專利名稱：控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
控制裝置
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種控制裝置，尤其涉及一種可用于各類電氣裝置上的帶光環(huán)的 控制裝置，這種控制裝置包含一控制件，其可以是按鍵或者選擇旋鈕等。
背景技術(shù)：
目前，在各種電氣裝置中有很多都采用帶光環(huán)的控制裝置，其中光環(huán)可直觀地顯 示機(jī)器的狀態(tài)，例如光環(huán)的亮滅可代表機(jī)器電源是否被接通或者其所環(huán)繞的控制裝置 是否被觸發(fā)等。這種帶光環(huán)的控制裝置一般的結(jié)構(gòu)是控制件，例如按鍵、旋鈕等， 裝于電路板上，并從控制面板上預(yù)留的機(jī)械孔中伸出供用戶操作。導(dǎo)光體環(huán)繞控制件， 其至少一部分也從上述機(jī)械孔中伸出。 一個(gè)或多個(gè)發(fā)光體，例如發(fā)光二極管，位于導(dǎo) 光體下方，在特定情況下發(fā)光體與電源接通并發(fā)光，光線透過(guò)導(dǎo)光體，從而使用戶可 以判斷是否處于該特定情況下。
目前的帶光環(huán)的控制裝置中存在以下一些缺點(diǎn)為了達(dá)到理想的視覺(jué)效果，往往 需要在導(dǎo)光體下方安裝較多的發(fā)光二極管，以改善導(dǎo)光體發(fā)光不均的現(xiàn)象，但這樣勢(shì) 必成本較高，而且電路設(shè)計(jì)及生產(chǎn)工藝較為復(fù)雜；有些生產(chǎn)廠家出于成本的考慮，使 用較少的發(fā)光二極管，其結(jié)果是導(dǎo)光體中傳播的光線很不均勻，光線多數(shù)集中于發(fā)光 二極管所處的位置上方，而其他位置相對(duì)較暗，影響可視效果。

發(fā)明內(nèi)容以上缺點(diǎn)，提供一種成本相對(duì)較低，又可以提供均勻 發(fā)光的帶光環(huán)的控制裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型通過(guò)以下方式實(shí)現(xiàn) 一種控制裝置，包含一個(gè)控制 件， 一個(gè)導(dǎo)光體至少部分地環(huán)繞所述控制件，至少一個(gè)發(fā)光元件位于所述導(dǎo)光體下方， 導(dǎo)光體上與所述至少一個(gè)發(fā)光元件對(duì)應(yīng)的方位有一個(gè)減弱在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件 上方區(qū)域光線的光線干擾裝置。由于光線干擾裝置減弱了在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件 上方區(qū)域的光線，也即減弱了原本光線最強(qiáng)的區(qū)域，于是即使采用較少的發(fā)光元件也 可使導(dǎo)光體中傳播的光線較為均勻。
優(yōu)選地，當(dāng)上述至少一個(gè)發(fā)光元件的個(gè)數(shù)大于一時(shí)，發(fā)光元件均勻分布。
優(yōu)選地，上述至少一個(gè)發(fā)光元件有一個(gè)電源開(kāi)關(guān)，所述電源開(kāi)關(guān)與所述控制件相 關(guān)聯(lián)。于是操作控制件時(shí)可點(diǎn)亮發(fā)光元件。
優(yōu)選地，上述至少一個(gè)發(fā)光元件與外部電源直接連接。于是當(dāng)外部電源接通時(shí)發(fā) 光元件即發(fā)光。
優(yōu)選地，上述光線干擾裝置為位于發(fā)光元件上方的形成于導(dǎo)光體上的凹槽，由于 在導(dǎo)光體上形成凹槽，發(fā)光元件離導(dǎo)光體導(dǎo)光介質(zhì)的距離增加，發(fā)光元件向上直接射 入導(dǎo)光體的光線減少，于是在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件上方區(qū)域的光線變?nèi)?，使在?dǎo) 光體中傳播的光線變得均勻。
