專利名稱：用于電漿表面處理的高密度電極裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電極裝置，特別是涉及一種用于電漿表面處理的高密度電極
裝置O
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制程中容易因運(yùn)送過(guò)程或工作環(huán)境等因素影響，而在基板上附著污染 物，恐會(huì)對(duì)后續(xù)鍍膜或封裝產(chǎn)生不良影響，中國(guó)臺(tái)灣專利第1298235號(hào)專利所公開(kāi)的一種 「RF射頻電漿表面處理之電極板」，通過(guò)電漿表面處理將污染物吸附清潔以提高產(chǎn)品良率， 其中，腔體接地作為陽(yáng)極，電極板連接RF射頻作為陰極，而待清潔物放置于電極板前方，當(dāng) 電極板與腔體間電壓足夠時(shí)可以裂解腔體內(nèi)的氣體而產(chǎn)生電漿。但，上述專利的配置方式， 電極板除了朝向前方產(chǎn)生電漿以外，朝向背后、朝向側(cè)邊同樣會(huì)產(chǎn)生電漿，無(wú)法集中方向產(chǎn) 生電漿，而使得處理效果與產(chǎn)能降低。參閱圖1，中國(guó)臺(tái)灣專利第M356342號(hào)專利所公開(kāi)的「一種偏壓式電漿源以及包含 其之電漿處理機(jī)構(gòu)」，包含一個(gè)電極盤(pán)10、一個(gè)支撐體11，及一個(gè)位于該電極盤(pán)10與支撐體 11間的絕緣環(huán)12，雖上述專利已可達(dá)到該電極盤(pán)10不朝背后產(chǎn)生電漿的功效，但會(huì)朝向側(cè) 邊產(chǎn)生電漿，使得處理效果與產(chǎn)能降低。此外，由于不朝背后產(chǎn)生電漿所以電漿密度較高， 該電極盤(pán)10容易有過(guò)熱的現(xiàn)象發(fā)生，進(jìn)而影響電漿輸出的穩(wěn)定度。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以集中朝向前方產(chǎn)生電漿的用于電漿表面處 理的高密度電極裝置。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，包含一個(gè)陽(yáng)極單元、一個(gè)陰 極單元、一片絕緣板及一個(gè)冷卻回路。該陽(yáng)極單元包括一片背板，及一個(gè)連接于該背板前側(cè) 面的側(cè)框板，該陰極單元包括一片設(shè)置于該背板前側(cè)面且容置于該側(cè)框板中的陰極板，該 絕緣板夾設(shè)于該背板與該陰極單元間，該冷卻回路設(shè)置于該陰極單元中。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該陰極板與該側(cè)框板間具 有一無(wú)電漿的間隙。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該背板呈中空矩形框狀。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該絕緣板呈中空矩形框 狀。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該背板呈矩形片體狀。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該絕緣板呈矩形片體狀。 本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該高密度電極裝置還包含 一個(gè)伸縮單元，該伸縮單元包括一個(gè)固定座、一個(gè)穿過(guò)該固定座安裝于該陽(yáng)極單元背板背 面的連接座、一個(gè)形成于該連接座的鍵槽、一個(gè)安裝于該固定座內(nèi)的滑鍵，及一個(gè)設(shè)置于該 固定座上并與該連接座螺合的螺帽，該連接座通過(guò)該鍵槽與滑鍵相配合而進(jìn)行伸縮。[0012]本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該陰極單元還包括一片設(shè) 置于該陰極板前側(cè)面的保護(hù)板。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該冷卻回路開(kāi)設(shè)于該陰極 板背面，該陰極單元還包括一片設(shè)置于該陰極板背面并封閉該冷卻回路的蓋板。本實(shí)用新型的用于電漿表面處理的高密度電極裝置中，該冷卻回路鑿設(shè)于該陰極 板中，該冷卻回路還包括開(kāi)設(shè)于該陰極板背面的一個(gè)入口及一個(gè)出口。本實(shí)用新型的有益效果在于通過(guò)該陽(yáng)極單元背板、側(cè)框板，以達(dá)到讓該陰極板朝 向背后、朝向側(cè)邊的方向皆受到阻隔，讓該陰極板集中朝向前方產(chǎn)生電漿，并能避免過(guò)熱， 提高處理效果與產(chǎn)能。

