專利名稱：X射線管以及包含其的x射線源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將內(nèi)部產(chǎn)生的x射線取出到外部的x射線管，以及該X射線管與電源部一體地構(gòu)成的X射線源。
背景技術(shù)：
X射線是對(duì)物體具有良好的透過(guò)性的電磁波，大多用于物體的內(nèi)部構(gòu)造的非破壞/非接觸的觀察。目前，作為可以適用于這種領(lǐng)域的x射線照射裝置，已知有以下專利文獻(xiàn)1所述的x射線管。該專利文獻(xiàn) 1所述的X射線管的X射線產(chǎn)生部，具備將標(biāo)耙(target)收納的筒狀 框體。在該框體上安裝有與內(nèi)部空間連通的排氣管(參照專利文獻(xiàn)1 的圖4)。在制造X射線管時(shí)，框體的內(nèi)部空間經(jīng)由該排氣管被抽成真 空。接著，在抽成真空后，該排氣管被封閉，收納有標(biāo)靶的內(nèi)部空間 成為真空狀態(tài)(減壓至規(guī)定的真空度的狀態(tài))。 專利文獻(xiàn)1:美國(guó)專利第6229876號(hào)發(fā)明內(nèi)容發(fā)明者們對(duì)已知的X射線管進(jìn)行研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)以下的問(wèn)題。艮口， 已知的x射線管中，在安裝有排氣管的框體的內(nèi)壁面上，形成有用于抽真空的排氣口，在排氣口的緣部即與框體內(nèi)壁面的邊界，存在著前端銳利的角部。驅(qū)動(dòng)x射線管時(shí)，在框體與陽(yáng)極間產(chǎn)生高電位差，這時(shí)，該角部的影響使得在框體和陽(yáng)極之間的電場(chǎng)有可能紊亂。所以， 因排氣口的形成而必然形成的角部的存在，使得在框體和陽(yáng)極的前端部之間產(chǎn)生放電的可能性升高。但是，已知的x射線管中，并沒(méi)有采 取用于抑制這樣的放電的對(duì)策，這樣的放電有可能使得x射線輸出不禾急定。本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而提出的，目的在于提供一種x射線 管以及包含其的x射線源。為了產(chǎn)生x射線，該x射線管具備用于有效地抑制被電子照射的陽(yáng)極的前端部的放電的構(gòu)造。本發(fā)明涉及的X射線管，通過(guò)使從電子槍出射的電子入射到陽(yáng)極 的X射線標(biāo)靶，從而向外部照射在該X射線標(biāo)耙產(chǎn)生的X射線。該X 射線管具備，框體、設(shè)該框體上的照射窗(X射線出射窗)、排氣口、 以及遮蔽構(gòu)造?？蝮w規(guī)定收納被電子照射的陽(yáng)極的前端部的內(nèi)部空間。為了將在X射線標(biāo)靶產(chǎn)生的X射線取出至框體的外部，照射窗被設(shè)在規(guī)定內(nèi)部空間的框體上。排氣口，用于對(duì)內(nèi)部空間抽真空，被設(shè)在框 體的內(nèi)壁面上。尤其是遮蔽構(gòu)造，以對(duì)陽(yáng)極前端部隱藏排氣口的方式 被設(shè)在框體的內(nèi)部空間。在此，作為第1實(shí)施方式，優(yōu)選上述遮蔽構(gòu)造包括遮蔽構(gòu)件，該 遮蔽構(gòu)件具有面對(duì)陽(yáng)極的前端部的內(nèi)側(cè)面和與該內(nèi)側(cè)面相對(duì)的外側(cè) 面，并由導(dǎo)電性材料形成。具有上述構(gòu)造的x射線管中，在框體的內(nèi)壁面上設(shè)有排氣口。所以，形成有前端銳利的角部作為該排氣口的緣部和框體內(nèi)壁面的邊界。因此，該x射線管中，設(shè)有，由遮蔽構(gòu)件對(duì)陽(yáng)極的前端部隱藏排氣口 的構(gòu)造。因此，該x射線管中，驅(qū)動(dòng)時(shí)的陽(yáng)極和排氣口的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂被緩和，陽(yáng)極的前端部的放電被有效地抑制。另外，為了有效地起到上述作用，優(yōu)選遮蔽構(gòu)件在從框體的排氣 口側(cè)的內(nèi)壁面離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，被配置在陽(yáng)極的前端部和排氣 口之間。此外，優(yōu)選面對(duì)陽(yáng)極的前端部的遮蔽構(gòu)件的至少內(nèi)側(cè)面具有 比排氣口的開口面積大的面積。根據(jù)這樣的構(gòu)成，可以可靠地覆蓋排氣口的緣部(前端銳利的角部)。另外，制造x射線管時(shí)，可以以遮蔽構(gòu)件和排氣口側(cè)的內(nèi)壁面之間的間隙作為空氣的通道而進(jìn)行內(nèi)部空間 的抽真空。遮蔽構(gòu)件，在從框體的照射窗側(cè)內(nèi)壁面離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，也可以被配置在內(nèi)部空間。根據(jù)這樣的構(gòu)成，在制造x射線管時(shí)，可以以遮蔽構(gòu)件和照射窗側(cè)的內(nèi)壁面之間的間隙作為空氣的通道而進(jìn)行 內(nèi)部空間的抽真空。遮蔽構(gòu)件上，可以設(shè)有將面對(duì)陽(yáng)極的前端部的內(nèi)側(cè)面和與該內(nèi)側(cè)面相對(duì)的外側(cè)面連通的多個(gè)貫通孔。該情況下，在制造x射線管，對(duì)內(nèi)部空間抽真空時(shí)，這些貫通孔成為來(lái)自內(nèi)部空間的空氣的通道，因而可以效率良好地進(jìn)行抽真空。遮蔽構(gòu)件，可以為從框體的內(nèi)壁面向內(nèi)部空間延伸的該框體的一 部分。該情況下，面對(duì)陽(yáng)極的前端部的遮蔽構(gòu)件的內(nèi)側(cè)面與該一部分 的內(nèi)壁面一致。根據(jù)該構(gòu)成，可以使遮蔽構(gòu)件的表面和框體的內(nèi)壁面 光滑地連接。所以，電場(chǎng)的紊亂能夠被緩和，陽(yáng)極的前端部的放電能 夠被抑制。遮蔽構(gòu)件具有分別連通內(nèi)側(cè)面和外側(cè)面的多個(gè)貫通孔，并被配置 為，面對(duì)陽(yáng)極的前端部的該內(nèi)側(cè)面與框體的內(nèi)壁面一致。該情況下， 由于排氣口被遮蔽構(gòu)件堵塞，因而，在該遮蔽構(gòu)件上必須具有作為抽 真空時(shí)的空氣通道的多個(gè)貫通孔。根據(jù)這樣的X射線管，由于堵塞排 氣口的遮蔽構(gòu)件形成為，與形成有排氣口的框體的內(nèi)壁面成為同一個(gè) 面，因而，在排氣口的緣部不存在前端銳利的角部，陽(yáng)極的前端部和 排氣口之間的電場(chǎng)的紊亂被緩和。結(jié)果，陽(yáng)極前端部的放電被有效地 抑制。而且，由于在遮蔽構(gòu)件上形成的多個(gè)連通孔成為空氣的通道， 因而制造時(shí)可以無(wú)礙地進(jìn)行內(nèi)部空間的抽真空。另外，本發(fā)明涉及的X射線管中，上述遮蔽構(gòu)造可以由與上述第 1實(shí)施方式不同的第2實(shí)施方式實(shí)現(xiàn)。具體而言，框體由第1陽(yáng)極收容 部和第2陽(yáng)極收容部構(gòu)成，而且，在框體內(nèi)部空間可以配置有內(nèi)筒構(gòu) 件作為遮蔽構(gòu)造。并且，第1陽(yáng)極收容部是包圍陽(yáng)極的前端部的由導(dǎo) 電性材料形成的中空構(gòu)件，在其內(nèi)壁面上設(shè)置有排氣口，并具有照射窗。第2陽(yáng)極收容部，通過(guò)與第1陽(yáng)極收容部接合，從而與該第1陽(yáng) 極收容部共同規(guī)定用于收納陽(yáng)極的內(nèi)部空間。第2實(shí)施方式的遮蔽構(gòu)造即內(nèi)筒構(gòu)件是在框體的內(nèi)部空間以至少包圍陽(yáng)極的前端部的方式而 被配置的中空構(gòu)件，通過(guò)在從第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面離開規(guī)定距離 的狀態(tài)下，其一部分位于該第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面和陽(yáng)極的前端部 之間，從而發(fā)揮出對(duì)陽(yáng)極的前端部隱藏排氣口的功能。如上所述地具有第2實(shí)施方式的遮蔽構(gòu)造的X射線管中，設(shè)在第 1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面的排氣口，由至少一部分位于陽(yáng)極的前端部和第 1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面之間的內(nèi)筒構(gòu)件而對(duì)陽(yáng)極的前端部隱藏。所以， 該X射線管中，即使出現(xiàn)角部作為排氣口的緣部和第1陽(yáng)極收容部的 內(nèi)壁面的邊界的情況下，通過(guò)內(nèi)筒構(gòu)件，緩和了驅(qū)動(dòng)時(shí)的陽(yáng)極和排氣口的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂。此外，陽(yáng)極的前端部的放電被有效地抑 制，結(jié)果抑制了該X射線管的X射線輸出的不穩(wěn)定化。而且，制造X 射線管時(shí)，可以以內(nèi)筒構(gòu)件和第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面之間的間隙作 為空氣的通道而進(jìn)行內(nèi)部空間的抽真空。作為第2實(shí)施方式的遮蔽構(gòu)造，即使在采用上述的內(nèi)筒構(gòu)件的情 況下，也優(yōu)選在該內(nèi)筒構(gòu)件的端部和第1陽(yáng)極收容部的照射窗側(cè)內(nèi)壁 面之間形成有間隙。根據(jù)該構(gòu)成，X射線管制造時(shí)，可以以內(nèi)筒構(gòu)件 和第1陽(yáng)極收容部的照射窗側(cè)的內(nèi)壁面之間的間隙作為空氣的通道而 進(jìn)行內(nèi)部空間的抽真空。另外，在內(nèi)筒構(gòu)件上，優(yōu)選至少在位于第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面 和陽(yáng)極的前端部之間的部分設(shè)有多個(gè)貫通孔。該情況下，在進(jìn)行制造 時(shí)的內(nèi)部空間的抽真空時(shí)，由于這些貫通孔本身成為來(lái)自內(nèi)部空間的 空氣的通道，因而可以效率良好地進(jìn)行內(nèi)部空間的抽真空。本發(fā)明涉及的X射線管中，優(yōu)選第1陽(yáng)極收容部具有由導(dǎo)電性材 料形成的頭部，第2陽(yáng)極收容部具有由絕緣性材料形成的殼體部、以及接合于該真空管的端部并接合于第1陽(yáng)極收容部的頭部的由導(dǎo)電性材料形成的連接部。這樣的構(gòu)成中，內(nèi)筒構(gòu)件具有在內(nèi)部空間內(nèi)向第2 陽(yáng)極收容部側(cè)延伸的形狀，從而對(duì)陽(yáng)極隱藏真空管和連接部的接合部 分。即，該X射線管中，電絕緣性材料的真空管和導(dǎo)電性材料的連接 部的接合部分，在其和陽(yáng)極之間比較容易產(chǎn)生放電。在此，該X射線 管中，通過(guò)采用上述構(gòu)造的內(nèi)筒構(gòu)件，從而對(duì)陽(yáng)極隱藏接合部分。因 此，接合部分和陽(yáng)極之間的電場(chǎng)的紊亂被緩和，接合部分和陽(yáng)極之間 的放電能夠被有效地抑制。結(jié)果，該X射線管的X射線輸出的不穩(wěn)定 化被抑制。本發(fā)明涉及的X射線管中，第2陽(yáng)極收容部具有電絕緣性材料的 真空管，第1陽(yáng)極收容部具有，導(dǎo)電性材料的頭部、以及設(shè)在該頭部 的端部并接合于第2陽(yáng)極收容部的真空管的導(dǎo)電性材料的連接部。另 外，優(yōu)選內(nèi)筒構(gòu)件具有在內(nèi)部空間向第2陽(yáng)極收容部側(cè)延伸的形狀， 從而對(duì)陽(yáng)極隱藏真空管和連接部的接合部分。具有這樣的構(gòu)造的X射 線管中，電絕緣性材料的真空管和導(dǎo)電性材料的連接部的接合部分， 在其和陽(yáng)極之間比較容易產(chǎn)生放電。在此，該X射線管中，通過(guò)采用陽(yáng)極隱藏接合部分。因此，接合部分和 陽(yáng)極之間的電場(chǎng)的紊亂被緩和，接合部分和陽(yáng)極之間的放電能夠被有 效地抑制。結(jié)果，該X射線管的X射線輸出的不穩(wěn)定化被抑制。另外，內(nèi)筒構(gòu)件可以具有第2陽(yáng)極收容部側(cè)的端部被彎折成R形 狀的彎折部。該情況下，優(yōu)選彎折部的前端接合于第1陽(yáng)極收容部，在彎折部上形成有貫通孔。根據(jù)這樣的構(gòu)成，由于內(nèi)筒構(gòu)件的第2陽(yáng) 極收容部側(cè)的端部具有R形狀，因而未形成前端銳利的角部。因此，該端部和陽(yáng)極之間的電場(chǎng)的紊亂被有效地抑制。結(jié)果，該端部和陽(yáng)極之間的放電被能夠抑制，該X射線管的X射線輸出的不穩(wěn)定能夠被抑 制。另外，該情況下，在被彎折的內(nèi)筒構(gòu)件和第1陽(yáng)極收容部包圍的 區(qū)域形成有空間。然而，在進(jìn)行制造該X射線管時(shí)的內(nèi)部空間的抽真 空時(shí)，由于在彎折部形成的貫通孔成為空氣的通道，因而防止空氣殘 留在該空間。而且，本發(fā)明涉及的X射線源具備，具有上述構(gòu)造的X射線管(本 發(fā)明涉及的X射線管)，同時(shí)，具備電源部，該電源部對(duì)配置有該X 射線標(biāo)靶的陽(yáng)極供給用于在X射線標(biāo)靶產(chǎn)生X射線的電壓。另外，本發(fā)明涉及的各實(shí)施例通過(guò)下面的詳細(xì)說(shuō)明和附圖而能夠 被更加充分地理解。這些實(shí)施例僅作為示例，并不能被認(rèn)為是限定本 發(fā)明。并且，本發(fā)明的更大的應(yīng)用范圍可通過(guò)以下的詳細(xì)說(shuō)明而變得明 顯。然而，雖然詳細(xì)的說(shuō)明和特定的示例示意了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例， 但其是僅為了示范而被提出的，很明顯的是，根據(jù)該詳細(xì)的說(shuō)明，本 發(fā)明的要旨和范圍內(nèi)的各種變形和改進(jìn)，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō) 是不言而喻的。根據(jù)本發(fā)明涉及的X射線管，通過(guò)在框體內(nèi)部采用特殊的遮蔽構(gòu) 造，有效地抑制了陽(yáng)極的前端部分的放電。


圖1是本發(fā)明的X射線管的第1實(shí)施例的構(gòu)成的立體示意圖。 圖2是圖1所示的第1實(shí)施例涉及的X射線管的垂直截面圖。 圖3是圖1所示的第1實(shí)施例涉及的X射線管的水平截面圖。圖4是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例的構(gòu)成的立體示意圖。圖5是圖4所示的X射線管(第1實(shí)施例涉及的X射線管的第1 變形例)的截面圖。圖6是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第2變形例的構(gòu)成斜視圖。圖7是圖6所示的X射線管(第1實(shí)施例涉及的X射線管的第2 變形例)的截面圖。圖8是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例的構(gòu)成的立體示 意圖。圖9是圖8所示的X射線管(第1實(shí)施例涉及的X射線管的第3 變形例)的截面圖。圖10是本發(fā)明涉及的X射線管的第2實(shí)施例的構(gòu)成的立體示意圖。圖11是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管的分解立體圖。圖12是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管的截面圖。圖13是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管的通過(guò)排氣管的中心軸的截面圖。圖14是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管的排氣管的安裝部分附近的截面圖。圖15是第2實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例的構(gòu)成的截面示意圖。圖16是作為圖15所示的X射線管(第2實(shí)施例涉及的X射線管 的第2變形例)的變形例的第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例 的主要部分的截面圖。圖17是第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例的構(gòu)成的截面示意圖。圖18是本發(fā)明涉及的X射線源的一個(gè)實(shí)施例的構(gòu)成的分解立體圖。圖19是本實(shí)施例涉及的X射線源的內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。 圖20是說(shuō)明被組裝于非破壞檢測(cè)裝置的X射線產(chǎn)生裝置的X射 線源(包含本實(shí)施例涉及的X射線管)的作用的正面圖。符號(hào)說(shuō)明1A、 1B、 1C、 1D、 2A、 2B、 2C、 2D: X射線管；3:電子槍；5:陽(yáng)極；5a:陽(yáng)極前端部；9:筒部(第2陽(yáng)極收容部)；9a:真空管； %:連接部；9c:熔接部分(接合部分)；13:頭部(第1陽(yáng)極收容部); 14:電子槍收容部；15:照射窗；17、 57:排氣口 ; 19、 59:排氣口 側(cè)的內(nèi)壁面；25、 61、 63、 65:遮蔽構(gòu)件；29:照射窗側(cè)的內(nèi)壁面； 31、 33、 35:內(nèi)筒構(gòu)件；31d:彎折部；31e:彎折部的浮游端；31f: 貫通孔；31k:連通孔；58:內(nèi)壁面；61a、 63a:遮蔽構(gòu)件的表面；63f、 65f:連通孔；R:內(nèi)部空間；dl、 d2、 d3、 d4、 Sl、 S2:間隙；100: X射線源；102:電源部；102A:絕緣塊；102B:高電壓產(chǎn)生部；102C: 高電壓線；102D:插座；103:第1板構(gòu)件；103A:螺絲插通孔；104: 第2板構(gòu)件；104A:螺絲插通孔；105:連結(jié)間隔構(gòu)件；105A:螺絲 孔；106:金屬制筒構(gòu)件；106A:安裝凸緣；106B:回避面；106C: 插通孔；108:導(dǎo)電性涂料；109:連結(jié)螺絲；110:高壓絕緣油；XC: X射線攝像機(jī)；SP:樣品板；P:觀察點(diǎn)；XP: X射線產(chǎn)生點(diǎn)。
