專利名稱：蔭罩式等離子體顯示板用電極的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子體顯示板的電極制作技術(shù)，尤其是一種蔭罩式 等離子體顯示板的電極制作技術(shù)，具體地說一種在蔭罩式等離子體顯示板的 面板上，利用薄膜光刻技術(shù)和厚膜技術(shù)相結(jié)合的蔭罩式等離子體顯示板用電 極的制備方法。
背景技術(shù)：
目前常用的電極制備方法有絲網(wǎng)印刷法、光敏銀漿法和薄膜光刻法。 絲網(wǎng)印刷法通過曝光、顯影的方法將所需的電極圖形做在一定目數(shù)的絲網(wǎng)上， 用導(dǎo)電銀漿作匯流電極的原材料，再在絲印機上經(jīng)過絲網(wǎng)印刷把導(dǎo)電銀漿料 印刷到基板的所需位置上，印刷后經(jīng)烘干直接形成圖形，但是采用絲網(wǎng)印刷
法制作電極，電極寬度小于100pm時比較難實現(xiàn)。目前使用比較多的是光敏 銀漿法，就是在基板上整板印刷一定厚度的光敏銀漿，烘干后用專用的掩膜 版經(jīng)曝光、顯影，得到所需的電極圖形，再經(jīng)過燒結(jié)，完成匯流電極的制作。 但是這種方法制備電極需要把漿料印刷給玻璃基板的整面，而最終形成的圖 形的漿料只有約30%。高分辨的線條通常需要用薄膜方法，分辨率的限制是 決定是否使用厚膜技術(shù)的最大的因素，薄膜光刻法是采用真空成膜裝置成膜， 上面用光刻膠形成保護(hù)膜，然后經(jīng)過曝光、顯影、腐蝕等一系列工藝技術(shù)， 形成圖形，可以獲得整板均勻性好、精度高的電極線條(幾微米寬)，但是光 刻設(shè)備昂貴，制造工藝復(fù)雜，成本很高，材料浪費嚴(yán)重，且容易造成污染。 將薄膜光刻技術(shù)和厚膜技術(shù)相結(jié)合，不僅可以做到比較細(xì)的電極，且成本遠(yuǎn) 低于薄膜法，同時由于不需要整板印刷漿料，可以減少不必要的資源的浪費 和制造費用的增加。此外，還可以解決電極的兩端部分發(fā)生翹起的巻邊現(xiàn)象 的問題。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有等離子體顯示板的電極制作方法的不足，為 提高面板的質(zhì)量和生產(chǎn)效率、降低面板的制造成本，而提出的一種蔭罩式等 離子體顯示板用電極的制備方法。 本發(fā)明的技術(shù)方案是-
一種蔭罩式等離子體顯示板用電極的制備方法，它包括布置于前玻璃基 板上互相平行放置的掃描電極，以及布置于后玻璃基板上的與所描述電極正 交的尋址電極的制作方法，二種電極的制備方法完全相同，其特征在于它包 括以下步驟
a、 在玻璃基板表面制作含PVA感光材料的感光層；
b、 曝光用帶線條圖形的掩膜版平鋪在感光層的表面，再用紫外光照射 掩膜板和感光材料，形成固化的感光材料和未固化的感光材料；
C、顯影用顯影液噴淋以上曝光過的玻璃基板，去除未固化的感光材料， 形成有所需圖形的固化的感光材料的玻璃基板。
d、 填充導(dǎo)電銀漿在去除的感光材料處填充導(dǎo)電銀漿，形成所需要的導(dǎo) 電銀漿圖形。
e、 烘干將帶有感光材料和導(dǎo)電銀漿的基板烘干，去除導(dǎo)電銀漿中的部 分溶劑，使電極成形，并附著在玻璃基板上；
f、 燒結(jié)采用燒成爐對經(jīng)過烘干的玻璃基板進(jìn)行燒結(jié)，去除上述固化的 感光材料，同時徹底去除導(dǎo)電銀漿中的溶劑，使電極成形，并具有導(dǎo)電能力。
所述的導(dǎo)電銀漿應(yīng)采用不具有光敏特性的漿料。 所述的感光層可以在燒成的高溫過程中直接分解去除。 所述的導(dǎo)電銀漿最好是以梯形形狀形成在上述玻璃基板上。 在曝光和顯影階段中，應(yīng)使感光干膜能夠被帶線條圖形的掩膜版防護(hù)的 光的衍射和折射現(xiàn)象形成反梯形。 本發(fā)明的有益效果
