專利名稱：校準方法和平板顯示器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
在此公開的技術(shù)涉及平版印刷技術(shù)中的被曝光基板和光掩模的校準方法以及通過平版印刷技術(shù)進行圖案形成的平板顯示器的制造方法。
背景技術(shù)：
以等離子顯示面板(以下，稱為PDP)為代表的平板顯示器(以下，稱為FPD)具有在面板面內(nèi)圖案形成的電極等的結(jié)構(gòu)。在圖案形成中使用平版印刷技術(shù)。即，已知如下方法對形成在基板上的材料，經(jīng)由光掩模進行曝光之后使其顯影，從而設(shè)為規(guī)定的圖案。隨著FPD的大畫面化，難以形成對應(yīng)于大畫面的大型光掩模。因此，公開了將FPD面內(nèi)的應(yīng)曝光的區(qū)域分割為多個區(qū)域的曝光方法(例如，參照日本專利文獻1)。專利文獻1 日本特開2007-179777號公報

發(fā)明內(nèi)容
一種將基板與光掩模之間的距離設(shè)定為規(guī)定的曝光間隙的校準方法。光掩模為矩形，且包括第一邊和與第一邊對置的第二邊。使第一邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。以連接第一邊的中點和第二邊的中點的線為軸使光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第一邊的兩端的每一個與基板之間的距離對準所述曝光間隙。以第一邊為軸使光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第二邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。一種平板顯示器的制造方法，所述平板顯示器使用隔著曝光間隙而配置的多個光掩模，對形成在基板上的感光性膜進行分割曝光。多個光掩模至少包括第一光掩模和第二光掩模。第一光掩模為矩形，且包括第一邊和與第一邊對置的第二邊。第二光掩模為矩形， 且包括第三邊和與第三邊對置的第四邊。在被分割曝光的邊界部，使第一邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。以連接第一邊的中點和第二邊的中點的線為軸使第一光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第一邊的兩端的每一個與基板之間的距離對準曝光間隙。以第一邊為軸使第一光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第二邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。在被分割曝光的邊界部，使第三邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。以連接第三邊的中點和第四邊的中點的線為軸使第二光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第三邊的兩端的每一個與基板之間的距離對準曝光間隙。以第三邊為軸使第二光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第四邊的中點與基板的距離對準曝光間隙。


圖1是表示PDP的主要部分的立體圖。圖2是表示在本實施方式中的分割曝光中曝光基板的左區(qū)域的狀態(tài)的圖。圖3是圖2中的3-3剖視圖。圖4是表示在本實施方式中的分割曝光中曝光基板的右區(qū)域的狀態(tài)的圖。圖5是圖4中的5-5剖視圖。圖6是表示分割曝光中的光掩模和基板的校準的主視圖。
圖7是表示分割曝光中的光掩模和基板的校準的側(cè)視圖。圖8是表示本實施方式的光掩模的校準方法的圖。圖9是表示本實施方式的光掩模的校準方法的圖。