優(yōu)選地，上述導(dǎo)光體上的凹槽呈軸向?qū)ΨQ，于是光線在凹槽的兩側(cè)均勻發(fā)散。 優(yōu)選地，上述導(dǎo)光體上的凹槽截面為梯形、"V"型、半圓型，或弧形。 優(yōu)選地，上述光線干擾裝置由光線穿透率低于導(dǎo)光體的光線穿透率的材料或構(gòu)件 制成。于是發(fā)光體上方的部分光線被光線干擾裝置所阻擋，使得聚集在發(fā)光元件上方 的光線減弱。
優(yōu)選地，上述導(dǎo)光體中含有散光材料，于是光線在導(dǎo)光體中發(fā)生散射，更有利于光線的均勻分布。

圖1為第一及第二種具體實(shí)施方式
下的控制裝置的爆炸圖； 圖2為第二種具體實(shí)施方式
下的導(dǎo)光體的立體圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施方式一
在圖l所示的控制裝置1中，控制件2為一個(gè)按鍵。導(dǎo)光體3為環(huán)形，為半透明
狀態(tài)，且其制造材料中含有散光材料。導(dǎo)光體3環(huán)繞著控制件2，或者在其他實(shí)施方 式中部分地圍繞著控制件2。線路板4位于導(dǎo)光體3及控制件2的下方。線路板4上 裝有四個(gè)發(fā)光元件5 (其中一個(gè)在圖上被遮擋而不可見(jiàn))，均勻分布于導(dǎo)光體3的環(huán)形 壁下方。發(fā)光元件5有一個(gè)開(kāi)關(guān)6，位于控制件2的正下方。
當(dāng)沒(méi)有外力作用于控制件2時(shí)，其處于初始位置，導(dǎo)光體3也處于其半透明的本 色狀態(tài)；當(dāng)有外力推壓控制件2時(shí)，控制件2發(fā)生位移，并觸發(fā)位于其下方的發(fā)光元 件開(kāi)關(guān)6，使發(fā)光元件5發(fā)光。光線通過(guò)導(dǎo)光體3傳播，于是導(dǎo)光體3上有光線傳出 而發(fā)光。當(dāng)外力撤離時(shí)，控制件2由于開(kāi)關(guān)6自身的彈性回到初始位置。當(dāng)控制件2 再次觸發(fā)開(kāi)關(guān)6時(shí)，發(fā)光元件5熄滅，導(dǎo)光體3恢復(fù)其半透明的本色。
在本實(shí)用新型的各種描述中，"上方"及"下方"等位置概念并非是絕對(duì)的，而是 相對(duì)的位置關(guān)系，其適用于將控制裝置1獨(dú)立于其所安裝的電氣裝置的其他零件來(lái)看 待，并將其看成為如圖l所示的方式放置。因此，即使當(dāng)控制裝置1安裝于某一電氣 裝置的垂直或傾斜面板上，其導(dǎo)光體3與發(fā)光元件5此時(shí)的絕對(duì)位置并非"上下"關(guān) 系，該控制裝置1的構(gòu)造特征仍適用于本實(shí)用新型。顯然地，發(fā)光元件5的個(gè)數(shù)并不限于四個(gè)，還可以是其他任意的合適的數(shù)值?？?br> 制件2不限于按鍵的方式，也可以是旋鈕等，或者其它方式的觸發(fā)或選擇元件。除了 以上所述方式，開(kāi)關(guān)6的位置及觸發(fā)模式也可以有其它很多種替代方式，例如旋鈕邊 緣帶凸起，利用凸起隨旋鈕的移動(dòng)來(lái)觸發(fā)等。另外，在其他實(shí)施方式中，發(fā)光元件5 也可以與外部電源直接連接，當(dāng)電源接通時(shí)發(fā)光元件5便開(kāi)始發(fā)光，從而指示其所安 裝的電氣裝置是否處于通電狀態(tài)。
如圖1所示，導(dǎo)光體3上與每個(gè)發(fā)光元件5對(duì)應(yīng)的正上方的位置有凹槽7，由于 在導(dǎo)光體3上形成凹槽7，發(fā)光元件5離導(dǎo)光體3導(dǎo)光介質(zhì)的距離增加，發(fā)光元件5 向上直接射入導(dǎo)光體3的光線減少，于是在導(dǎo)光體3中傳播的發(fā)光元件5上方區(qū)域的 光線變?nèi)酰乖趯?dǎo)光體3中傳播的光線變得均勻。本實(shí)用新型并不限定凹槽7的形狀， 其截面可以是梯形，也可以是V型，半圓型，弧形，或其他合適的形狀。
實(shí)施方式二
在上述導(dǎo)光體3上凹槽7內(nèi)壁涂刷或者粘貼光線穿透率低于導(dǎo)光體的光線穿透率 的材料或構(gòu)件。該構(gòu)件可以是由光線穿透率低于導(dǎo)光體的光線穿透率的材料制成的薄 片或者含多個(gè)小孔的不透光材料薄片。附圖未顯示該部分揭示的內(nèi)容，但通過(guò)以上文 字描述此方案己經(jīng)十分明確。