圖1是以往中國(guó)臺(tái)灣專利第M356342號(hào)專利所公開(kāi)的一種電極裝置的立體圖圖2是本實(shí)用新型用于電漿表面處理的高密度電極裝置的第一較佳實(shí)施例的立 體圖；圖3是本第一較佳實(shí)施例的一個(gè)陽(yáng)極單元、一個(gè)陰極單元及一片絕緣板的立體分 解圖；圖4是本第一較佳實(shí)施例各元件間的組合關(guān)系的剖視圖；圖5是本實(shí)用新型用于電漿表面處理的高密度電極裝置的第二較佳實(shí)施例的立 體圖；圖6是本第二較佳實(shí)施例的該陽(yáng)極單元、陰極單元及絕緣板的立體分解圖；圖7是本第二較佳實(shí)施例各元件間的組合關(guān)系的剖視圖。
具體實(shí)施方式
有關(guān)本實(shí)用新型前述及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，在以下配合參考圖式的兩個(gè) 較佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中，將可清楚地呈現(xiàn)。在本實(shí)用新型被詳細(xì)描述前，要注意的是，在以下的說(shuō)明內(nèi)容中，類似的元件以相 同的編號(hào)來(lái)表示。參閱圖2、圖3與圖4，本實(shí)用新型用于電漿表面處理的高密度電極裝置的第一較 佳實(shí)施例包含一個(gè)陽(yáng)極單元2、一個(gè)陰極單元3、一片絕緣板4，及一個(gè)冷卻回路5。該陽(yáng)極單元2接地作為陽(yáng)極，包括一個(gè)呈中空矩形框狀的背板21，及一個(gè)連接于 該背板21前側(cè)面的側(cè)框板22，在本第一較佳實(shí)施例中，該背板21同時(shí)作為一個(gè)處理腔體 (圖未示)的可掀啟式封蓋。該陰極單元3設(shè)置于該背板21前側(cè)面，包括彼此相疊合的一片容置于該側(cè)框板22 中的陰極板31、一片設(shè)置于該陰極板31背面并封閉該冷卻回路5的蓋板32，及一片設(shè)置于 該陰極板31前側(cè)面的保護(hù)板33。該陰極板31的厚度小于該側(cè)框板22的厚度，容置在側(cè)框板22中時(shí)不凸出，再加 上該陰極板31與該側(cè)框板22間的間隙7寬度小到足使該側(cè)框板22落在陰極暗區(qū)內(nèi)，確實(shí) 達(dá)到該陰極板31不朝側(cè)邊產(chǎn)生電漿的功效，換而言之，該間隙7無(wú)電漿。該陰極單元3產(chǎn)生電漿的表面易損耗，而通過(guò)該保護(hù)板33延長(zhǎng)該陰極板31的壽命，而僅需替換厚度較薄、成本較低的保護(hù)板33就可達(dá)到維護(hù)該陰極單元3的功效。該絕緣板4夾設(shè)于該陽(yáng)極單元2的背板21與該陰極單元3的陰極板31間，且該 絕緣板4呈中空矩形框狀，該絕緣板4用于避免該陽(yáng)極單元2與陰極單元3形成電通路。該絕緣板4除了提供絕緣功效外，也阻隔氣體流入該陰極單元3背面，促使該陰極 單元3達(dá)到不朝背后產(chǎn)生電漿的功效。該冷卻回路5設(shè)置于該陰極單元3中，并開(kāi)設(shè)于該陰極單元3的陰極板31背面， 呈開(kāi)放渠道狀，該蓋板32用于由后朝前封閉該冷卻回路5，該冷卻回路5包括開(kāi)設(shè)于該蓋板 32的一個(gè)入口 51及一個(gè)出口 52，在操作時(shí)，該冷卻回路5中可以導(dǎo)入冷水或其它冷媒。本第一較佳實(shí)施例通過(guò)該絕緣板4提供該陰極單元3不朝背后產(chǎn)生電漿的功效， 通過(guò)該陽(yáng)極單元2的側(cè)框板22提供該陰極單元3不朝側(cè)邊產(chǎn)生電漿的功效，讓該陰極單元 3集中朝向前方產(chǎn)生電漿，提高處理效果與產(chǎn)能。而因?yàn)殡姖{集中朝向前方產(chǎn)生，電漿密度較高，該陰極單元3的溫度也跟著升高， 通過(guò)該冷卻回路5設(shè)置于該陰極單元3中，而能避免該陰極單元3因產(chǎn)生密度較高的電漿 而過(guò)熱。參閱圖5、圖6與圖7，本實(shí)用新型用于電漿表面處理的高密度電極裝置的第二較 佳實(shí)施例與該第一較佳實(shí)施例構(gòu)件與組裝方式大致相同，不同處在于該第二較佳實(shí)施例還 包含一個(gè)伸縮單元8。在本第二較佳實(shí)施例中，該陽(yáng)極單元2的背板21呈矩形片體狀，位于一個(gè)處理腔 體(圖中僅以一片腔壁6示意)內(nèi)，該陰極單元3僅包括該陰極板31，而該絕緣板4呈矩形 片體狀，此外，該冷卻回路5鑿設(shè)于該陰極板31中，且該入口 51與出口 52開(kāi)設(shè)于該陰極板 31背面。該伸縮單元8用于調(diào)整該陰極單元3與待清潔物(圖未示)間的距離，以達(dá)到最 佳的電漿表面處理效果，該伸縮單元8包括一個(gè)固定于該腔壁6的固定座81、一個(gè)穿過(guò)該固 定座81安裝于該陽(yáng)極單元2背板21背面的連接座82、一個(gè)形成于該連接座82的鍵槽83、 一個(gè)安裝于該固定座81內(nèi)的滑鍵84，及一個(gè)設(shè)置于該固定座81上并與該連接座82螺合的 螺帽85。