具體實施例方式以PDP的制造方法為例進行說明。1.PDP1的結(jié)構(gòu)PDP的基本結(jié)構(gòu)是一般的交流面放電型PDP。如圖1所示，在PDPl中，對置配置了由前面玻璃基板3等構(gòu)成的前面板2和由背面玻璃基板11等構(gòu)成的背面板10。前面板2 和背面板10通過周邊由玻璃粉(glass frit)等構(gòu)成的封裝部件密封。在密封的PDPl內(nèi)部的放電空間16內(nèi)，以53kPa(400Torr) 80kPa(600Torr)的壓力裝入氖(Ne)和氙(Xe) 等放電氣體。掃描電極4和維持電極5分別在由銦錫金屬氧化(ITO)、氧化錫(SnO2)、氧化鉛 (ZnO)等導(dǎo)電性金屬氧化物構(gòu)成的透明電極上層疊了由Ag構(gòu)成的總線電極。在背面玻璃基板11上，與顯示電極6正交的方向上，相互平行地配置由以銀(Ag) 為主成分的導(dǎo)電性材料構(gòu)成的多個數(shù)據(jù)電極12。數(shù)據(jù)電極12被襯底電介質(zhì)層13所覆蓋。 此外，在數(shù)據(jù)電極12之間的襯底電介質(zhì)層13上，形成有劃分放電空間16的規(guī)定高度的隔壁14。在隔壁14之間的溝中，按每個數(shù)據(jù)電極12，依次涂敷而形成通過紫外線而發(fā)出紅色的熒光體層15、發(fā)出綠色的熒光體層15以及發(fā)出藍色的熒光體層15。在顯示電極6和數(shù)據(jù)電極12交叉的位置上形成有放電單元。沿著顯示電極6的方向排列的具有紅色、綠色、 藍色的熒光體層15的放電單元成為用于彩色顯示的像素。另外，在本實施方式中，被封入到放電空間16中的放電氣體包括10體積％以上且 30%體積以下的Xe。如圖2所示，在通過浮動法(float method)等而制造出的前面玻璃基板3上，形成了由掃描電極4和維持電極5構(gòu)成的顯示電極6以及遮光層7。掃描電極4和維持電極5 分別由銦錫金屬氧化(ITO)和氧化錫(SnO2)等構(gòu)成的透明電極^、5a以及在透明電極如、 如上形成的金屬總線電極4bjb構(gòu)成。金屬總線電極4b、5b由以銀(Ag)材料為主成分的導(dǎo)電性材料形成。電介質(zhì)層8是覆蓋顯示電極6和遮光層7的第一電介質(zhì)層81以及覆蓋第一電介質(zhì)層81的第二電介質(zhì)層82的至少2層結(jié)構(gòu)。此外，前面板2具有覆蓋第二電介質(zhì)層82的保護層9。此外，在電介質(zhì)層8的表面形成了保護層9。保護層9包括襯底層91和金屬氧化物的多個晶粒9 凝聚而成的凝聚粒子92。2.PDPl的制造方法2-1.前面板2的形成通過光刻法(photolithography method)，在前面玻璃基板3上形成掃描電極4和維持電極5以及黑條(black stripes) 7 掃描電極4和維持電極5具有包括用于確保導(dǎo)電性的銀(Ag)的金屬總線電極4b、5b。此外，掃描電極4和維持電極5具有透明電極^、5a。 金屬總線電極4b層疊在透明電極如上。金屬總線電極恥層疊在透明電極fe上。
4
在透明電極^、5a的材料中，使用用于確保透明度和電傳導(dǎo)率的銦錫金屬氧化 (ITO)等。首先，通過濺射法等，ITO薄膜形成在前面玻璃基板3上。接著，通過平版印刷法，形成規(guī)定圖案的透明電極如、5&在金屬總線電極4b、5b的材料中，使用包括銀(Ag)、用于粘合銀的玻璃粉、感光性樹脂以及溶劑等電極糊劑。首先，通過絲網(wǎng)印刷法(screen printing method)等，在前面玻璃基板3上涂敷電極糊劑。接著，由干燥爐除去電極糊劑中的溶劑。接著，經(jīng)由規(guī)定圖案的光掩模，電極糊劑被曝光。接著，電極糊劑被顯影，形成金屬總線電極圖案。最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒金屬總線電極圖案。S卩，除去金屬總線電極圖案中的感光性樹脂。此外，金屬總線電極圖案中的玻璃粉熔化。熔化的玻璃粉在煅燒后成玻璃狀。通過以上的工序，形成金屬總線電極4bjb。黑條7由包括黑色顏料的材料形成。接著，形成電介質(zhì)層8。在電介質(zhì)層8的材料中，使用包括電介質(zhì)玻璃粉、樹脂以及溶劑等的電介質(zhì)糊劑。