專利名稱：高能x光轉換疊靶裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及高能物理技術。
背景技術：
強流、高能的脈沖電子束與一種具有高原子序數(shù)的材料作用后能夠產(chǎn)生具有高分 辨和強劑量的X光，該材料一般被稱為X光轉換耙。X光在民用及國防領域都有著廣泛的應 用，涉及醫(yī)學X光照相、工業(yè)探傷、海關檢測、高能閃光照相等。 一般的X光轉換靶采用的是 有單一、固定厚度的材料，這種靶材料對于低能的脈沖電子束可以達到預定的要求，但對于 能量在MeV、功率在GW以上的電子束來說，由于電子束對靶材料的破壞，會極大地影響到所 產(chǎn)生的X光的分辨率和照射量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是，為了實現(xiàn)強流電子束與靶材料作用產(chǎn)生高分辨 的、高強度的X光射線，提供了一種靶結構設計，能夠實現(xiàn)產(chǎn)生的X光具有高分辨率和強的 X光照射量。 本發(fā)明解決所述技術問題采用的技術方案是，高能X光轉換疊靶裝置，其特征在 于，包括多層平行排列的鉭箔和固定裝置，各鉭箔固定安裝在固定裝置上，各層鉭箔之間為真空。 各層鉭箔之間的間距相等，各層鉭箔之間的厚度也可相等。 具體的說，各層鉭箔之間的間距為0. 5mm，各層鉭箔的厚度為0. 05mm。所述固定裝 置為不銹鋼邊框，各層鉭箔設置在不銹鋼邊框內(nèi)。本發(fā)明的固定裝置同時具有密封作用。
本發(fā)明的有益效果是，對于強流(kA)、高功率、MeV能量的脈沖電子束與X光轉換 靶作用后，能夠實現(xiàn)產(chǎn)生的脈沖X光在具有強照射量(大于300倫琴)的同時具有mm量級 的高分辨率。 以下結合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步的說明。


圖1是本發(fā)明的結構示意圖。
具體實施例方式
參見圖1。圖1的局部為剖視狀態(tài)，以表示內(nèi)部結構。本發(fā)明在使用狀態(tài)下，為保
持內(nèi)部為真空，是處于密封狀態(tài)的。 本發(fā)明由數(shù)十層鉭箔1相互疊加構成，箔間間隔相同的距離，鉭箔周圍利用金屬
(一般采用不銹鋼)材料來對整個疊靶裝置進行固定。本發(fā)明的疊靶結構整體具有足夠厚
度，使整個靶立體空間大大增加，可以減少電子束作用時靶材裝置的破壞程度，并能提高X
光的強度與照相分辨率。
作為一個實施例，由24層鉭箔疊加組成疊靶裝置，鉭箔單層厚度為0. 05mm，箔間 距為0. 5mm。鉭箔采用純度大于99. 99%的鉭材料，表面平整，箔間放置厚度為0. 5mm的金 屬(鋁)環(huán)來保持相同的層間距離，并使疊靶裝置結構緊湊。 經(jīng)過測試證明，采用鉭箔厚度為O. 05mm、層間距0. 5mm的實施例可以保證對X光性 能要求下，取得最佳的效果。
權利要求
高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，包括多層平行排列的鉭箔(1)和固定裝置(2)，各鉭箔固定安裝在固定裝置上，各層鉭箔之間為真空。
2. 如權利要求1所述的高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，各層鉭箔之間的間距相等。
3. 如權利要求1所述的高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，各層鉭箔之間的厚度相等。
4. 如權利要求1所述的高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，各層鉭箔之間的間距為0. 5mm，如權利要求1所述的高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，各層鉭箔的厚度為`0. 05mm。
5. 如權利要求1所述的高能X光轉換疊靶裝置，其特征在于，所述固定裝置(2)為不銹鋼邊框，各層鉭箔設置在不銹鋼邊框內(nèi)。
全文摘要
高能X光轉換疊靶裝置，涉及高能物理技術。本發(fā)明包括多層平行排列的鉭箔和固定裝置，各鉭箔固定安裝在固定裝置上，各層鉭箔之間為真空。本發(fā)明的有益效果是，對于強流(kA)、高功率、MeV能量的脈沖電子束與X光轉換靶作用后，能夠實現(xiàn)產(chǎn)生的脈沖X光在具有強照射量(大于300倫琴)的同時具有mm量級的高分辨率。
文檔編號H01J35/08GK101752169SQ200910265029
公開日2010年6月23日 申請日期2009年12月29日 優(yōu)先權日2009年12月29日
發(fā)明者朱雋, 石金水, 禹海軍 申請人:中國工程物理研究院流體物理研究所