該連接座82用于供一根導(dǎo)入管91、一根導(dǎo)出管92及一個(gè)連接于該陰極板31的導(dǎo) 體93通過(guò)。該鍵槽83與滑鍵84相配合提供該連接座82直線的位移路徑，通過(guò)旋轉(zhuǎn)該螺 帽85帶動(dòng)該連接座82進(jìn)行伸縮。綜上所述，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于一、該陰極板31的厚度小于該側(cè)框板22厚度，且該陰極板31與側(cè)框板22間的間 隙7小到足使該側(cè)框板22落在陰極暗區(qū)內(nèi)，使該間隙7無(wú)電漿，確實(shí)達(dá)到使該陰極板31不 朝側(cè)邊產(chǎn)生電漿的功效。二、該絕緣板4阻隔氣體流入該陰極單元3背面，達(dá)到使該陰極單元3不朝背后產(chǎn) 生電漿的功效。三、通過(guò)該冷卻回路5設(shè)置于該陰極單元3中，能避免該陰極單元3因產(chǎn)生密度較 高的電漿而過(guò)熱。四、該伸縮單元8用于調(diào)整該陰極單元3與待清潔物間的距離，以達(dá)到最佳的電漿 表面處理效果。
權(quán)利要求1. 一種用于電漿表面處理的高密度電極裝置，包含一個(gè)陽(yáng)極單元，以及一個(gè)陰極單 元，其特征在于該高密度電極裝置還包含一片絕緣板及一個(gè)冷卻回路，該陽(yáng)極單元包括一 片背板，及一個(gè)連接于該背板前側(cè)面的側(cè)框板，該陰極單元包括一片設(shè)置于該背板前側(cè)面 且容置于該側(cè)框板中的陰極板，該絕緣板夾設(shè)于該背板與該陰極單元間，該冷卻回路設(shè)置 于該陰極單元中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該陰極 板與該側(cè)框板間具有一無(wú)電漿的間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該背板 呈中空矩形框狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該絕緣 板呈中空矩形框狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該背板 呈矩形片體狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該絕緣 板呈矩形片體狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該高密 度電極裝置還包含一個(gè)伸縮單元，該伸縮單元包括一個(gè)固定座、一個(gè)穿過(guò)該固定座安裝于 該陽(yáng)極單元背板背面的連接座、一個(gè)形成于該連接座的鍵槽、一個(gè)安裝于該固定座內(nèi)的滑 鍵，及一個(gè)設(shè)置于該固定座上并與該連接座螺合的螺帽，該連接座通過(guò)該鍵槽與滑鍵相配 合而進(jìn)行伸縮。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該陰極 單元還包括一片設(shè)置于該陰極板前側(cè)面的保護(hù)板。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該冷卻 回路開(kāi)設(shè)于該陰極板背面，該陰極單元還包括一片設(shè)置于該陰極板背面并封閉該冷卻回路 的蓋板。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電漿表面處理的高密度電極裝置，其特征在于該冷卻 回路鑿設(shè)于該陰極板中，該冷卻回路還包括開(kāi)設(shè)于該陰極板背面的一個(gè)入口及一個(gè)出口。
專利摘要一種用于電漿表面處理的高密度電極裝置包含一個(gè)陽(yáng)極單元、一個(gè)陰極單元、一片絕緣板及一個(gè)冷卻回路。該陽(yáng)極單元包括一片背板，及一個(gè)連接于該背板前側(cè)面的側(cè)框板，該陰極單元包括一片設(shè)置于該背板前側(cè)面且容置于該側(cè)框板中的陰極板，該絕緣板夾設(shè)于該背板與該陰極單元間，該冷卻回路設(shè)置于該陰極單元中，通過(guò)該陽(yáng)極單元的背板、側(cè)框板，使該陰極板朝向背后、朝向側(cè)邊的方向皆受到阻隔，讓該陰極板集中朝向前方產(chǎn)生電漿，提高處理效果與產(chǎn)能。
文檔編號(hào)H01J37/04GK201788937SQ20102027816
公開(kāi)日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2010年8月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月2日
發(fā)明者謝禮謙, 黃一原 申請(qǐng)人:凌嘉科技股份有限公司