首先，通過印模涂敷法(die coating method)等，將電介質(zhì)糊劑以規(guī)定的厚度按照覆蓋掃描電極4、維持電極5以及黑條7的方式涂敷在前面玻璃基板3上。接著，通過干燥爐，除去電介質(zhì)糊劑中的溶劑。最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒電介質(zhì)糊劑。即，除去電介質(zhì)糊劑中的樹脂。此外，電介質(zhì)玻璃粉熔化。熔化的電介質(zhì)玻璃粉在煅燒后成玻璃狀。通過以上的工序，形成電介質(zhì)層8。這里，除了對電介質(zhì)糊劑進行印模涂敷的方法之外，還可以使用絲網(wǎng)印刷法、旋涂法(spin coating method)等。此外，也可以不使用電介質(zhì)糊劑，而是通過CVD(Chemical Vapor Deposition)法等來形成成為電介質(zhì)層8的膜。接著，在電介質(zhì)層8上形成保護層9。作為一例，通過EB(Electron Beam)蒸鍍裝置形成保護層9。保護層9的材料是由單晶的MgO構(gòu)成的顆粒(pellets)。在顆粒中，還可以作為雜質(zhì)而添加鋁(Al)、硅(Si9等。首先，對配置在EB蒸鍍裝置的成膜室的顆粒照射電子束。接受到電子束的能量的顆粒會蒸發(fā)。蒸發(fā)的MgO附著在配置于成膜室內(nèi)的電介質(zhì)層8上。通過電子束的強度、成膜室的壓力等，將MgO的膜厚調(diào)整為收斂于規(guī)定的范圍。另外，除了 MgO之外，保護層9可使用與氧化鈣(CaO)的混合膜或者包括氧化鍶 (SrO)、氧化鋇(BaO)、氧化鋁(Al2O3)等金屬氧化物的膜。此外，也可以使用包括多種金屬氧化物的膜。通過以上的工序，完成在前面玻璃基板3上具有規(guī)定的構(gòu)成部件的前面板2。2_2·背面板10的形成通過光刻法，在背面玻璃基板11上形成數(shù)據(jù)電極12。在數(shù)據(jù)電極12的材料中， 使用包括用于確保導(dǎo)電性的銀(Ag)、用于粘合銀的玻璃粉、感光性樹脂以及溶劑等的數(shù)據(jù)電極糊劑。首先，通過絲網(wǎng)印刷法等，在背面玻璃基板11上以規(guī)定的厚度涂敷數(shù)據(jù)電極糊齊U。接著，通過干燥爐，除去數(shù)據(jù)電極糊劑中的溶劑。接著，經(jīng)由規(guī)定圖案的光掩模，數(shù)據(jù)電極糊劑被曝光。接著，數(shù)據(jù)電極糊劑被顯影，形成數(shù)據(jù)電極圖案。最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒數(shù)據(jù)電極圖案。即，除去數(shù)據(jù)電極圖案中的感光性樹脂。此外，數(shù)據(jù)電極圖案中的玻璃粉熔化。熔化的玻璃粉在煅燒后成玻璃狀。通過以上的工序，形成數(shù)據(jù)電極12。這里，除了對數(shù)據(jù)電極糊劑進行絲網(wǎng)印刷的方法之外，還可以使用濺射法、蒸鍍法等。
接著，形成襯底電介質(zhì)層13。在襯底電介質(zhì)層13的材料中，使用包括電介質(zhì)玻璃粉、樹脂以及溶劑等的襯底電介質(zhì)糊劑。首先，通過絲網(wǎng)印刷法等，將襯底電介質(zhì)糊劑以規(guī)定的厚度按照覆蓋數(shù)據(jù)電極12的方式涂敷在形成了數(shù)據(jù)電極12的背面玻璃基板11上。接著，通過干燥爐，除去襯底電介質(zhì)糊劑中的溶劑。最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒襯底電介質(zhì)糊劑。即，除去襯底電介質(zhì)糊劑中的樹脂。此外，電介質(zhì)玻璃粉熔化。熔化的電介質(zhì)玻璃粉在煅燒后成玻璃狀。通過以上的工序，形成襯底電介質(zhì)層13。這里，除了對襯底電介質(zhì)糊劑進行絲網(wǎng)印刷的方法之外，還可以使用印模涂敷法、旋涂法等。