本發(fā)明提出的蔭罩式等離子顯示板的電極形成方式，在等離子顯示面板 的玻璃基板上，只對利用感光材料形成實際模式的部分形成電極，因此具有 杜絕不必要導(dǎo)電銀漿的浪費，減少顯示面板的制造費用，并可以提高生產(chǎn)效率，同時通過形成的梯形電極，可以防止電極巻邊現(xiàn)象發(fā)生的效果。


圖1為本發(fā)明的蔭罩式等離子體顯示器的基本結(jié)構(gòu)。
圖2為本發(fā)明的電極的制作過程示意圖，其中圖2a是感光層的結(jié)構(gòu)示 意圖；圖2b是曝光狀態(tài)示意圖；圖2c是顯影狀態(tài)示意圖；圖2d是填充導(dǎo)電 銀漿和干燥狀態(tài)示意圖；圖2e是電極燒成狀態(tài)示意圖。
圖2中13為前玻璃基板或后玻璃基板、14為感光層、15為帶有電極 圖案的掩膜版、16為紫外光、17為固化的感光材料、18為未固化的感光材 料、19為顯影液、20為導(dǎo)電銀漿、21為最終成形的掃描電極或?qū)ぶ冯姌O。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明的內(nèi)容作進(jìn)一步的說明。 圖1所示的是一種新型蔭罩式對向放電型AC-PDP (即SMPDP)。在其 制作工藝中采用彩色CRT生產(chǎn)中常用的蔭罩板(金屬柵網(wǎng)板)來替代PDP 中復(fù)雜的障壁制造，獨立加工金屬柵網(wǎng)板，并在其上制作熒光粉。這種蔭罩 式等離子體顯示板主要包括前基板、后基板和蔭罩。后基板包括后襯玻璃基 板，在后襯玻璃基板上形成的尋址電極，在有尋址電極的后襯玻璃基板上形 成的介質(zhì)層以及在介質(zhì)層上形成的保護(hù)層；前基板包括前襯玻璃玻璃基板， 在前襯玻璃基板下表面形成的與尋址電極垂直的掃描電極、在有掃描電極的 前襯玻璃基板上形成的介質(zhì)層以及在介質(zhì)層表面形成的保護(hù)層；夾在前、后 基板中間的蔭罩是由導(dǎo)電材料(例如鐵或其合金)加工而成的包含網(wǎng)孔陣列 的金屬薄網(wǎng)板。將上述前基板、蔭罩和后基板組裝封接后充入預(yù)定的工作氣 體，譬如各種惰性氣體，以"三明治"的方式裝配來制作整屏，即形成了蔭 罩式等離子體顯示面板，如圖1所示，它包括后基板l、前基板2、蔭罩3， 其中蔭罩3封裝在前后基板2、 1之間，所述的后基板1主要由后襯底玻璃基 板4、第二電極5、介質(zhì)層6、保護(hù)膜7組成，其中第二電極5平行排列于后 襯底玻璃基板4上，介質(zhì)層6覆蓋在第二電極5上，保護(hù)膜7則覆蓋在介質(zhì) 層6上；所述的前基板2主要由前襯底玻璃基板8、第一電極9、介質(zhì)層IO 組成，其中第一電極9位于前襯底玻璃基板8上，介質(zhì)層10覆蓋在第一電極9上，第一電極9與后基板1上的第二電極5成空間垂直正交，所述的蔭罩3 為包含網(wǎng)格孔12陣列的導(dǎo)電板，所述的蔭罩3、第一電極9和第二電極5組 成介質(zhì)阻擋型交流對向放電型的基本單元。將后基板1、蔭罩3、前基板2 按固定位置放好，四周用低熔點玻璃粉氣密封接，蔭罩可通過引線或印在基 板上的導(dǎo)電膜引出與外電路連接。向其中充入一定量的所需工作氣體，封接， 這就是蔭罩式等離子體顯示板。
下面結(jié)合圖2對本發(fā)明的蔭罩式等離子體顯示板的第一電極9 (掃描電 極)和第二電極5(尋址電極)的制備進(jìn)行進(jìn)一步的說明。
首先，清洗玻璃基板4 (或玻璃基板8)，在玻璃基板4 (或玻璃基板8) 的表面制作一層感光層14，感光層應(yīng)平整，效果圖見圖2a。
其次，曝光用帶電極圖案的掩膜板15平鋪在感光層14的表面，再用 紫外光16照射掩膜板15和感光層14，曝光過程中上述模式掩膜板15的光 的衍射和折射現(xiàn)象形成反梯形，紫外光16穿透掩膜板15上透明區(qū)域并照射 到感光層14的相應(yīng)部位，使這部分感光材料固化，形成固化的感光材料17; 掩膜板15上的不透明區(qū)域能夠阻擋紫外光16的照射并使感光層14的相應(yīng)部 分不發(fā)生任何變化，形成未固化的感光材料18，見圖2b。