具體實(shí)施方式
以下，參照?qǐng)D1 圖20，說(shuō)明本發(fā)明涉及的X射線管以及包含其的 X射線源的各實(shí)施例。此外，在附圖的說(shuō)明中，用相同的符號(hào)標(biāo)注相 同部位、相同要素，并省略重復(fù)的說(shuō)明。 (第1實(shí)施例)首先，參照?qǐng)D1~圖3，說(shuō)明本發(fā)明涉及的X射線管的第1實(shí)施例。 圖1是本發(fā)明涉及的X射線管的第1實(shí)施例的構(gòu)成的立體示意圖。圖 2是圖1所示的第1實(shí)施例涉及的X射線管的垂直截面圖。圖3是圖1 所示的第1實(shí)施例涉及的X射線管的水平截面圖。如圖1 圖3所示，X射線管1A，使從電子槍3出射的電子入射到 設(shè)在真空中的陽(yáng)極5的前端部5a的電子入射部位(X射線產(chǎn)生部位) 即標(biāo)靶5d，然后向外部照射因該入射而產(chǎn)生的X射線。X射線管1A 具備，將棒狀的陽(yáng)極5保持為絕緣狀態(tài)的玻璃制的真空管部9、以及收 納陽(yáng)極前端部5a并產(chǎn)生X射線的X射線產(chǎn)生部11 。X射線產(chǎn)生部11，具有收納陽(yáng)極前端部5a的金屬框體即頭部13， 陽(yáng)極5以與頭部13絕緣的狀態(tài)，幾乎全體被收納于由該頭部13與真 空管部9隔成的密封狀態(tài)的內(nèi)部空間R。而且，陽(yáng)極前端部5a在其端 面上設(shè)有傾斜面5c，在該傾斜面5c上配置有標(biāo)靶5d，該標(biāo)靶5d因電 子的入射而產(chǎn)生具有所期望的能量的X射線。這樣的陽(yáng)極前端部5a被 構(gòu)成與陽(yáng)極5同軸的圓柱面的頭部13的內(nèi)壁面19包圍。在安裝于頭 部13的電子槍收容部14內(nèi)收納有電子槍3，該電子槍3的前端朝向陽(yáng) 極前端部5a的方位。即，電子槍3的軸線與陽(yáng)極5的軸線大致正交， 使得從電子槍3出射的電子入射到與該電子槍3相對(duì)地形成的傾斜面 5c上的標(biāo)耙5d。而且，為了使在標(biāo)耙5d產(chǎn)生的X射線透過(guò)，照射到 外部，在頭部13的陽(yáng)極前端部5a側(cè)的端部設(shè)有由X射線透過(guò)率高的 材料形成的圓形的照射窗15 (X射線出射窗)。
為使該內(nèi)部空間R為真空狀態(tài)(減壓至規(guī)定的真空度的狀態(tài))，在 頭部13的內(nèi)壁面19上設(shè)有用于對(duì)內(nèi)部空間R內(nèi)的空氣進(jìn)行排氣的排 氣口 17。另一方面，在頭部13的外壁面上，安裝有經(jīng)由排氣口 17連 通于內(nèi)部空間R的排氣管21。在制造X射線管時(shí)，通過(guò)排氣口 17和 排氣管21對(duì)內(nèi)部空間R抽真空之后，通過(guò)堵住該排氣管21等而封閉 管口，從而以真空狀態(tài)密封內(nèi)部空間R。這時(shí)，排氣口17，在X射線 管的組裝完成后仍殘留著在內(nèi)部空間R開口的狀態(tài)。
這樣的X射線管1A中，從真空管部9露出的陽(yáng)極5的基端部5b (高電壓施加部)連接于高壓供給電路。驅(qū)動(dòng)時(shí)，從該高壓供給電路 經(jīng)由基端部5b向陽(yáng)極5施加100kV左右的高電壓。如果在該狀態(tài)下， 從電子槍3出射的電子入射到標(biāo)靶5d，則通過(guò)該入射而從標(biāo)靶5d產(chǎn)生 X射線。接著，所產(chǎn)生的X射線透過(guò)照射窗15，照射到外部。
由于像這樣在驅(qū)動(dòng)時(shí)向陽(yáng)極5施加高電壓，因而，在陽(yáng)極5與金 屬框體即頭部13之間產(chǎn)生高電位差。特別是由于陽(yáng)極前端部5a以被 頭部13包圍的方式而被收納，因而，在陽(yáng)極前端部5a和頭部13的內(nèi) 壁面19之間有可能產(chǎn)生放電。在此，在形成于內(nèi)壁面19的排氣口 17 的緣部，存在著前端銳利的角部作為與內(nèi)壁面19的邊界。這樣的角部 的影響使得陽(yáng)極5和頭部13之間的電場(chǎng)紊亂。結(jié)果，在排氣口 17的 緣部和陽(yáng)極前端部5a之間，放電的可能性特別高。在放電產(chǎn)生的情況下，產(chǎn)生X射線管1A的X射線輸出不穩(wěn)定等的問(wèn)題，因而必須抑制 這樣的放電。
因此，為了在X射線管1A中抑制排氣口 17的緣部和陽(yáng)極前端部
5a之間的放電，采用特殊的遮蔽構(gòu)造(第1實(shí)施方式)。S卩，在排氣口 17和陽(yáng)極前端部5a之間設(shè)置對(duì)陽(yáng)極前端部5a隱藏排氣口 17的直立狀 的遮蔽構(gòu)件25。遮蔽構(gòu)件25是由導(dǎo)電性材料形成的被加工成矩形的平 板構(gòu)件，具有大于排氣口 17的開口徑的面積。另外，遮蔽構(gòu)件25被 配置為，相對(duì)的2邊被固定在內(nèi)壁面19上，在中央部，在與內(nèi)壁面19 之間具有間隙dl而覆蓋排氣口 17。另外，遮蔽構(gòu)件25延伸至內(nèi)壁面 29的附近，從而在該遮蔽構(gòu)件25和設(shè)有照射窗15的內(nèi)壁面29之間也 形成有微小的間隙d2。這樣的遮蔽構(gòu)件25，使得從陽(yáng)極前端部5a看 時(shí)，看不到排氣口 17的緣部。
X射線管1A中，通過(guò)設(shè)置這樣的遮蔽構(gòu)件25，緩和了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 17的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂。因此，抑制了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 17的緣部之間的放電。并且，間隙dl、 d2使得排氣管 21內(nèi)部和內(nèi)部空間R連通，該間隙dl、 d2作為空氣的通道而起作用， 因而，在制造X射線管時(shí)，可以無(wú)礙地經(jīng)由排氣口 17進(jìn)行內(nèi)部空間R 的抽真空。此外，雖然在抽真空時(shí)稍微需要點(diǎn)時(shí)間，但是也可以以不 產(chǎn)生間隙d2的方式配置遮蔽構(gòu)件25。這種情況下，可以僅以間隙dl 作為空氣的通道，進(jìn)行抽真空。另外，遮蔽構(gòu)件25不限定于平板狀構(gòu) 件，也可以為曲率大于頭部13的內(nèi)壁面的曲板狀構(gòu)件。 (第1實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例)
接著，參照?qǐng)D4和圖5，說(shuō)明第1實(shí)施例涉及的X射線管的第1 變形例。圖4是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例的構(gòu)成的立 體示意圖。圖5是圖4所示的X射線管1B的截面圖。
與第1實(shí)施例的X射線管1A相比，圖4和圖5所示的X射線管 1B中，對(duì)陽(yáng)極前端部5a隱藏排氣口 57的遮蔽構(gòu)件的構(gòu)造不同。該X 射線管1B中，排氣口57位于，從內(nèi)壁面58起向著頭部13的外壁面 方向淺淺地向下挖一部分而形成的內(nèi)壁面59上。在排氣口 57和陽(yáng)極 前端部5a之間設(shè)有用于對(duì)陽(yáng)極前端部5a隱藏排氣口57的遮蔽構(gòu)件61。 該遮蔽構(gòu)件61的面對(duì)陽(yáng)極前端部5a的內(nèi)壁面61a與內(nèi)壁面58 —致(該變形例中，實(shí)質(zhì)上為頭部13的一部分)，具有大于排氣口 57的開口徑
的面積的矩形形狀。遮蔽構(gòu)件61被設(shè)置為，在與排氣口 57之間形成 有間隙d3。而且，遮蔽構(gòu)件61延伸至內(nèi)壁面29的附近，從而在遮蔽 構(gòu)件61和設(shè)有照射窗15的內(nèi)壁面29之間也形成有微小的間隙d4。這 樣的遮蔽構(gòu)件61，使得從陽(yáng)極前端部5a看時(shí)，看不到排氣口57的緣部。
此外，這樣的構(gòu)造的遮蔽構(gòu)件61和排氣口 57的制作，通過(guò)一邊 保留遮蔽構(gòu)件61， 一邊切削被頭部13的遮蔽構(gòu)件61和內(nèi)壁面59夾著 的長(zhǎng)方體形狀的區(qū)域，然后形成排氣口 57及間隙d4而進(jìn)行?；蛘?， 也可以深挖內(nèi)壁面58，形成內(nèi)壁面59，在該內(nèi)壁面59上形成排氣口 57，然后將另外的遮蔽構(gòu)件61的內(nèi)側(cè)面與內(nèi)壁面58—致地設(shè)置。
