專利名稱：一種磁控濺射用平面陰極的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種磁控濺射鍍膜裝置，更具體地說涉及一種磁控濺射用平面陰極。
背景技術(shù)：
隨著大面積玻璃鍍膜技術(shù)的不斷提高，市場對于膜厚均勻性的要求已經(jīng)超越了傳統(tǒng)磁體處理方法所能達到的極限。利用傳統(tǒng)的磁體處理方法，磁控濺射平面陰極的鍍膜均勻性一般可以達到士4%。實驗發(fā)現(xiàn)，在磁控濺射鍍膜時，由于大量高能電子在磁場和電場的相互作用下沿平面陰極靶材表面作螺旋型運動，使整個濺射在靶材表面形成一條環(huán)形的蝕刻“跑道”。在 “跑道”的兩端，由于磁場方向連續(xù)變化、濺射區(qū)域增加的速率在靶材表面兩端的轉(zhuǎn)彎處過快，使“跑道”兩端局部的濺射明顯強于“跑道”的中間段，從而導致鍍膜時平面陰極兩端的膜層變厚，均勻性變差。

實用新型內(nèi)容為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提出以下解決方案一種磁控濺射用平面陰極，包括磁軛、靶材、軟鐵和磁體，其中，靶材位于磁軛下表面，與磁軛連接；軟鐵位于磁軛內(nèi)，與磁軛連接，磁體也位于磁軛內(nèi)，與軟鐵連接；所述軟鐵靠近平面陰極端部的部分呈楔形，且該部分的厚度越靠近平面陰極端部越?。凰鲕涜F靠近平面陰極端部的部分設(shè)有調(diào)節(jié)螺釘，用于調(diào)節(jié)軟鐵和磁體與靶材濺射表面的間距。優(yōu)選地，所述軟鐵與所述磁軛通過固定螺釘連接；所述磁體與所述軟鐵通過粘結(jié)劑連接。本實用新型的有益效果是(1)通過在平面陰極內(nèi)部設(shè)置軟鐵間距調(diào)整機構(gòu)，對平面陰極兩端靶材濺射表面的磁場強度進行精密調(diào)整，達到均勻膜層厚度的目的，本實用新型的平面陰極可以使鍍膜均勻性在3米的寬度范圍內(nèi)控制到士 1.5%之內(nèi)；(2)進一步提高了平面陰極兩端靶材的利用率，降低鍍膜成本。

圖1 處于極限調(diào)節(jié)狀態(tài)的本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2 處于極限調(diào)節(jié)狀態(tài)的本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標記1.磁軛2.軟鐵3.磁體4.調(diào)節(jié)螺釘5.固定螺釘[0016]6.上調(diào)節(jié)空間7.靶材8.密封膜9.下調(diào)節(jié)空間
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型的磁控濺射用平面陰極包括磁軛1、靶材7、軟鐵2和磁體 3，其中，靶材7位于磁軛1下表面，與磁軛1連接；軟鐵2位于磁軛1內(nèi)，與磁軛1連接磁體 3也位于磁軛1內(nèi)，與軟鐵2連接；軟鐵2靠近平面陰極端部的部分呈楔形，且該部分的厚度越靠近平面陰極端部越小，從而在軟鐵2與磁軛1之間形成了上調(diào)節(jié)空間6 ；調(diào)節(jié)螺釘4 設(shè)于軟鐵2靠近平面陰極端部的部分以調(diào)節(jié)該部分與磁軛1的間距，也即是說，調(diào)節(jié)螺釘4 調(diào)節(jié)上調(diào)節(jié)空間6的大小。圖1表示的即是上調(diào)節(jié)空間6達到最大時的調(diào)節(jié)狀態(tài)。如圖2所示，本實用新型的磁控濺射用平面陰極還包括靶材7，且靶材7通過密封膜8與磁軛1連接。磁體3與密封膜8之間形成了下調(diào)節(jié)空間9 ；調(diào)節(jié)螺釘4調(diào)節(jié)上調(diào)節(jié)空間6的同時，也調(diào)節(jié)下調(diào)節(jié)空間9。圖2表示的即是下調(diào)節(jié)空間9達到最大時的調(diào)節(jié)狀態(tài)。由上可知，通過將軟鐵2靠近平面陰極端部的部分設(shè)為楔形，以使軟鐵2與磁軛1 之間形成上調(diào)節(jié)空間6，再通過設(shè)置調(diào)節(jié)螺釘4以調(diào)節(jié)上調(diào)節(jié)空間6的大小，相當于是在平面陰極內(nèi)部形成了一個調(diào)節(jié)機構(gòu)。當調(diào)節(jié)螺釘4調(diào)節(jié)上調(diào)節(jié)空間6時，軟鐵2連同連接在軟鐵2上面的磁體3 —同發(fā)生移動，使得磁體3與密封膜8之間形成下調(diào)節(jié)空間9，從而改變磁體3到靶材7濺射表面的距離，達到調(diào)節(jié)平面陰極兩端靶材濺射表面的磁場強度、均勻膜層厚度的目的。優(yōu)選地，軟鐵2與磁軛1通過固定螺釘5連接。優(yōu)選地，磁體3與軟鐵2通過粘結(jié)劑連接，例如，可采用德國漢高百得的鋼鐵專用粘結(jié)劑PKME15C進行粘結(jié)。
權(quán)利要求1.一種磁控濺射用平面陰極，包括磁軛、靶材、軟鐵和磁體，其中，靶材位于磁軛下表面，與磁軛連接；軟鐵位于磁軛內(nèi)，與磁軛連接，磁體也位于磁軛內(nèi)，與軟鐵連接，其特征在于，所述軟鐵靠近平面陰極端部的部分呈楔形，且該部分的厚度越靠近平面陰極端部越??； 所述軟鐵靠近平面陰極端部的部分設(shè)有調(diào)節(jié)螺釘，用于調(diào)節(jié)軟鐵和磁體與靶材濺射表面的間距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射用平面陰極，其特征在于，所述軟鐵與所述磁軛通過固定螺釘連接；所述磁體與所述軟鐵通過粘結(jié)劑連接。
專利摘要本實用新型涉及一種磁控濺射鍍膜裝置，更具體地說涉及一種磁控濺射用平面陰極。本實用新型的磁控濺射用平面陰極包括磁軛、靶材、軟鐵和磁體，其中，靶材位于磁軛下表面，與磁軛連接；軟鐵位于磁軛內(nèi)，與磁軛連接，磁體也位于磁軛內(nèi)，與軟鐵連接；軟鐵靠近平面陰極端部的部分呈楔形，且該部分的厚度越靠近平面陰極端部越??；此外，軟鐵靠近平面陰極端部的部分設(shè)有調(diào)節(jié)螺釘，用于調(diào)節(jié)軟鐵和磁體與磁軛表面靶材的間距。本實用新型通過在平面陰極內(nèi)部設(shè)置軟鐵間距調(diào)整機構(gòu)，對平面陰極兩端靶材濺射表面的磁場強度進行精密調(diào)整，達到均勻膜層厚度的目的，使鍍膜均勻性在3米的寬度范圍內(nèi)控制在±1.5％之內(nèi)；同時，進一步提高了平面陰極兩端靶材的利用率，降低鍍膜成本。
文檔編號H01J37/34GK202307784SQ20112025799
公開日2012年7月4日 申請日期2011年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月21日
發(fā)明者陸志豪, 陳曦 申請人:上海德化機電科技有限公司