第三步，顯影將曝光后的基板置入顯影設(shè)備中，用0.1 1.0%的碳酸 鈉顯影液19噴淋基板，顯影液對未固化的感光材料18進(jìn)行化學(xué)腐蝕，去除 未固化的感光材料18，形成反梯形的感光層17，見圖2c。
第四步，在玻璃基板上沒有形成上述圖形的部分填充導(dǎo)電銀漿層，并烘 干有漿料填充形成圖形的基板，烘干溫度為80 150'C，烘干時間為20 60 分鐘，使形成所需要圖形的導(dǎo)電銀漿20固化，見圖2d。
最后，燒結(jié)采用燒成爐對制備好的基板燒結(jié)，燒結(jié)溫度為530 600°C， 保溫時間為30 60分鐘，得到所需的第一電極9 (掃描電極)或第二電極5 (尋址電極)，見圖2e。
本發(fā)明未涉及部分與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求
1、一種蔭罩式等離子體顯示板用電極的制備方法，包括布置于前玻璃基板上互相平行放置的掃描電極，以及布置于后玻璃基板上的與所描述電極正交的尋址電極的制作方法，其特征在于它包括以下步驟a、在玻璃基板表面制作含PVA感光材料的感光層；b、曝光用帶線條圖形的掩膜版平鋪在感光層的表面，再用紫外光照射掩膜板和感光材料，形成固化的感光材料和未固化的感光材料；c、顯影用顯影液噴淋以上曝光過的玻璃基板，去除未固化的感光材料，形成有所需圖形的固化的感光材料的玻璃基板；d、填充導(dǎo)電銀漿在去除的感光材料處填充導(dǎo)電銀漿，形成所需要的導(dǎo)電銀漿圖形；e、烘干將帶有感光材料和導(dǎo)電銀漿的基板烘干，去除導(dǎo)電銀漿中的部分溶劑，使電極成形，并附著在玻璃基板上；f、燒結(jié)采用燒成爐對經(jīng)過烘干的玻璃基板進(jìn)行燒結(jié)，去除上述固化的感光材料，同時徹底去除導(dǎo)電銀漿中的溶劑，使電極成形，并具有導(dǎo)電能力。
2、 如權(quán)利要求1所述的電極制作方法，其特征在于導(dǎo)電銀漿是不具有光敏特性的漿料。
3、 如權(quán)利要求1所述的電極制備方法，其特征在于感光層可以在燒成的高溫過程中直接分解去除。
4、 如權(quán)利要求1所述的電極制備方法，其特征在于導(dǎo)電銀漿是以梯形形狀形成在上述玻璃基板上。
5、 如權(quán)利要求l所述的電極制備方法，其特征在于在曝光和顯影階段中，應(yīng) 使感光干膜能夠被帶線條圖形的掩膜版防護(hù)的光的衍射和折射現(xiàn)象形成反梯 形。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種蔭罩式等離子體顯示板電極的制作方法，它包括布置于前玻璃基板上互相平行放置的掃描電極，以及布置于后基板上的與所描述電極正交的尋址電極的制作方法。包括在玻璃基板的上部，制作一層感光材料的階段；使帶電極圖形的掩膜版和上述感光層表面接觸，用紫外光照射進(jìn)行曝光的階段；將曝光后的基板在顯影室中進(jìn)行顯影的階段；把導(dǎo)電銀漿只填充在上述玻璃基板上沒有形成上述感光層部分的階段；干燥基板，經(jīng)過燒結(jié)工藝制備得到電極尺寸、形狀符合設(shè)計要求電極，同時去除感光層。本發(fā)明在蔭罩式等離子體顯示板的玻璃板上利用感光材料僅對形成實際模式的部分形成電極，具有節(jié)省顯示面板的制造費用，提高生產(chǎn)效率，并可以防止電極卷邊現(xiàn)象的優(yōu)點。
文檔編號H01J9/02GK101320666SQ20081012338
公開日2008年12月10日 申請日期2008年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月16日
發(fā)明者雄 張, 朱立鋒, 潔 林, 林青園, 樊兆雯, 武國政 申請人:南京華顯高科有限公司