X射線管1B中，通過(guò)設(shè)置上述的遮蔽構(gòu)件61，緩和了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 57的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂。結(jié)果，抑制了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 57的緣部之間的放電。并且，間隙d3、 d4使得排氣管 21內(nèi)部和內(nèi)部空間R連通，該間隙d3、 d4作為空氣的通道而起作用， 因而，在制造時(shí)，可以無(wú)礙地經(jīng)由排氣口 57進(jìn)行內(nèi)部空間R的抽真空。 另外，由于遮蔽構(gòu)件61的內(nèi)側(cè)面61a與包圍陽(yáng)極前端部5a的內(nèi)壁面 58 —致地形成，因而遮蔽構(gòu)件61的內(nèi)側(cè)面61a和內(nèi)壁面58平滑地連 接。這樣的構(gòu)造將因遮蔽構(gòu)件61而引起的標(biāo)靶前端部5a周圍的電場(chǎng) 的紊亂抑制到最低限。
(第1實(shí)施例涉及的X射線管的第2變形例)
接著，參照?qǐng)D6和圖7，說(shuō)明第1實(shí)施例涉及的X射線管的第2 變形例。圖6是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第2變形例的構(gòu)成的立 體示意圖。圖7是圖6所示的X射線管1C的截面圖。
與第2實(shí)施例的X射線管1B相比，圖6和圖7所示的X射線管 1C中，遮蔽構(gòu)件63的構(gòu)造不同。該遮蔽構(gòu)件63為設(shè)有多個(gè)貫通孔63f 的網(wǎng)格狀的導(dǎo)電性構(gòu)件，具有與上述的遮蔽構(gòu)件61相同的形狀。該遮 蔽構(gòu)件63的面對(duì)陽(yáng)極前端部5a的內(nèi)壁面63a與包圍陽(yáng)極前端部5a的 內(nèi)壁面58—致地形成。
通過(guò)這樣的遮蔽構(gòu)件63，如果貫通孔63f較細(xì)，則與上述的X射 線管1B的遮蔽構(gòu)件61相同，緩和了陽(yáng)極前端部5a和排氣口 57的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂。所以，通過(guò)該X射線管1C，能夠有效地抑制陽(yáng)
極前端部5a和排氣口 57的緣部之間的放電。另外，在制造時(shí)的內(nèi)部 空間R的抽真空時(shí)，不僅是間隙d3、 d4，貫通孔63f也可以作為空氣 通道而起作用，因而，能夠順利地進(jìn)行抽真空。此外，為了緩和電場(chǎng) 的紊亂且順利地進(jìn)行抽真空，優(yōu)選貫通孔63f的孔徑為0.1 lmm。 (第1實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例)
接著，參照?qǐng)D8和圖9，說(shuō)明第1實(shí)施例涉及的X射線管的第3 變形例。圖8是第1實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例的構(gòu)成的立 體示意圖。圖9是圖8所示的X射線管1D的截面圖。
與第1實(shí)施例的X射線管1A相比，圖8和圖9所示的X射線管 1D中，對(duì)陽(yáng)極前端部5a隱藏排氣口 17的遮蔽構(gòu)件65的構(gòu)造不同。 遮蔽構(gòu)件65是網(wǎng)格狀的導(dǎo)電性構(gòu)件，在面對(duì)陽(yáng)極5的內(nèi)側(cè)面與內(nèi)壁面 19一致的狀態(tài)下，以堵住排氣口 17的方式而被設(shè)置，并設(shè)有多個(gè)貫通 孔65f。
根據(jù)這樣的遮蔽構(gòu)件65，在排氣口 17的緣部，端部不出現(xiàn)于內(nèi)壁 面19，因而緩和了陽(yáng)極前端部5a和排氣口 57的緣部之間的電場(chǎng)的紊 亂。結(jié)果，能夠抑制陽(yáng)極前端部5a和排氣口 17的緣部之間的放電。 另外，設(shè)在遮蔽構(gòu)件65上的多個(gè)貫通孔65f，使得排氣管21內(nèi)部和內(nèi) 部空間R連通，貫通孔65f作為空氣的通道而起作用。因此，制造時(shí) 能夠經(jīng)由排氣口 17無(wú)礙地進(jìn)行內(nèi)部空間R的抽真空。此外，為了緩和 電場(chǎng)的紊亂且順利地進(jìn)行抽真空，優(yōu)選貫通孔65f的孔徑為0.1 lmm。
另外，本發(fā)明不限定于上述的第1實(shí)施例及其變形例，可以進(jìn)行 各種變形。例如，雖然在陽(yáng)極5的傾斜面5c上另外設(shè)置標(biāo)耙5d，但是 也可以通過(guò)陽(yáng)極5和標(biāo)靶5d —體地構(gòu)成，使得傾斜面5c的一部分構(gòu) 成標(biāo)靶。另外，雖然陽(yáng)極5具有在圓柱的前端設(shè)有傾斜面5c的形狀， 但是，也可以通過(guò)各種切削而在陽(yáng)極5的前端具有其它的形狀。這種 情況下，即使在陽(yáng)極的前端部存在角形的部位，也能夠通過(guò)遮蔽構(gòu)件 來(lái)有效地抑制陽(yáng)極前端部和排氣口之間的放電。 (第2實(shí)施例)
接著，參照?qǐng)D10 圖14，說(shuō)明本發(fā)明涉及的X射線管的第2實(shí)施 例。圖10是本發(fā)明涉及的X射線管的第2實(shí)施例的構(gòu)成的立體示意圖。圖11是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管2A的分解立體圖。 圖12是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管2A的截面圖。圖13 是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管2A的通過(guò)排氣管的中心軸 的截面圖。圖14是圖10所示的第2實(shí)施例涉及的X射線管2A的排 氣管的安裝部分附近的截面圖。如圖10~圖13所示，與第1實(shí)施例涉及的X射線管1A相同，X 射線管2A，使從電子槍3出射的電子入射到設(shè)在真空中的陽(yáng)極5的前 端部5a上的電子入射部位(X射線產(chǎn)生部位)即標(biāo)靶5d，向外部照射 因該入射而產(chǎn)生的X射線。X射線管2A具備，將棒狀的陽(yáng)極5保持 為絕緣狀態(tài)的筒部(第2陽(yáng)極收容部)9，以及包圍陽(yáng)極前端部5a的 金屬框體即頭部(第1陽(yáng)極收容部)13。筒部9，由電絕緣性材料即玻 璃制的真空管9a以及連接真空管9a和頭部13的連接部9b構(gòu)成。真 空管9a的一端側(cè)開口，另一端側(cè)保持為陽(yáng)極5。金屬制的圓筒狀連接 部9b的一端，通過(guò)熔接而與該真空管9a的開口側(cè)接合。而且，在連 接部9b的另一端設(shè)有向外方延伸的凸緣，在該凸緣上，連接部9b被 熔接于頭部13。即，真空管9a和頭部13通過(guò)連接部9b連接。如此地 連接的真空管9a、頭部13、以及連接部9b，規(guī)定了密封的內(nèi)部空間R。 陽(yáng)極5，在該內(nèi)部空間R內(nèi)，以與頭部13和連接部9b絕緣的狀態(tài)而 幾乎全體被收納。在陽(yáng)極前端部5a上設(shè)有傾斜面5c，在該傾斜面5c 上配置有標(biāo)靶5d，該標(biāo)靶5d因電子的入射而產(chǎn)生具有所期望的能量的 的X射線。另外，作為其他的示例，第1陽(yáng)極收容部可以通過(guò)將用于與真空 管9a熔接的筒狀的連接部9b —體地設(shè)于頭部13的端部而構(gòu)成。這種 情況下，真空管9a構(gòu)成第2陽(yáng)極收容部。頭部13，具有構(gòu)成與陽(yáng)極5同軸的圓柱面的內(nèi)壁面19和20，陽(yáng) 極前端部5a被內(nèi)壁面19和20包圍。在頭部13的側(cè)壁上貫通地設(shè)置 的安裝孔13a上，安裝有收納電子槍3的電子槍收容部14。這時(shí)，電 子槍3以該電子槍3的軸線和陽(yáng)極5的軸線大致正交的狀態(tài)配置。艮卩， 電子槍3的前端朝向陽(yáng)極前端部5a的方位，使得從電子槍3出射的電 子入射到與電子槍3相對(duì)地形成的傾斜面5c上的標(biāo)靶5d。另外，為了 使在標(biāo)靶5d產(chǎn)生的X射線透過(guò)并照射到外部，在金屬框體即頭部13的陽(yáng)極前端部5a側(cè)的端部，設(shè)有由X射線透過(guò)率高的材料形成的圓形 的照射窗(X射線出射窗)15。為使內(nèi)部空間R為真空狀態(tài)(減壓至規(guī)定的真空度的狀態(tài))，在頭 部13的內(nèi)壁面19上設(shè)有用于對(duì)內(nèi)部空間R內(nèi)的空氣進(jìn)行排氣的排氣 口 17。而且，在頭部13的外壁面上，安裝有經(jīng)由排氣口 17連通于內(nèi) 部空間R的排氣管21。在制造X射線管時(shí)，通過(guò)排氣口17和排氣管 21對(duì)內(nèi)部空間R抽真空后，通過(guò)堵住該排氣管21等而封閉管口，從 而以真空狀態(tài)密封內(nèi)部空間R。