生對氣體吸附特別有效的NEG沉積的一種方法在歐洲專利申請EP 1518599 A2申請者名字中描述。
優(yōu)選地，堿土金屬氧化物或NEG材料的吸氣劑沉積使用與產(chǎn)生前玻璃板的MgO層相同的技術(shù)產(chǎn)生，以限制通常費(fèi)力且影響整個(gè)工藝成本的、到不同處理室的轉(zhuǎn)移次數(shù)。
在另一種變體中，添加二氧化鈦，TiO2到吸氣材料是可能的；實(shí)際上已知當(dāng)使用UV射線照射時(shí)，該材料能夠?qū)N催化地轉(zhuǎn)變成較簡單的種類，并且在氧化氣體存在的情況下轉(zhuǎn)變成水和CO2。因吸氣材料對烴吸附的低效率，等離子顯示板(其在操作期間內(nèi)部產(chǎn)生UV射線)中TiO2的添加允許將這些種類轉(zhuǎn)變成更有效吸附的其他種類。在例如由絲網(wǎng)印刷形成的吸濕材料沉積的情況下，添加TiO2顆粒到初始懸浮體是可能的；在其他情況下，TiO2沉積優(yōu)選地添加在吸氣材料沉積上(使得在完成的顯示器中它與肋接觸)或其下(使得它位于吸氣材料和氧化鎂之間)。
使用本發(fā)明的工藝，PDP中吸氣材料的引入變得容易，因?yàn)樗试S放松關(guān)于這種材料沉積的尺寸和定位的需求。特別地，避免了使用專利US 6,603,260 B1遇到的、將吸氣劑沉積到具有精確對準(zhǔn)和量度的肋上的困難。當(dāng)如圖4中所示的情況下PDP不得不以復(fù)雜的肋形狀產(chǎn)生時(shí)，這些優(yōu)點(diǎn)特別適用。
權(quán)利要求
1.等離子顯示板(80；90)的制造工藝，包括下面的步驟-制造等離子顯示板的前玻璃板(FP)，等離子顯示板的前玻璃板(FP)提供有支持電極(E1)和掃描電極(E2)對、用于保護(hù)所述電極的一層介電材料(DF)以及覆蓋該層介電材料的一層氧化鎂(M)；-制造等離子顯示板的后玻璃板(RP)，等離子顯示板的后玻璃板(RP)提供有被設(shè)計(jì)為在完成的顯示器中限定通道(C)或單元的隔板(R)、地址電極(AE)以及熒光體(PR；PG；PB)；-沿著所述前和后玻璃板的外圍密封，從而在顯示器內(nèi)限定一個(gè)或多個(gè)封閉空間；-以顯示器操作所必需的稀有氣體混合物填充所述空間；其特征在于，在所述密封步驟之前，在所述氧化鎂層的自由表面上，吸氣材料沉積(63，63′，...；72，72′，...；81，81′，...；91，91′，...；92，92′，...)在基本上對應(yīng)于在所述前玻璃板與后玻璃板上的隔板之間的接觸區(qū)的位置被形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述沉積在氧化鎂層的凹槽(71，71′，...)中被形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中在所述密封和填充步驟之間，借助通過連接到其中一個(gè)玻璃板中的開口的管道抽吸，最終通過在加熱下壓縮所述管道來密封顯示器，來執(zhí)行所述內(nèi)部空間的抽空操作。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述密封步驟在與顯示器操作所需的稀有氣體混合物相對應(yīng)的氣氛存在于其中的室中執(zhí)行，并且所述密封和填充步驟同時(shí)發(fā)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述沉積的形成由選自絲網(wǎng)印刷、濺射、化學(xué)汽相沉積和電子束蒸發(fā)的技術(shù)執(zhí)行。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的工藝，其中當(dāng)使用的技術(shù)是絲網(wǎng)印刷時(shí)，形成的沉積經(jīng)歷用于其固結(jié)的熱處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述吸氣材料是吸濕材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的工藝，其中所述吸濕材料選自鈣、鍶和鋇的氧化物，它們的混合物，或者它們與氧化鎂的混合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述吸氣材料是不能蒸發(fā)的吸氣材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的工藝，其中所述不可蒸發(fā)吸氣材料選自金屬鈦和鋯，或者它們與選自過渡金屬和鋁的一種或多種元素的合金。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中在所述氧化鎂層上，吸濕材料(91，91′，...)的沉積與不能蒸發(fā)的吸氣材料(92，92′，...)的沉積被交替地形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的工藝，其中所述吸氣材料沉積的量度和定位由具有形狀和位置與所述沉積匹配的孔徑(61，61′，...)的掩模(60)獲得，在沉積步驟期間，所述掩模被布置為與氧化鎂層的自由表面接觸或在其附近。
13.根據(jù)權(quán)利要求11的工藝，其中所述交替沉積借助于掩模(60)在兩個(gè)連續(xù)沉積階段中獲得，在兩個(gè)沉積階段之間在垂直于所述隔板的方向上以對應(yīng)于兩個(gè)連續(xù)隔板之間距離的步長移動(dòng)掩模。
14.等離子顯示板(80)，根據(jù)權(quán)利要求1的工藝獲得。
15.等離子顯示板(90)，根據(jù)權(quán)利要求11的工藝獲得。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15的等離子顯示板，還包含與吸氣材料顆?；旌系念w粒形式的二氧化鈦，或者與吸氣材料沉積接觸的沉積形式的二氧化鈦。
全文摘要
描述了一種產(chǎn)生等離子顯示板(80)的制造工藝，其允許以簡單的方法獲得顯示器，其中吸氣材料沉積(81，81′，...)與顯示器的通道(C)或單元中存在的氣氛接觸而存在。
文檔編號H01J17/24GK1969359SQ200580019247
公開日2007年5月23日 申請日期2005年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月19日
發(fā)明者喬治·隆戈尼, 科拉多·卡雷蒂, 斯特凡諾·托米內(nèi)蒂 申請人:工程吸氣公司