專利名稱：光源裝置及具有該光源裝置的曝光機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種光源裝置及具有該光源裝置的曝光機。
背景技術(shù)：
中國臺灣第iC64800號專利(申請案號為093212758)所公開的印刷電路板曝光機的結(jié)構(gòu)改良中，機臺的內(nèi)部設(shè)有滑軌，燈管座的兩側(cè)分別設(shè)有滑動于滑軌內(nèi)的導(dǎo)輪，燈管座連結(jié)有螺接于螺桿座的螺孔內(nèi)的螺桿，螺桿座的一端設(shè)有鏈齒輪，通過馬達驅(qū)動鏈輪組、 傳動桿、鏈輪及鏈條作動以帶動鏈齒輪及螺桿座旋轉(zhuǎn)，使得螺桿能相對于螺桿座伸縮進而帶動燈管座沿著滑軌升降，由此，燈管座能對不同高度的PC板曝光臺調(diào)整投射距離。然而， 該專利的傳動機構(gòu)設(shè)計上較為復(fù)雜，使得制造成本也相對提高。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種光源裝置及具有該光源裝置的曝光機，本實用新型的生產(chǎn)制造成本低，且可以提升曝光的品質(zhì)。一種光源裝置，其包含光源模組及高度調(diào)整機構(gòu)，高度調(diào)整機構(gòu)包括固定架；活動架，供光源模組安裝并能帶動光源模組相對于固定架上下移動；及氣缸，包含設(shè)置于固定架上的缸體，及穿設(shè)于缸體內(nèi)并與活動架相連接的氣缸伸縮桿，氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動。其進一步結(jié)構(gòu)是。固定架包含兩個分別設(shè)置于左右側(cè)且相間隔的導(dǎo)桿，各導(dǎo)桿呈縱向延伸，活動架包含兩個分別能滑動地套設(shè)于兩個導(dǎo)桿上的襯套。活動架還包含供氣缸伸縮桿連接的浮動接頭，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個導(dǎo)桿上且鄰近底端處的安裝板，及兩個分別接合于兩個安裝板上的擋止件，各擋止件用以供活動架抵接。固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個擋止件頂端的彈性接觸墊，各彈性接觸墊用以供活動架抵接。固定架還包含兩個分別接合于兩個安裝板上的下緩沖器，各下緩沖器包括接合于各安裝板上的下缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于下缸體內(nèi)且用以抵接活動架的下接觸桿，各下接觸桿頂端的高度高于各彈性接觸墊頂端的高度。固定架還包含兩個分別鄰近于兩個導(dǎo)桿頂端的上緩沖器，各上緩沖器包括上缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于上缸體內(nèi)且用以抵接活動架的上接觸桿。一種具有光源裝置的曝光機，其包括機臺、對位裝置及光源裝置；對位裝置，設(shè)置于機臺內(nèi)并包含上對位臺框及下對位臺框，上對位臺框與下對位臺框能左右交替地水平移動；[0016]光源裝置，設(shè)置于機臺內(nèi)并包含光源模組，設(shè)置于機臺內(nèi)且間隔位于對位裝置上方，光源模組用以對對應(yīng)至其下方的上對位臺框或下對位臺框照射光線；及高度調(diào)整機構(gòu)，包括固定架、活動架，及氣缸，固定架固定地設(shè)置于機臺內(nèi)，活動架供光源模組安裝并能帶動光源模組相對于固定架上下移動，氣缸包含設(shè)置于固定架上的缸體，及穿設(shè)于缸體內(nèi)并與活動架相連接的氣缸伸縮桿，氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動。其進一步結(jié)構(gòu)是。固定架包含兩個分別設(shè)置于左右側(cè)且相間隔的導(dǎo)桿，各導(dǎo)桿呈縱向延伸，活動架包含兩個分別能滑動地套設(shè)于兩個導(dǎo)桿上的襯套?；顒蛹苓€包含供氣缸伸縮桿連接的浮動接頭，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個導(dǎo)桿上且鄰近底端處的安裝板，及兩個分別接合于兩個安裝板上的擋止件，各擋止件用以供活動架抵接。