這時(shí)，排氣口17，在X射線管的組裝 完成后仍保留著在內(nèi)部空間R開口的狀態(tài)。另外，本實(shí)施例中，從安 裝孔13a看時(shí)，排氣口 17形成于斜前方的內(nèi)壁面19上的位置，但是， 排氣口 17可以形成于內(nèi)壁面19和20上的任意位置。這樣的X射線管2A中，從真空管9a露出的陽(yáng)極5的基端部5b (高電壓施加部)連接于高壓供給電路。驅(qū)動(dòng)時(shí)，從該高壓供給電路 經(jīng)由基端部5b向包含標(biāo)靶5d的陽(yáng)極5施加約100kV左右的高電壓。 如果在狀態(tài)下，從電子槍3出射的電子入射到標(biāo)靶5d，則通過(guò)該入射 而在標(biāo)靶5d產(chǎn)生X射線。接著，所產(chǎn)生的X射線透過(guò)照射窗15，照 射到外部。另外，該第2實(shí)施例中，與上述第1實(shí)施例相同，"上"、"下" 等的用語(yǔ)，在說(shuō)明中以照射窗部15側(cè)為上，以陽(yáng)極5的基端部5b側(cè) 為下。由于像這樣在驅(qū)動(dòng)時(shí)向陽(yáng)極5施加高電壓，因而，在陽(yáng)極5與頭 部13之間產(chǎn)生高電位差。特別是陽(yáng)極前端部5a以被頭部13包圍的方 式而被收納。因此，在陽(yáng)極前端部5a和頭部13的內(nèi)壁面19之間有可 能產(chǎn)生放電。在此，如圖14所示，在形成于內(nèi)壁面19的排氣口 17的 緣部，出現(xiàn)了峭立在排氣管21的內(nèi)壁面21a和與排氣管21的端面21b 的邊界的角部17e，和峭立在排氣口 17與內(nèi)壁面19的邊界的角部17f。 這樣的角部17e、 17f的影響，使得陽(yáng)極5與頭部13之間的電場(chǎng)紊亂。 因此，在排氣口 17的緣部和陽(yáng)極前端部5a之間，放電的可能性特別 高。在放電產(chǎn)生的情況下，產(chǎn)生X射線管2A的X射線輸出不穩(wěn)定等 的問(wèn)題，因而必須抑制這樣的放電。因此，為了在X射線管2A中抑制排氣口 17的緣部與陽(yáng)極前端部 5a之間的放電，采用特殊的遮蔽構(gòu)造(第2實(shí)施方式)。g卩，在頭部13的內(nèi)壁面19和陽(yáng)極前端部5a之間設(shè)有內(nèi)筒構(gòu)件31。該內(nèi)筒構(gòu)件31 是厚度比頭部31薄的金屬性的導(dǎo)電性構(gòu)件，具有包圍陽(yáng)極前端部5a 的圓筒形狀。通過(guò)設(shè)置這樣的內(nèi)筒構(gòu)件31，在X射線管2A中，對(duì)陽(yáng) 極前端部5a隱藏排氣口 17。 g卩，從陽(yáng)極前端部5a看時(shí)，看不到排氣 口 17的緣部。在頭部13的內(nèi)壁面19的下方，形成有內(nèi)壁面20，該內(nèi)壁面20 與內(nèi)壁面19同軸且成為直徑稍小于內(nèi)壁面19的圓柱面。與此相對(duì)地， 內(nèi)筒構(gòu)件31的外徑被設(shè)置為與內(nèi)壁面20的頭部13的內(nèi)徑大致相同。 而且，通過(guò)圓筒部31的外壁面31a在整個(gè)圓周上與該內(nèi)壁面20相接， 圓筒部31被配置為，與陽(yáng)極5和頭部13的內(nèi)壁面19同軸。這樣的位 置關(guān)系，使得在該內(nèi)筒構(gòu)件31的外壁面31a和頭部13的內(nèi)壁面19之 間形成有微小的間隙S1。而且，內(nèi)筒構(gòu)件31延伸至內(nèi)壁面29的附近， 使得在該內(nèi)筒構(gòu)件31的上端31b和設(shè)有照射窗15的內(nèi)壁面29之間也 形成有微小的間隙S2。以上的構(gòu)造，使得內(nèi)部空間R經(jīng)由間隙S1、 S2 連通于排氣管21內(nèi)部，在對(duì)內(nèi)部空間R抽真空時(shí)，間隙S1、 S2作為 空氣的通道而起作用。該內(nèi)筒構(gòu)件31的下端31c側(cè)，從頭部13的下端突出，延伸至真 空管9a和連接部9b的熔接部分(接合部分)9c的更下方。這樣的構(gòu) 造，使得內(nèi)筒構(gòu)件31存在于熔接部分9c與標(biāo)靶5之間。即，熔接部 分9c被內(nèi)筒構(gòu)件31隱藏，使得從陽(yáng)極5看時(shí)，看不到熔接部分9c。 而且，內(nèi)筒構(gòu)件31的下端31c，被彎折成具有曲面的R形狀，面向真 空管9a側(cè)的彎折部31d的浮游端31e通過(guò)熔接而接合于頭部13的下 端面13c。如上所述，內(nèi)筒構(gòu)件31的下端31c被彎折成為R形狀，因而在內(nèi) 筒構(gòu)件31的下端未出現(xiàn)角部。所以，能夠抑制內(nèi)筒構(gòu)件下端31c和陽(yáng) 極5之間的電場(chǎng)的紊亂，有效地抑制內(nèi)筒構(gòu)件的下端31c和陽(yáng)極5之 間的放電。此外，通過(guò)像這樣彎折內(nèi)筒構(gòu)件的下端31c，從而形成了被 所彎折的內(nèi)筒構(gòu)件31和頭部13的下端面13c包圍的小空間Q。于是， 在彎折部31d上形成有用于將該小空間Q連通于內(nèi)部空間R的貫通孔 31f。因此，對(duì)內(nèi)部空間R抽真空時(shí)，該貫通孔31f成為空氣的通道， 防止在小空間Q內(nèi)殘留有空氣。另外，在該內(nèi)筒構(gòu)件31上，在對(duì)應(yīng)于電子槍3的位置形成有插通孔31h，收納電子槍3的收納容器的前端3a插通于該插通孔31h，在 陽(yáng)極前端部5a側(cè)露出。此外，在內(nèi)筒構(gòu)件31上形成有與電子槍3的 軸線平行的一對(duì)平面部31p。該平面部31p以在其間夾著插通孔31h 的方式而對(duì)稱地配置，具有從內(nèi)壁面31j向陽(yáng)極前端部5a側(cè)隆起的形 狀。該平面部31p，作為使從電子槍3出射的電子到達(dá)標(biāo)靶5d之前的 電場(chǎng)為所期望的狀態(tài)的電極而起作用。X射線管2A中，通過(guò)設(shè)置上述的內(nèi)筒構(gòu)件31，緩和了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 17的緣部之間的電場(chǎng)的紊亂。所以，抑制了陽(yáng)極前端 部5a和排氣口 17的緣部之間的放電。結(jié)果，X射線管2A中，抑制了 因放電而引起的X射線輸出的不穩(wěn)定化，能夠進(jìn)行穩(wěn)定的X射線照射。 此外，間隙S1、 S2，使得排氣管21內(nèi)部和內(nèi)部空間R連通，該間隙 Sl、 S2作為空氣的通道而起作用，因而在制造X射線管2A時(shí)，可以 無(wú)礙地經(jīng)由排氣口 17進(jìn)行內(nèi)部空間R的抽真空。此外，平面部31p的背側(cè)被加工為從外壁面31a凹陷的形狀。所 以，在從外壁面31a凹陷的部分、從頭部13的內(nèi)壁面19和平面部31p 的背側(cè)之間形成有較寬廣的空間。而且，由于排氣口 17位于內(nèi)壁面19 和平面部31p的背側(cè)之間的較寬廣的上述空間，與平面部31p的背側(cè) 的一方相對(duì)，因而，該空間使空氣的流通良好，在制造X射線管2A 時(shí)，能夠容易地經(jīng)由排氣口 17進(jìn)行內(nèi)部空間R的抽真空。在將內(nèi)筒構(gòu)件31安裝于頭部13時(shí)，通過(guò)彎折部前端31e與頭部 13的下端面13c相接，能夠進(jìn)行在陽(yáng)極5的延伸方向上的定位。而且， 與陽(yáng)極5的延伸方向正交的面內(nèi)的定位，通過(guò)內(nèi)筒構(gòu)件31的外壁面31a 與頭部13的內(nèi)壁面20相接而進(jìn)行。通過(guò)這樣的使頭部13的內(nèi)壁面20 和下端面13c的兩面相接的內(nèi)筒構(gòu)件31的定位，能夠精度良好地形成 連通內(nèi)部空間R與排氣管21內(nèi)部的間隙S1、 S2。由于內(nèi)筒構(gòu)件31是區(qū)別于頭部13的物體，可以獨(dú)立地制作內(nèi)筒 構(gòu)件31，因而能夠得到高精度的光滑的內(nèi)壁面31j。 S卩，用于對(duì)陽(yáng)極前 端部5a隱藏排氣口 17的加工，與直接實(shí)施于頭部13的情況相比，由 于可以容易地使與陽(yáng)極前端部5a相對(duì)的內(nèi)壁面31j光滑，因而能夠有 效地抑制陽(yáng)極前端部5a與內(nèi)筒構(gòu)件31之間的放電。此外，該X射線管2A的真空管9a中，在該熔接部分9c上形成有 絕緣性的構(gòu)件與導(dǎo)電性的構(gòu)件的邊界。所以，比較容易引起與陽(yáng)極5 之間的放電。但是，上述的內(nèi)筒構(gòu)件31延伸至真空管9a側(cè)，由該內(nèi) 筒構(gòu)件31對(duì)陽(yáng)極5隱藏真空管9a與連接部9b的熔接部分9c。通過(guò)該 構(gòu)造，抑制了熔接部分9c與陽(yáng)極5之間的電場(chǎng)的紊亂，有效地抑制了 熔接部分9c與陽(yáng)極5之間的放電。如上所述，根據(jù)具備第2實(shí)施方式的X射線管2A，能夠有效地抑 制陽(yáng)極5的放電，因而抑制了因放電而引起的X射線輸出的不穩(wěn)定化 (可進(jìn)行穩(wěn)定的X射線照射)。