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一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法

文檔序號(hào):2907930閱讀:325來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件制造真空控制系統(tǒng),尤其涉及離子注入機(jī)的一種自動(dòng)建立源高真空的方法。
背景技術(shù)
離子注入機(jī)是一種必須在真空系統(tǒng)下才能正常運(yùn)行的設(shè)備,真空系統(tǒng)是離子注入機(jī)整個(gè)大系統(tǒng)中的一個(gè)重要組成部分之一,它是離子注入機(jī)傳片系統(tǒng)、引束系統(tǒng)和注入系統(tǒng)的前提和保障,而自動(dòng)建立高真空系統(tǒng)是離子注入機(jī)自動(dòng)化控制成熟的重要標(biāo)志,是發(fā)展的必然,自動(dòng)建立源高真空又是離子注入機(jī)自動(dòng)建立高真空系統(tǒng)的一個(gè)重要組成部分,因此離子注入機(jī)必須擁有自己的一套完善的自動(dòng)建立高真空系統(tǒng)的方法,才能滿足社會(huì)不斷發(fā)展的需求。
鑒于自動(dòng)建立高真空系統(tǒng)的重要性,如何開(kāi)發(fā)出一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法是離子注入機(jī)自動(dòng)化控制急需解決的問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是針對(duì)離子注入機(jī)現(xiàn)有技術(shù)中自動(dòng)建立源高真空系統(tǒng)的不足,影響設(shè)備自動(dòng)化控制,而開(kāi)發(fā)出的一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法。如圖1示意圖。
本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
1.一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,包括:檢測(cè)源腔體是否高真空狀態(tài)(I)、源高真空未建立(2)、檢測(cè)通信和水電氣是否正常(3)、關(guān)閉源氮?dú)忾yV50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46(4)、開(kāi)啟源干泵RP3 (5)、源干泵RP3已啟動(dòng)完成,開(kāi)啟源粗抽閥V46 (6)、源低規(guī)G15真空值低于I時(shí)開(kāi)啟源分子泵TPl (7)、源分子泵TPl加速完成(8)、源高規(guī)IGl除氣(9)、除氣完成并開(kāi)啟顯示源的真空值(10)、源高真空建立成功(11)、狀態(tài)錯(cuò)誤(12)、提示錯(cuò)誤進(jìn)入手動(dòng)模式(13)、源高真空建立失敗(14)。
2.一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,制定了一個(gè)系統(tǒng)全面的流程,每個(gè)過(guò)程階段都有相應(yīng)的條件判斷,把設(shè)備可能出現(xiàn)的狀態(tài),全部都考慮了進(jìn)去,避免了因考慮不周全,存有漏洞,而造成對(duì)設(shè)備的損壞,根據(jù)設(shè)備當(dāng)前不同的狀態(tài),進(jìn)入不同的流程判斷,滿足相應(yīng)條件后才能進(jìn)入下一個(gè)階段,能夠安全快速地自動(dòng)建立源高真空。
3.一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,如圖1中所示:自動(dòng)過(guò)程中如果出現(xiàn)狀態(tài)錯(cuò)誤(12)的問(wèn)題,會(huì)提示錯(cuò)誤進(jìn)入手動(dòng)模式(13),自動(dòng)建立源高真空終止,只有再次啟動(dòng)自動(dòng)建立源高真空,才能進(jìn)入自動(dòng)流程模式,這樣設(shè)計(jì)的目的:一是保護(hù)設(shè)備;二是這種情況大部分非軟件問(wèn)題,一般是硬件、結(jié)構(gòu)等其他問(wèn)題,讓用戶手動(dòng)處理,可以節(jié)約時(shí)間,提聞效率。
本發(fā)明具有如下顯著優(yōu)點(diǎn):
1.考慮的比較全面,從輔助的水電氣系統(tǒng),到干泵、分子泵、閥門(mén)、低規(guī)和高規(guī)等都考慮進(jìn)去,并完善了各個(gè)控制點(diǎn)。
2.各個(gè)控制點(diǎn)之間都互相聯(lián)鎖,大幅度降低了因硬件、結(jié)構(gòu)等其他原因,因信號(hào)異常,對(duì)設(shè)備造成的損壞。
3.采用狀態(tài)機(jī)的編程模式,通過(guò)完善的流程和系統(tǒng)控制方法,在保證設(shè)備安全的iu提下,提聞了程序的執(zhí)行速度,節(jié)約了時(shí)間,提聞了效率。


圖1為離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖1對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的介紹,但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
如圖1中所示,啟動(dòng)自動(dòng)建立源高真空開(kāi)始命令,首先程序會(huì)判斷源的狀態(tài),檢測(cè)源腔體是否高真空狀態(tài)(I),如果是高真空狀態(tài),那么說(shuō)明源已經(jīng)處于高真空狀態(tài)了,即源高真空建立完成(11),這樣自動(dòng)建立源高真空命令執(zhí)行完成就結(jié)束了 ;如果是非高真空狀態(tài),說(shuō)明源高真空未建立(2),這時(shí)開(kāi)始進(jìn)入較復(fù)雜的流程之中。