固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個擋止件頂端的彈性接觸墊，各彈性接觸墊用以供活動架抵接。固定架還包含兩個分別接合于兩個安裝板上的下緩沖器，各下緩沖器包括接合于各安裝板上的下缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于下缸體內(nèi)且用以抵接活動架的下接觸桿，各下接觸桿頂端的高度高于各彈性接觸墊頂端的高度。固定架還包含兩個分別鄰近于兩個導(dǎo)桿頂端的上緩沖器，各上緩沖器包括上缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于上缸體內(nèi)且用以抵接活動架的上接觸桿。下面對本實用新型的優(yōu)點進行說明。通過高度調(diào)整機構(gòu)設(shè)計，能帶動光源模組上下移動地調(diào)整高度，使得光源模組與上對位臺框之間的距離以及光源模組與下對位臺框之間的距離能調(diào)整成相同，由此，光源裝置對上對位臺框與下對位臺框曝光的強度與均勻度能保持一致，以提升曝光的品質(zhì)。再者，通過高度調(diào)整機構(gòu)的結(jié)構(gòu)設(shè)計簡單，因此，能有效降低制造成本。

圖1是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的前視圖；圖2是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的光源裝置的立體圖；圖3是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的光源裝置的立體分解圖；圖4是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的光源裝置的側(cè)視圖；圖5是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的前視圖；圖6是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的光源裝置的立體圖；圖7是本新型實施例所述具有光源裝置的曝光機的光源裝置的側(cè)視圖；附圖標(biāo)記說明100、曝光機，10、機臺，20、對位裝置，21、上對位臺框，22、下對位臺框，30、光源裝置，3、光源模組，31、滾輪，4、高度調(diào)整機構(gòu)，41、固定架，411、架本體，412、導(dǎo)桿，413、安裝板，414、擋止件，415、螺孔，416、彈性接觸墊，417、下緩沖器，418、下缸體，419、下接觸桿， 420、上緩沖器，42、活動架，421、架體，422、側(cè)接合板，423、襯套，似4、滑軌，425、上缸體，426、上接觸桿，427、浮動接頭，43、氣缸，431、缸體，432、氣缸伸縮桿，D1、D2、距離，I、箭頭。
具體實施方式
下面對本實用新型的實施例進行詳細說明。如圖1所示，是本新型具有光源裝置的曝光機的一較佳實施例，該曝光機100包含機臺10、對位裝置20及光源裝置30。對位裝置20設(shè)置于機臺10內(nèi)的中間位置處，光源裝置30設(shè)置于機臺10內(nèi)且間隔位于對位裝置20上方。對位裝置20包含上對位臺框21，及與上對位臺框21上下且左右相間隔的下對位臺框22，上對位臺框21與下對位臺框22皆設(shè)置于傳動機構(gòu)(圖未示)上， 通過傳動機構(gòu)的帶動，使得上對位臺框21與下對位臺框22能左右交替地水平移動，由此， 上對位臺框21與下對位臺框22能分別移動至對應(yīng)于光源裝置30下方的位置，使得光源裝置30能對上對位臺框21內(nèi)的基板(圖未示)或下對位臺框22內(nèi)的基板(圖未示)進行曝光的作業(yè)。如圖2、圖3及圖4所示，光源裝置30包含光源模組3及高度調(diào)整機構(gòu)4。光源模組3設(shè)置于高度調(diào)整機構(gòu)4上且間隔位于對位裝置20 (如圖1)上方，光源模組3用以對對應(yīng)至其下方的上對位臺框21 (如圖1)或下對位臺框22 (如圖1)照射光線。高度調(diào)整機構(gòu) 4包括固定架41、接合于固定架41上并能相對于固定架41上下活動的活動架42及設(shè)置于固定架41與活動架42之間的氣缸43。