(第2實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例)接著，參照?qǐng)D15，說(shuō)明第2實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例。 圖15是第2實(shí)施例涉及的X射線管的第1變形例的構(gòu)成的截面示意圖。如圖15所示，X射線管2B (第2實(shí)施例涉及的X射線管的第1 變形例)具備內(nèi)筒構(gòu)件33以代替X射線管2A的內(nèi)筒構(gòu)件31。該內(nèi)筒 構(gòu)件33的比頭部13的下端面13c更向下突出的部分延伸至真空管9a 和連接部9b之間的熔接部分9c的更下方，并以比其它部分更厚的方 式形成。由這樣的較厚部33d隱藏熔接部分9c，使得從陽(yáng)極5看時(shí)， 看不到該熔接部分9c。而且，為了抑制與陽(yáng)極5之間的放電，該較厚 部33d的下端33c，被加工成R形狀。而且，在將內(nèi)筒構(gòu)件33組裝于頭部13時(shí)，通過(guò)使較厚部33d的 臺(tái)階33e接觸于頭部13的下端面13f來(lái)進(jìn)行在陽(yáng)極5的延伸方向上的 定位。所以，這樣的內(nèi)筒構(gòu)件33中，通過(guò)使頭部13的內(nèi)壁面20和下 端面13f的兩面相接的內(nèi)筒構(gòu)件31的定位，能夠高精度地形成連通內(nèi) 部空間R與排氣管21內(nèi)部的間隙S1、 S2。此外，該X射線管2B中， 排氣管21設(shè)在與電子槍3相對(duì)的位置。通過(guò)以上的X射線管2B，可以起到與X射線管2A相同的效果。 (第2實(shí)施例涉及的X射線管的第2變形例)另外，圖16作為如圖15所示的X射線管2B的變形例，是第2 實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例的重要部分的截面圖。如圖16所 示，X射線管2C (第2實(shí)施例涉及的X射線管的第2變形例)中，在 內(nèi)筒構(gòu)件31上，可以在排氣口 17的前方的位置形成直徑小于排氣口17的多個(gè)貫通孔31k。或者，可以在排氣口 17的前方的位置將具有多個(gè)貫通孔的網(wǎng)格狀的構(gòu)件嵌入到內(nèi)筒構(gòu)件31。通過(guò)該構(gòu)造，在對(duì)內(nèi)部 空間R抽真空時(shí)，不僅間隙S1、 S2，該貫通孔31k也成為空氣的通道， 因而能夠效率良好地抽真空。(第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例)接著，參照?qǐng)D17，說(shuō)明第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例。 圖17是第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3變形例的構(gòu)成的截面示意圖。如圖17所示，X射線管2D (第2實(shí)施例涉及的X射線管的第3 變形例)具備內(nèi)筒構(gòu)件35以代替X射線管2A的內(nèi)筒構(gòu)件31。該內(nèi)筒 構(gòu)件35具有直徑略小于內(nèi)壁面19的頭部13的內(nèi)徑的圓筒形，以包圍 陽(yáng)極前端部5a的方式位于頭部13的內(nèi)壁面19和陽(yáng)極前端部5a之間。 該內(nèi)筒構(gòu)件35在形成于頭部13的內(nèi)壁面19的下方的臺(tái)階部13b被定 位。通過(guò)設(shè)置這樣的內(nèi)筒構(gòu)件35，從而對(duì)陽(yáng)極前端部5a隱藏排氣口 17，從陽(yáng)極前端部5a看時(shí)，看不到排氣口17的緣部。該內(nèi)筒構(gòu)件35的內(nèi)壁面35j與頭部13的內(nèi)壁面13c —致地形成。 因此，在內(nèi)筒構(gòu)件35的內(nèi)壁面35j和頭部13的內(nèi)壁面13c的邊界不出 現(xiàn)角部，抑制了內(nèi)壁面35j以及內(nèi)壁面13c和陽(yáng)極5之間的放電。另外，頭部13具有，在內(nèi)部空間R內(nèi)延伸至真空管9a和連接部 9b的熔接部分9c的更下方的環(huán)狀的壁部13e。通過(guò)該環(huán)狀的壁部13e 來(lái)隱藏熔接部分9c，從而從陽(yáng)極5看時(shí)，看不到該熔接部分9c。而且， 為了抑制與陽(yáng)極5之間的放電，該環(huán)狀的頭部13的下端13d，被加工 成R形狀。根據(jù)以上的X射線管2D，可以起到與X射線管2A相同的效果。 此外，本發(fā)明不限定于上述的第2實(shí)施例和各種變形例，能夠進(jìn) 行各種變形。例如，雖然在內(nèi)筒構(gòu)件31上設(shè)有平面部31p，但是，也 可以省略該平面部31p。另外，雖然真空管9a和頭部13經(jīng)由連接部 9b接合，但是，真空管9a和頭部13也可以直接接合。另外，雖然在 陽(yáng)極5的傾斜面5c上另外設(shè)置有標(biāo)靶5d，但是，陽(yáng)極5與標(biāo)革E 5d可 以一體化，傾斜面5c的一部分可以構(gòu)成標(biāo)靶。另外，雖然陽(yáng)極5具有 在圓柱前端上設(shè)有傾斜面5c的形狀，但是，陽(yáng)極5的前端可以通過(guò)各 種切削而形成有其它的形狀。這種情況下，即使在陽(yáng)極的前端部存在著角狀的部位，也可以通過(guò)內(nèi)筒構(gòu)件31來(lái)有效地抑制陽(yáng)極前端部和排 氣口之間的放電。接著，參照?qǐng)D18和圖19，說(shuō)明使用具有上述構(gòu)造的X射線管(本 發(fā)明涉及的X射線管)的本發(fā)明涉及的X射線源100。圖18是本發(fā)明 涉及的X射線源的一個(gè)實(shí)施例的構(gòu)成的分解立體圖。圖19是本實(shí)施例 涉及的X射線源的內(nèi)部構(gòu)造的截面示意圖。雖然上述的第1實(shí)施例涉 及的X射線管1A 1D和第2實(shí)施例涉及的X射線管2A 2D的任何 一個(gè)均能適用于本發(fā)明涉及的X射線源100，但是，為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)， 在以下的說(shuō)明及相關(guān)的附圖中，能夠適用于該X射線源100的X射線 管全部以"X射線管1"表示。如圖18和圖19所示，X射線源100具備，電源部102、電源部 102、配置在絕緣塊102A的上面?zhèn)鹊牡?板構(gòu)件103、配置在絕緣塊 102A的下面?zhèn)鹊牡?板構(gòu)件104、設(shè)置在第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu) 件104之間的4個(gè)連結(jié)間隔構(gòu)件105、以及經(jīng)由金屬制筒構(gòu)件106固定 在第1板構(gòu)件103上的X射線管1。另外，電源部102具有在由環(huán)氧 樹脂形成的絕緣塊102A中使高電壓產(chǎn)生部102B、高電壓線102C、插 座102D等(參照?qǐng)D19)模塊化的構(gòu)造。電源部102的絕緣塊102A具有大致正方形的上面與下面相互平行 的短角柱形狀。在其上面的中心部配置有，經(jīng)由高電壓線102C連接于 高電壓產(chǎn)生部102B的圓筒狀的插座102D。另外，在絕緣塊102A的上 面，設(shè)有被配置為與插座102D同芯狀的環(huán)狀的壁部102E。而且，在 絕緣塊102A的周面上，涂布有將其電位作為GND電位(接地電位) 導(dǎo)電性涂料108。另外，也可以粘貼導(dǎo)電性膠帶以代替導(dǎo)電性涂料的涂 布。第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu)件104為，與例如4個(gè)連結(jié)間隔構(gòu)件 105和8個(gè)連結(jié)螺絲109協(xié)作，從圖示的上下方向挾持電源部102的絕 緣塊102A的構(gòu)件。這些第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu)件104，形成為比 絕緣塊102A的上面和下面大的大致正方形。在第1板構(gòu)件103和第2 板構(gòu)件104的4角，分別形成有使各連結(jié)螺絲109插通的螺絲插通孔 103A、 104A。此外，在第1板構(gòu)件103上，形成有將在絕緣塊102A 的上面突出設(shè)置的環(huán)狀的壁部2E包圍的圓形的開口 103B。4個(gè)連結(jié)間隔構(gòu)件105，形成為角柱狀，被配置在第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu)件104的4角。各連結(jié)間隔構(gòu)件105的長(zhǎng)度，比絕緣塊102A 的上面和下面的間隔稍短，即，被設(shè)定成短了相當(dāng)于絕緣塊102A的壓 縮變形的量。在各連結(jié)間隔構(gòu)件105的上下的端面，分別形成有擰入 有連結(jié)螺絲109的螺絲孔105A。