先檢測(cè)通信和水電氣是否正常(3),由于這些一般是需要手動(dòng)操作的,因此如果出現(xiàn)狀態(tài)錯(cuò)誤(12),程序會(huì)提示錯(cuò)誤并進(jìn)入手動(dòng)模式(13),需要用戶手動(dòng)進(jìn)行處理;如果正常,接著查看源氮?dú)忾yV50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46的狀態(tài),如果沒(méi)有關(guān)閉,就會(huì)自動(dòng)關(guān)閉源氮?dú)忾yV50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46 (4)這些閥門(mén),之后判斷源干泵RP3的狀態(tài),如果沒(méi)有開(kāi)啟,就自動(dòng)開(kāi)啟源干泵RP3 (5),等待源干泵RP3已啟動(dòng)完成,開(kāi)啟源粗抽閥V46 (6),當(dāng)源低規(guī)G15真空值低于I時(shí)開(kāi)啟源分子泵TPl (7),如果源分子泵TPl已經(jīng)開(kāi)啟,等待源分子泵TPl加速完成(8),等分子泵抽一段時(shí)間(10分鐘)后,開(kāi)啟源高規(guī)IG1,這時(shí)源高規(guī)IGl除氣(9),除氣時(shí)間為30分鐘,這樣的目的是為了保護(hù)源高規(guī)IG1,延長(zhǎng)其使用壽命,除氣完成并開(kāi)啟顯示源的真空值(10),這時(shí)源已處于高真空狀態(tài),源高真空建立成功(11),其中流程中每個(gè)部分都可能會(huì)出現(xiàn)狀態(tài)錯(cuò)誤(12),程序會(huì)提示錯(cuò)誤并進(jìn)入手動(dòng)模式(13),讓用戶進(jìn)行手動(dòng)處理,源高真空建立失敗,不管成功與否,自動(dòng)建立源高真空命令都執(zhí)行結(jié)束了。
本發(fā)明專(zhuān)利的特定實(shí)施例已對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利的內(nèi)容做了詳盡說(shuō)明。對(duì)本領(lǐng)域一般技術(shù)人員而言,在不背離本發(fā)明專(zhuān)利精神的前提下對(duì)它所做的任何顯而易見(jiàn)的改動(dòng),都構(gòu)成對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利的侵犯,將承擔(dān)相應(yīng)的法律責(zé)任。
權(quán)利要求
1.一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,包括:檢測(cè)源腔體是否高真空狀態(tài)(I)、源高真空未建立(2)、檢測(cè)通信和水電氣是否正常(3)、關(guān)閉源氮?dú)忾yV50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46(4)、開(kāi)啟源干泵RP3 (5)、源干泵RP3已啟動(dòng)完成,開(kāi)啟源粗抽閥V46 (6)、源低規(guī)G15真空值低于I時(shí)開(kāi)啟源分子泵TPl (7)、源分子泵TPl加速完成(8)、源高規(guī)IGl除氣(9)、除氣完成并開(kāi)啟顯示源的真空值(10)、源高真空建立成功(11)、狀態(tài)錯(cuò)誤(12)、提示錯(cuò)誤進(jìn)入手動(dòng)模式(13)、源高真空建立失敗(14)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,其特征在于:制定了一個(gè)系統(tǒng)全面的流程,根據(jù)設(shè)備當(dāng)前不同的狀態(tài),進(jìn)入不同的流程判斷,滿足相應(yīng)條件后才能進(jìn)入下一個(gè)階段,能夠安全快速地自動(dòng)建立源高真空。
3.如權(quán)利要求1所述的一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,其特征在于:每個(gè)過(guò)程階段都有相應(yīng)的條件判斷,把設(shè)備可能出現(xiàn)的狀態(tài),全部都考慮了進(jìn)去,避免了因考慮不周全,存有漏洞,而造成對(duì)設(shè)備的損壞。
4.如權(quán)利要求1所述的一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,其特征在于:自動(dòng)過(guò)程中如果出現(xiàn)狀態(tài)錯(cuò)誤(12)的問(wèn)題,會(huì)提示錯(cuò)誤進(jìn)入手動(dòng)模式(13),自動(dòng)建立源高真空終止,只有再次啟動(dòng)自動(dòng)建立源高真空,才能進(jìn)入自動(dòng)流程模式,這樣設(shè)計(jì)的目的:一是保護(hù)設(shè)備;二是這種情況大部分非軟件問(wèn)題,一般是硬件、結(jié)構(gòu)等其他問(wèn)題,讓用戶手動(dòng)處理,可以節(jié)約時(shí)間,提高效率。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種離子注入機(jī)自動(dòng)建立源高真空的方法,包括檢測(cè)源腔體是否高真空狀態(tài)(1)、源高真空未建立(2)、檢測(cè)通信和水電氣是否正常(3)、關(guān)閉源氮?dú)忾yV50、源與束線的隔離閥V51、束線與靶室粗抽閥V53和源粗抽閥V46(4)、開(kāi)啟源干泵RP3(5)、源干泵RP3已啟動(dòng)完成,開(kāi)啟源粗抽閥V46(6)、源低規(guī)G15真空值低于1時(shí)開(kāi)啟源分子泵TP1(7)、源分子泵TP1加速完成(8)、源高規(guī)IG1除氣(9)、除氣完成并開(kāi)啟顯示源的真空值(10)、源高真空建立成功(11)、狀態(tài)錯(cuò)誤(12)、提示錯(cuò)誤進(jìn)入手動(dòng)模式(13)、源高真空建立失敗(14)。
文檔編號(hào)H01J37/302GK103137411SQ20111039045
公開(kāi)日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2011年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月25日
發(fā)明者楊亞兵 申請(qǐng)人:北京中科信電子裝備有限公司
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