氣缸43包含設(shè)置于固定架41上的缸體431及穿設(shè)于缸體431內(nèi)且底端與活動架42相連接的氣缸伸縮桿432，氣缸伸縮桿432呈縱向延伸并能相對于缸體431上下運動，氣缸43的氣缸伸縮桿432能帶動活動架42相對于固定架41 上下移動，以調(diào)整光源模組3的高度，使得光源模組3與上對位臺框21之間的距離和光源模組3與下對位臺框22之間的距離能調(diào)整成相同，由此，光源裝置30的光源模組3對上對位臺框21或是對下對位臺框22曝光時的強度與均勻度均能保持一致。固定架41包含能通過螺鎖方式鎖固于機臺10上的架本體411，架本體411的左右側(cè)各設(shè)有兩個前后相間隔的導(dǎo)桿412，各導(dǎo)桿412呈縱向延伸且其頂端能通過螺鎖方式鎖固于架本體411上?；顒蛹?2包含架體421、兩個分別設(shè)置于架體421左右側(cè)的側(cè)接合板 422、四個襯套423及設(shè)置于架體421上的浮動接頭427。各側(cè)接合板422鄰近外側(cè)處鎖固有兩個前后相間隔的襯套423，各襯套423能滑動地套設(shè)于各導(dǎo)桿412上，在本實施例中，各襯套423為滾珠襯套。浮動接頭427用以供氣缸43的氣缸伸縮桿432連接，通過浮動接頭 427的設(shè)計能吸收氣缸伸縮桿432進行直線推動或拉回時其角度或位置的偏移量，由此，使得氣缸43的氣缸伸縮桿432能順暢地帶動活動架42沿著導(dǎo)桿412的延伸方向上下滑動。需說明的是，在設(shè)計時，固定架41也能只包含兩個分別設(shè)置于架本體411左右側(cè)的導(dǎo)桿412，活動架42也可只包含兩個分別能滑動地套設(shè)于兩個導(dǎo)桿412上的襯套423，導(dǎo)桿412及襯套423的數(shù)量并不以本實施例所公開的為限。此外，各側(cè)接合板422鄰近內(nèi)側(cè)處鎖固有呈水平延伸的滑軌424，光源模組3可通過兩側(cè)的滾輪31滑動地接合于各側(cè)接合板422的滑軌似4上，由此，能方便且迅速地將光源模組3組裝在活動架42上或是由活動架42上拆卸。固定架41還包含兩個安裝板413，及四個擋止件414。各安裝板413可通過卡合、 螺鎖或銲接方式接合固定于兩個前后相間隔的導(dǎo)桿412上，且各安裝板413鄰近于導(dǎo)桿412底端處。每兩擋止件414彼此前后相間隔地接合于各安裝板413上，每兩擋止件414用以供活動架42的各側(cè)接合板422抵接，以防止活動架42向下移動，由此，能調(diào)整與限制活動架42向下移動的行程。在本實施例中，各安裝板413包括兩個螺孔415，各擋止件414為呈縱向延伸并且螺接于各螺孔415的螺栓，通過各擋止件414螺接于各螺孔415內(nèi)的設(shè)計，使得各擋止件414能相對于各安裝板413上下移動并調(diào)整高度，由此，能改變活動架42向下移動的行程。較佳地，固定架41還包含有四個彈性緩沖墊416，各彈性緩沖墊416為橡膠或硅膠材質(zhì)所制成，其可通過黏膠黏固于各擋止件414頂端，各彈性緩沖墊416用以供各側(cè)接合板422抵接，由此，各彈性緩沖墊416能吸收活動架42的側(cè)接合板422向下移動時的沖擊力，以避免擋止件414直接受側(cè)接合板422的沖擊力影響而產(chǎn)生受損的情形。更佳地，固定架41進一步地包含四個下緩沖器417，每兩下緩沖器417彼此前后相間隔地接合于各安裝板413上，在本實施例中，各下緩沖器417為油壓缸，各下緩沖器417 包括接合于各安裝板413上的下缸體418，及能上下伸縮地穿設(shè)于下缸體418內(nèi)的下接觸桿419，各下接觸桿419頂端的高度高于各彈性接觸墊416頂端的高度。活動架42的側(cè)接合板422向下移動的過程中，下緩沖器417的下接觸桿419會先抵接在側(cè)接合板422，并吸收側(cè)接合板422下移時的沖擊力，使側(cè)接合板422緩慢下移段距離后再抵接于彈性緩沖墊 416上，由此，能有效地吸收活動架42的側(cè)接合板422向下移動時的沖擊力。固定架41還包含有四個上緩沖器420，架本體411的左右側(cè)各設(shè)有兩個前后相間隔且鄰近導(dǎo)桿412頂端的上緩沖器420，在本實施例中，各上緩沖器420為油壓缸，各上緩沖器420包括接合于架本體411上的上缸體425，及能上下伸縮地穿設(shè)于上缸體425內(nèi)的上接觸桿426，活動架42的側(cè)接合板422向上移動的過程中，上緩沖器420的上接觸桿似6會抵接在側(cè)接合板422上，由此，能有效地吸收活動架42的側(cè)接合板422向上移動時的沖擊力。