金屬制筒構(gòu)件106形成為圓筒狀，在其基端部上形成的安裝凸緣 106A，經(jīng)由密封構(gòu)件被螺絲固定在第1板構(gòu)件103的開口 103B的周 邊。該金屬制筒構(gòu)件6的前端部的周面形成為錐形面106B。該錐形面 106B使得金屬制筒構(gòu)件106構(gòu)成為在前端部無(wú)角部的前端變細(xì)狀。此 外，在與金屬制筒構(gòu)件106的錐形面106B連接的平坦的前端面，形成 有使X射線管1的真空管7插通的開口 106C。X射線管1具備，將陽(yáng)極5保持為絕緣狀態(tài)并收納的真空管7、將 與陽(yáng)極5導(dǎo)通并構(gòu)成為其內(nèi)端部的反射型的標(biāo)靶5d收納的頭部9的上 部9c、以及將向著標(biāo)靶5d的電子入射面(反射面)出射電子束的電子 槍15收納的電子槍收容部11。此外，由真空管7和頭部9構(gòu)成標(biāo)靶收 容部。真空管7和頭部9的上部9c被配置成管軸一致，電子槍收容部11 的管軸相對(duì)于這些管軸大致正交。而且，在真空管7和頭部9的上部 9c之間，形成有用于在金屬制筒構(gòu)件106的前端面上進(jìn)行固定的凸緣 9a。此外，陽(yáng)極5的基端部5a (由電源部102施加高電壓的部分)從 真空管7的中心部向下方突出(參照?qǐng)D19)。另外，在X射線管1，還設(shè)有排氣管，經(jīng)由該排氣管將真空管7、 頭部9的上部9c、以及電子槍收容部11的內(nèi)部減壓至規(guī)定的真空度， 從而構(gòu)成真空密封容器。這樣的X射線管1中，在電源部102的絕緣塊102A內(nèi)模塊化的 插座102D上嵌合有基端部5a (高電壓施加部)。由此，基端部5a經(jīng)由 高電壓線102C從高電壓產(chǎn)生部102B接受高電壓的供給。此外，如果 在該狀態(tài)下，內(nèi)置于電子槍收容部11的電子槍15向著標(biāo)靶5d的電子 入射面出射電子，那么，因來(lái)自該電子槍15的電子入射到標(biāo)靶5d而 產(chǎn)生的X射線，從安裝于頭部9的上部9c的開口部的X射線出射窗 10出射。在此，X射線源IOO，依照例如以下的順序被組裝。首先，插通于第2板構(gòu)件104的各螺絲插通孔104A的4個(gè)連結(jié)螺絲109，被擰入4 個(gè)連結(jié)間隔構(gòu)件105的下端面的各螺絲孔105A。然后，插通于第1板 構(gòu)件103的各螺絲插通孔103A的4個(gè)連結(jié)螺絲109，被擰入4個(gè)連結(jié) 間隔構(gòu)件105的上端面的各螺絲孔105A，于是，第1板構(gòu)件103和第 2板構(gòu)件104以從上下方向挾持絕緣塊102A的狀態(tài)相互連結(jié)。此時(shí)， 在第1板構(gòu)件103和絕緣塊102A的上面之間設(shè)有密封構(gòu)件，同樣地， 在第2板構(gòu)件104和絕緣塊102A的下面之間也設(shè)有密封構(gòu)件。接著，從固定在第1板構(gòu)件103上的金屬制筒構(gòu)件106的開口 106C，向該金屬制筒構(gòu)件106的內(nèi)部注入液體狀絕緣物質(zhì)即高壓絕緣 油110。隨后，X射線管1的真空管7從金屬制筒構(gòu)件106的開口 106C 插入到金屬制筒構(gòu)件106的內(nèi)部，并浸漬于高壓絕緣油110中。此時(shí)， 從真空管7的中心部向下方突出的基端部5a (高電壓施加部)嵌合于 電源部102的插座102D。然后，X射線管1的凸緣9a經(jīng)由密封構(gòu)件 被擰緊固定在金屬制筒構(gòu)件106的前端面上。經(jīng)以上的工序而組裝的X射線源100中，如圖19所示，相對(duì)于X 射線管1的陽(yáng)極5，在電源部102的絕緣塊102A的上面突出設(shè)置的環(huán) 狀的壁部102E和金屬制筒構(gòu)件106被配置成同芯狀。此外，環(huán)狀的壁 部102E，包圍從X射線管1的真空管7突出的基端部5a(高電壓施加 部)的周圍，并突出到將其與金屬制筒構(gòu)件106之間遮蔽的高度。X射線源100中，如果從電源部102的高電壓產(chǎn)生部102B經(jīng)由高 電壓線102C和插座102D向X射線管1的基端部5a施加高電壓，則 經(jīng)由陽(yáng)極5向標(biāo)靶5d供給高電壓。如果在該狀態(tài)下，在電子槍收容部 11收納的電子槍15向在頭部9的上部9c收納的標(biāo)靶5d的電子入射面 出射電子，則該電子入射到標(biāo)靶5d。由此，在標(biāo)靶5d產(chǎn)生的X射線 經(jīng)由安裝在頭部9的上部9c的開口部的X射線出射窗10出射到外部。在此，X射線源100中，以將X射線管1的真空管7浸漬于高壓 絕緣油110的狀態(tài)進(jìn)行收納的金屬制筒構(gòu)件106，在電源部2的絕緣塊 102A的外部即第l板構(gòu)件103上突出設(shè)置且被固定。因此，散熱性良 好，可以促進(jìn)金屬制筒構(gòu)件106的內(nèi)部的高壓絕緣油IIO和X射線管 1的真空管7的散熱。另外，金屬制筒構(gòu)件106具有將陽(yáng)極5配置于中心的圓筒形狀。在該情況下，由于從陽(yáng)極5至金屬制筒構(gòu)件106的距離均等，因而， 可以穩(wěn)定在陽(yáng)極5和標(biāo)靶5d的周圍形成的電場(chǎng)。而且，該金屬制筒構(gòu) 件106可以使帶電的高壓絕緣油110的電荷有效地放電。而且，在電源部102的絕緣塊102A上面突出設(shè)置的環(huán)狀的壁部 102E，包圍從X射線管1的真空管7突出的基端部5a(高電壓施加部) 的周圍，從而將其與金屬制筒構(gòu)件106之間遮蔽。所以，能夠有效地 防止從基端部5a向金屬制筒構(gòu)件106的異常放電。另外，X射線源100具備，在經(jīng)由4個(gè)連結(jié)間隔構(gòu)件105相互連 結(jié)的第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu)件104之間把持有電源部102的絕緣 塊102A的構(gòu)造。這意味著，在絕緣塊102A內(nèi)不存在引發(fā)放電的導(dǎo)電 性異物或引發(fā)電場(chǎng)的紊亂的帶電性異物。因此，通過(guò)本發(fā)明的X射線 源100，有效地抑制了在電源部102的無(wú)用的放電現(xiàn)象和電場(chǎng)的紊亂。在此，X射線源IOO，例如在將樣品的內(nèi)部構(gòu)造作為透視圖像進(jìn)行 觀察的非破壞檢測(cè)裝置中，被組裝在向樣品照射X射線的X射線產(chǎn)生 裝置內(nèi)使用。作為該X射線源100的使用例，圖20是說(shuō)明組裝在非破 壞檢測(cè)裝置的X射線產(chǎn)生裝置的X射線源(包含本實(shí)施例涉及的X射 線管)的作用的正面圖。X射線源100，向配置在其與X射線攝像機(jī)XC之間的樣品板SP 照射X射線。BP， X射線源IOO，從標(biāo)靶5d的X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP通過(guò) X射線出射窗10向樣品板SP照射X射線，該標(biāo)靶5d內(nèi)置于在金屬制 筒構(gòu)件106的上方突出的頭部9的上部9c。這樣的使用例中，由于從X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP至樣品板SP的距離越 近，利用X射線攝像機(jī)XC得到的樣品板SP的透視圖像的擴(kuò)大率就越 大，因而樣品板SP通常以接近X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP的方式配置。此外， 在立體地觀察樣品板SP的內(nèi)部構(gòu)造的情況下，使樣品板SP向著與X 射線照射方向正交的軸周圍傾斜。在此，如圖20所示，在使樣品板SP向著與X射線的照射方向正 交的軸周圍傾斜的狀態(tài)下，使樣品板SP的觀察點(diǎn)P接近X射線產(chǎn)生 點(diǎn)XP，立體地進(jìn)行觀察時(shí)，如果在X射線源100的金屬制筒構(gòu)件106 的前端部殘留有以二點(diǎn)劃線所示的角部，那么，使樣品板SP的觀察點(diǎn)P接近X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP只能達(dá)到樣品板SP接觸于金屬制筒構(gòu)件6的 前端角部的距離，S卩，從X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP至觀察點(diǎn)P的距離成為D1的距離。與此相對(duì)地，在金屬制筒構(gòu)件106的前端部如圖18和圖19所示 地由錐形面106B構(gòu)成為無(wú)角部的前端變細(xì)狀的X射線源100中，如 圖20中的實(shí)線所示，使樣品板SP的觀察點(diǎn)P接近X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP 可以達(dá)到樣品板SP接觸于金屬制筒構(gòu)件106的錐形面106B的距離， 即，從X射線產(chǎn)生點(diǎn)XP至觀察點(diǎn)P的距離成為D2的距離。結(jié)果，能 夠更加放大樣品板SP的觀察點(diǎn)P的透視圖像，更加精密地進(jìn)行觀察點(diǎn) P的非破壞性檢測(cè)。本發(fā)明涉及的X射線源100不限于上述實(shí)施例。例如，雖然優(yōu)選 金屬制筒構(gòu)件106的內(nèi)周面的截面形狀為圓形，但其外周面的截面形 狀不限于圓形，可以為四邊形或其它的多邊形。這種情況下，金屬制 筒構(gòu)件的前端部的周面可以形成為斜面狀。另外，電源部102的絕緣塊102A可以具有短圓柱形狀，與此相對(duì) 應(yīng)地，第1板構(gòu)件103和第2板構(gòu)件104可以具有圓板形狀。而且， 連結(jié)間隔構(gòu)件105可以為圓柱形狀，其個(gè)數(shù)也不限定于4個(gè)。而且，X射線管1的構(gòu)造可以具備在真空管7內(nèi)配置有電子槍的 構(gòu)造。從以上的本發(fā)明的說(shuō)明可知，本發(fā)明可以進(jìn)行各種變形。這些變 形不能被認(rèn)為是脫離本發(fā)明的要旨和范圍，對(duì)于所有的本領(lǐng)域技術(shù)人 員來(lái)說(shuō)不言而喻的改良被包含在權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。(產(chǎn)業(yè)上可利用性) 本發(fā)明涉及的X射線管，可以作為X射線產(chǎn)生源適用于非破壞、 非接觸性觀察中被大量使用的各種X射線圖像攝像裝置中。