本實(shí)施方式中其他部分的特征與實(shí)施方式一相同，因此不再細(xì)述。 實(shí)施方式三
如圖2所示，在導(dǎo)光體3上發(fā)光元件5正上方的位置直接涂刷或者粘貼光線穿透 率低于導(dǎo)光體的光線穿透率的材料或構(gòu)件8。該構(gòu)件可以是由光線穿透率低于導(dǎo)光體 的光線穿透率的材料制成的薄片或者含多個(gè)小孔的不透光材料薄片。
本實(shí)施方式中其他部分的特征與實(shí)施方式一相同，因此不再細(xì)述。在上述各實(shí)施方式中，均采用了在導(dǎo)光體上設(shè)置與發(fā)光元件對(duì)應(yīng)的用于減弱在導(dǎo) 光體中傳播的發(fā)光元件上方區(qū)域光線的光線干擾裝置。除了以上所列舉的實(shí)施方式， 其他屬于本實(shí)用新型基本技術(shù)思想范疇內(nèi)的任何形式的改變或替換均在本實(shí)用新型的 保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種控制裝置，包含一個(gè)控制件，一個(gè)導(dǎo)光體至少部分地環(huán)繞所述控制件，至少一個(gè)發(fā)光元件位于所述導(dǎo)光體下方，其特征在于導(dǎo)光體上與所述至少一個(gè)發(fā)光元件對(duì)應(yīng)的方位有一個(gè)減弱在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件上方區(qū)域光線的光線干擾裝置。
2. 如權(quán)利要求1所述的控制裝置，其特征在于當(dāng)所述至少一個(gè)發(fā)光元件的個(gè)數(shù)大 于一時(shí)，發(fā)光元件均勻分布。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的控制裝置，其特征在于所述至少一個(gè)發(fā)光元件有一個(gè) 電源開(kāi)關(guān)，所述電源開(kāi)關(guān)與所述控制件相關(guān)聯(lián)。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的控制裝置，其特征在于所述至少一個(gè)發(fā)光元件與外部 電源直接連接。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一權(quán)利要求所述的控制裝置，其特征在于所述光線干擾 裝置為位于發(fā)光元件上方的形成于導(dǎo)光體上的凹槽。
6. 如權(quán)利要求5所述的控制裝置，其特征在于所述導(dǎo)光體上的凹槽呈軸向?qū)ΨQ。
7. 如權(quán)利要求6所述的控制裝置，其特征在于:所述導(dǎo)光體上的凹槽截面為梯形、"V" 型、半圓型，或弧形。
8. 如權(quán)利要求1至4中任一權(quán)利要求所述的控制裝置，其特征在于所述光線干擾 裝置由光線穿透率低于導(dǎo)光體的光線穿透率的材料或構(gòu)件制成。
9. 如上述任--權(quán)利要求所述的控制裝置，其特征在于所述導(dǎo)光體中含有散光材料。
專利摘要一種控制裝置，包含一個(gè)控制件，一個(gè)導(dǎo)光體至少部分地環(huán)繞所述控制件，至少一個(gè)發(fā)光元件位于所述導(dǎo)光體下方，導(dǎo)光體上與所述至少一個(gè)發(fā)光元件對(duì)應(yīng)的方位有一個(gè)減弱在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件上方區(qū)域光線的光線干擾裝置。由于光線干擾裝置減弱了在導(dǎo)光體中傳播的發(fā)光元件上方區(qū)域的光線，也即減弱了原本光線最強(qiáng)的區(qū)域，于是即使采用較少的發(fā)光元件也可使導(dǎo)光體中傳播的光線較為均勻。
文檔編號(hào)F21V8/00GK201246687SQ20082003901
公開(kāi)日2009年5月27日 申請(qǐng)日期2008年8月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月14日
發(fā)明者徐迎雪, 潘邦延, 袁建雄, 顧立松 申請(qǐng)人:博西華電器(江蘇)有限公司