以下將針對曝光機100的操作方式進行詳細說明。如圖1、圖2及圖4所示，當(dāng)上對位臺框21通過傳動機構(gòu)的帶動而移動到對應(yīng)于光源裝置30的光源模組3位置時，光源模組3位于第一高度位置，光源模組3與上對位臺框 21之間的距離為D1，光源模組3能對上對位臺框21內(nèi)的基板(圖未示)進行曝光的作業(yè)。如圖5、圖6及圖7所示，當(dāng)上對位臺框21曝光完成后，通過傳動機構(gòu)帶動上對位臺框21與下對位臺框22分別沿箭頭方向左右交替地水平移動，使得下對位臺框22能移動到對應(yīng)于光源裝置30的光源模組3位置。接著，通過氣缸3的氣缸伸縮桿432沿箭頭I方向推動，以帶動活動架42及光源模組3往下移動，當(dāng)活動架42的側(cè)接合板422抵接于下緩沖器417的下接觸桿419時，側(cè)接合板422會將下接觸桿419下壓，下接觸桿419會吸收活動架42的側(cè)接合板422向下移動的沖擊力，使側(cè)接合板422能緩慢地繼續(xù)下移。待側(cè)接合板422下移一段距離后會抵接在擋止件414頂端的彈性接觸墊416上，活動架42即停止向下移動。此時，光源模組3位于第二高度位置，光源模組3與下對位臺框22之間的距離為 D2，光源模組3能對下對位臺框22內(nèi)的基板(圖未示)進行曝光的作業(yè)。由于Dl等于D2， 因此，光源裝置30對上對位臺框21與下對位臺框22曝光的強度與均勻度能保持一致，由此，以有效地提升曝光的品質(zhì)。當(dāng)下對位臺框21曝光完成后，通過傳動機構(gòu)帶動上對位臺框21與下對位臺框22 左右交替地水平移動，使得上對位臺框21移動到對應(yīng)于光源裝置30的光源模組3位置。接著，通過氣缸3的氣缸伸縮桿432沿箭頭I反向拉回，以帶動活動架42及光源模組3往上移動，當(dāng)活動架42的側(cè)接合板422抵接于上緩沖器420的上接觸桿426時，側(cè)接合板422會將上接觸桿似6上壓，上接觸桿似6會吸收活動架42的側(cè)接合板422向上移動的沖擊力， 使活動架42能緩慢地帶動光源模組3復(fù)位到第一高度位置，以進行上對位臺框21上的另一個基板(圖未示)的曝光作業(yè)。需說明的是，在設(shè)計時，擋止件414、彈性接觸墊416、下緩沖器417及上緩沖器420的數(shù)量也可各為兩個，且設(shè)置在左右相反側(cè)，同樣能達到吸收活動架42移動時的沖擊力的功效。綜上所述，本實施例的曝光機100，通過光源裝置30的高度調(diào)整機構(gòu)4設(shè)計，能帶動光源模組3上下移動地調(diào)整高度，使得光源模組3與上對位臺框21之間的距離Dl以及光源模組3與下對位臺框22之間的距離D2能調(diào)整成相同，由此，光源裝置30對上對位臺框21與下對位臺框22曝光的強度與均勻度能保持一致，以提升曝光的品質(zhì)。再者，由于高度調(diào)整機構(gòu)4的結(jié)構(gòu)設(shè)計簡單，因此，能有效降低制造成本，確實能達到本新型所訴求的目的。以上僅為本實用新型的具體實施例，并不以此限定本實用新型的保護范圍；在不違反本實用新型構(gòu)思的基礎(chǔ)上所作的任何替換與改進，均屬本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種光源裝置，其特征在于，其包含光源模組及高度調(diào)整機構(gòu)，高度調(diào)整機構(gòu)包括固定架；活動架，供光源模組安裝并能帶動光源模組相對于固定架上下移動；及氣缸，包含設(shè)置于固定架上的缸體，及穿設(shè)于缸體內(nèi)并與活動架相連接的氣缸伸縮桿， 氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動。
2.如權(quán)利要求1所述光源裝置，其特征在于，固定架包含兩個分別設(shè)置于左右側(cè)且相間隔的導(dǎo)桿，各導(dǎo)桿呈縱向延伸，活動架包含兩個分別能滑動地套設(shè)于兩個導(dǎo)桿上的襯套。
3.如權(quán)利要求2所述光源裝置，其特征在于，活動架還包含供氣缸伸縮桿連接的浮動接頭，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個導(dǎo)桿上且鄰近底端處的安裝板，及兩個分別接合于兩個安裝板上的擋止件，各擋止件用以供活動架抵接。