權(quán)利要求
1.一種X射線管，使從電子槍出射的電子入射到位于陽(yáng)極的前端部的X射線標(biāo)靶，將在該X射線標(biāo)靶所產(chǎn)生的X射線取出到外部，其特征在于，包括框體，規(guī)定收納所述陽(yáng)極的前端部的內(nèi)部空間；照射窗，設(shè)在所述框體上，將在所述X射線標(biāo)靶所產(chǎn)生的X射線取出到所述框體的外部；排氣口，設(shè)在面對(duì)所述陽(yáng)極的所述框體的內(nèi)壁面的規(guī)定位置，用于對(duì)所述內(nèi)部空間抽真空；以及遮蔽構(gòu)造，設(shè)在所述框體的內(nèi)部空間，用于對(duì)所述陽(yáng)極的前端部隱藏所述排氣口。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管，其特征在于， 所述遮蔽構(gòu)造包括遮蔽構(gòu)件，所述遮蔽構(gòu)件具有面對(duì)所述陽(yáng)極的前端部的內(nèi)側(cè)面和與該內(nèi)側(cè)面相對(duì)的外側(cè)面，并由導(dǎo)電性材料形成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線管，其特征在于， 所述遮蔽構(gòu)件，在從所述框體的內(nèi)壁面離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，被配置在所述陽(yáng)極的前端部和所述排氣口之間，并且，所述遮蔽構(gòu)件的至少內(nèi)側(cè)面具有比所述排氣口的開口面積大的面積。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的X射線管，其特征在于， 所述遮蔽構(gòu)件，在從所述框體的內(nèi)壁面中所述照射窗側(cè)的區(qū)域離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，被配置在所述陽(yáng)極的前端部和所述排氣口之間。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2 4中的任意一項(xiàng)所述的X射線管，其特征在于， 所述遮蔽構(gòu)件具有分別連通所述內(nèi)側(cè)面和所述外側(cè)面的多個(gè)貫通孔。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2 5中的任意一項(xiàng)所述的X射線管，其特征在于，所述遮蔽構(gòu)件，包含從所述框體的內(nèi)壁面延伸至內(nèi)部空間的該框 體的一部分。
7. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線管，其特征在于， 所述遮蔽構(gòu)件具有分別連通所述內(nèi)側(cè)面和所述外側(cè)面的多個(gè)貫通孔，并且，所述遮蔽構(gòu)件被配置為，面對(duì)所述陽(yáng)極的前端部的所述遮蔽構(gòu)件 的內(nèi)側(cè)面與所述框體的內(nèi)壁面一致。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管，其特征在于，所述框體是包圍所述陽(yáng)極的前端部的由導(dǎo)電性材料形成的中空構(gòu)件，具有第1陽(yáng)極收容部，在其內(nèi)壁面上設(shè)置有所述排氣口，并具有所述照射窗；以及第2陽(yáng)極收容部，通過(guò)與所述第1陽(yáng)極收容部接合，從而與該第1陽(yáng)極收容部共同規(guī)定用于收納所述陽(yáng)極的內(nèi)部空間， 并且，所述遮蔽構(gòu)件包含內(nèi)筒構(gòu)件，所述內(nèi)筒構(gòu)件是在所述框體內(nèi)部空 間內(nèi)以至少包圍所述陽(yáng)極的前端部的方式而被配置的中空構(gòu)件，通過(guò) 在從所述第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，其一部分 位于該第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面和所述陽(yáng)極的前端部之間，從而發(fā)揮 出對(duì)所述陽(yáng)極的前端部隱藏所述排氣口的功能。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線管，其特征在于， 所述內(nèi)筒構(gòu)件，在其端部從所述第1陽(yáng)極收容部的照射窗側(cè)內(nèi)壁面離開規(guī)定距離的狀態(tài)下，被配置在所述框體的內(nèi)部空間內(nèi)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的X射線管，其特征在于， 所述內(nèi)筒構(gòu)件的一部分具有，分別從所述陽(yáng)極的前端部向所述第1陽(yáng)極收容部的內(nèi)壁面延伸的多個(gè)貫通孔。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8 10中的任意一項(xiàng)所述的X射線管，其特征在于，所述第1陽(yáng)極收容部具有由導(dǎo)電性材料形成的頭部，所述第2陽(yáng)極收容部具有，由絕緣性材料形成的真空管、以及接合于該真空管的端部并接合于所述頭部的由導(dǎo)電性材料形成的連接部，并且，所述內(nèi)筒構(gòu)件具有在所述內(nèi)部空間內(nèi)向所述第2陽(yáng)極收容部側(cè)延 伸的形狀，從而對(duì)所述陽(yáng)極隱藏所述真空管和所述連接部的接合部分。
12. 根據(jù)權(quán)利要求8 10中的任意一項(xiàng)所述的X射線管，其特征在于，所述第2陽(yáng)極收容部具有由絕緣性材料形成的真空管，所述第1陽(yáng)極收容部具有，由導(dǎo)電性材料形成的頭部、以及設(shè)在所述頭部的端部且接合于所述真空管的由導(dǎo)電性材料形成的連接部，并且，所述內(nèi)筒構(gòu)件具有在所述內(nèi)部空間內(nèi)向所述第2陽(yáng)極收容部側(cè)延 伸的形狀，從而對(duì)所述陽(yáng)極隱藏所述真空管和所述連接部的接合部分。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的X射線管，其特征在于， 所述內(nèi)筒構(gòu)件具有所述第2陽(yáng)極收容部側(cè)的端部被彎折成R形狀的彎折部，所述彎折部的前端接合于所述第1陽(yáng)極收容部， 所述彎折部具有一個(gè)或一個(gè)以上的貫通孔。
14. 一種X射線源，其特征在于，包括 根據(jù)權(quán)利要求1 13中的任意一項(xiàng)所述的X射線管、以及用于向所述X射線標(biāo)靶供給用于產(chǎn)生X射線的電壓的電源部。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種X射線管及包含其的X射線源，為了產(chǎn)生X射線，該X射線管具備用于有效地抑制被電子照射的陽(yáng)極的前端部的放電的構(gòu)造。本發(fā)明的X射線管(1A)具備，規(guī)定將陽(yáng)極(5)的前端部收納的內(nèi)部空間的頭部、用于使產(chǎn)生的X射線透過(guò)到外部的照射窗、設(shè)在框體的內(nèi)壁面上且用于對(duì)內(nèi)部空間抽真空的排氣口(17)、以及對(duì)陽(yáng)極的前端部隱藏排氣口的遮蔽構(gòu)造(25)。
文檔編號(hào)H01J35/16GK101283435SQ20068003736
公開日2008年10月8日 申請(qǐng)日期2006年10月3日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月7日
發(fā)明者稻鶴務(wù) 申請(qǐng)人:浜松光子學(xué)株式會(huì)社