4.如權(quán)利要求3所述光源裝置，其特征在于，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個擋止件頂端的彈性接觸墊，各彈性接觸墊用以供活動架抵接。
5.如權(quán)利要求4所述光源裝置，其特征在于，固定架還包含兩個分別接合于兩個安裝板上的下緩沖器，各下緩沖器包括接合于各安裝板上的下缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于下缸體內(nèi)且用以抵接活動架的下接觸桿，各下接觸桿頂端的高度高于各彈性接觸墊頂端的高度。
6.如權(quán)利要求5所述光源裝置，其特征在于，固定架還包含兩個分別鄰近于兩個導(dǎo)桿頂端的上緩沖器，各上緩沖器包括上缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于上缸體內(nèi)且用以抵接活動架的上接觸桿。
7.一種具有光源裝置的曝光機，其特征在于，其包括機臺、對位裝置及光源裝置；對位裝置，設(shè)置于機臺內(nèi)并包含上對位臺框及下對位臺框，上對位臺框與下對位臺框能左右交替地水平移動；光源裝置，設(shè)置于機臺內(nèi)并包含光源模組，設(shè)置于機臺內(nèi)且間隔位于對位裝置上方，光源模組用以對對應(yīng)至其下方的上對位臺框或下對位臺框照射光線；及高度調(diào)整機構(gòu)，包括固定架、活動架，及氣缸，固定架固定地設(shè)置于機臺內(nèi)，活動架供光源模組安裝并能帶動光源模組相對于固定架上下移動，氣缸包含設(shè)置于固定架上的缸體， 及穿設(shè)于缸體內(nèi)并與活動架相連接的氣缸伸縮桿，氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動。
8.如權(quán)利要求7所述具有光源裝置的曝光機，其特征在于，固定架包含兩個分別設(shè)置于左右側(cè)且相間隔的導(dǎo)桿，各導(dǎo)桿呈縱向延伸，活動架包含兩個分別能滑動地套設(shè)于兩個導(dǎo)桿上的襯套。
9.如權(quán)利要求8所述具有光源裝置的曝光機，其特征在于，活動架還包含供氣缸伸縮桿連接的浮動接頭，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個導(dǎo)桿上且鄰近底端處的安裝板，及兩個分別接合于兩個安裝板上的擋止件，各擋止件用以供活動架抵接。
10.如權(quán)利要求9所述具有光源裝置的曝光機，其特征在于，固定架還包含兩個分別設(shè)置于兩個擋止件頂端的彈性接觸墊，各彈性接觸墊用以供活動架抵接。
11.如權(quán)利要求10所述具有光源裝置的曝光機，其特征在于，固定架還包含兩個分別接合于兩個安裝板上的下緩沖器，各下緩沖器包括接合于各安裝板上的下缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于下缸體內(nèi)且用以抵接活動架的下接觸桿，各下接觸桿頂端的高度高于各彈性接觸墊頂端的高度。
12.如權(quán)利要求11所述具有光源裝置的曝光機，其特征在于，固定架還包含兩個分別鄰近于兩個導(dǎo)桿頂端的上緩沖器，各上緩沖器包括上缸體，及能上下伸縮地穿設(shè)于上缸體內(nèi)且用以抵接活動架的上接觸桿。
專利摘要本實用新型公開了一種光源裝置及具有該光源裝置的曝光機，光源裝置包含光源模組及高度調(diào)整機構(gòu)，高度調(diào)整機構(gòu)包括固定架、活動架及氣缸，活動架供光源模組安裝并能帶動光源模組相對于固定架上下移動，氣缸包含設(shè)置于固定架上的缸體，及穿設(shè)于缸體內(nèi)并與活動架相連接的氣缸伸縮桿，氣缸伸縮桿呈縱向延伸并能相對于缸體上下運動，以帶動活動架相對于固定架上下移動。本實用新型的生產(chǎn)制造成本低，且可以提升曝光的品質(zhì)。
文檔編號F21V14/02GK202041765SQ20112014561
公開日2011年11月16日 申請日期2011年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月10日
發(fā)明者張永裕, 汪晨偉 申請人:志圣科技(廣州)有限公司