此外，也可以不使用襯底電介質(zhì)糊劑，而是通過CVD(Chemical Vapor D印osition)法等來形成成為襯底電介質(zhì)層13的膜。接著，通過光刻法，形成隔壁14。在隔壁14的材料中，使用包括填料(filler)、 用于粘合填料的玻璃粉、感光性樹脂以及溶劑等的隔壁糊劑。首先，通過印模涂敷法等，在襯底電介質(zhì)層13上以規(guī)定的厚度涂敷隔壁糊劑。接著，通過干燥爐，除去隔壁糊劑中的溶劑。接著，經(jīng)由規(guī)定圖案的光掩模，曝光隔壁糊劑。接著，隔壁糊劑被顯影，形成隔壁圖案。 最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒隔壁圖案。即，除去隔壁圖案中的感光性樹脂。此外， 隔壁圖案中的玻璃粉熔化。熔化的玻璃粉在煅燒后成玻璃狀。通過以上的工序，形成隔壁 14。這里，除了光刻法之外，還可以使用噴砂(sand blast)法等。接著，形成熒光體層15。在熒光體層15的材料中，使用包括熒光體粒子、粘結(jié)劑 (binder)、溶劑等的熒光體糊劑。首先，通過分配法(dispensing method)等，在相鄰的隔壁14間的襯底電介質(zhì)層13上和隔壁14的側(cè)面，以規(guī)定的厚度涂敷熒光體糊劑。接著，通過干燥爐，除去熒光體糊劑中的溶劑。最后，通過煅燒爐，以規(guī)定的溫度煅燒熒光體糊劑。艮口， 除去熒光體糊劑中的樹脂。通過以上的工序，形成熒光體層15。這里，除了分配法之外，還可以使用絲網(wǎng)印刷法等。通過以上的工序，完成在背面玻璃基板11上具有規(guī)定的構(gòu)成部件的背面板10。2-3.前面板2和背面板10的組裝接著，對前面板2和背面板10進行組裝。首先，通過分配法，在背面板10的周圍形成密封部件(未圖示)。在密封部件(未圖示)的材料中，使用包括玻璃粉、粘結(jié)劑以及溶劑等的密封糊劑。接著，通過干燥爐，除去密封糊劑中的溶劑。接著，對置配置前面板2 和背面板10，以使顯示電極6和數(shù)據(jù)電極12正交。接著，用玻璃粉密封前面板2和背面板 10的周圍。最后，通過在放電空間16中封入包括Ne、Xe等的放電氣體來完成PDPl。3.光刻法的細節(jié)在曝光時，進行光掩模和被曝光基板的對位(校準)。在校準中產(chǎn)生了偏差的情況下，圖案不能按照設(shè)計的那樣形成。因此，在PDP面內(nèi)，圖像顯示狀態(tài)會變化，或者會產(chǎn)生外觀上的不均。因此，校準要求非常高的精度。此外，隨著PDP的大畫面化的進展，需要曝光不能收斂于一張光掩模的較寬的區(qū)域，所以采用使用多個光掩模的分割曝光法。在分割曝光法中，存在結(jié)合了一個分割曝光區(qū)域和另一個分割曝光區(qū)域的重復(fù)區(qū)域(以下，稱為連接區(qū)域)。因此，還需要一個分割曝光區(qū)域和另一個分割曝光區(qū)域的校準。 例如，在電極圖案的連接區(qū)域中產(chǎn)生了如高低差這樣的偏差的情況下，對于本應(yīng)是直線形狀的電極而言，在特定區(qū)域產(chǎn)生高低差。沿著電極長度方向的法線方向，高低差成為外觀上的條狀不均。
6
在此公開的技術(shù)是為了解決這樣的課題。3-1.分割曝光法的細節(jié)如圖2和圖4所示，在矩形的基板51上，形成有感光性材料層52。在與基板51對置的位置上，配置了第一光掩模53和第二光掩模54。第一光掩模53和第二光掩模M是矩形。另外，矩形并不意味著幾何學(xué)上的完全的矩形。即使因光掩模的設(shè)計上的原因等而導(dǎo)致一部分凸出或凹進等，通過肉眼觀察時，也能夠大致判斷為矩形。這里，基板51的面積比第一光掩模53和第二光掩模M大。因此，感光性材料層 52被分割曝光。即，被分割為通過第一光掩模53曝光的區(qū)域、和通過第二光掩模M曝光的區(qū)域。如圖3所示，在基板51的左側(cè)，隔著曝光間隙而在感光性材料層52的上部配置第一光掩模53。如圖2和圖4所示，在第一光掩模53和第二光掩模M中設(shè)置有開口部55。從設(shè)置在第一光掩模53和第二光掩模M的上方的曝光光源(未圖示)經(jīng)過開口部55向感光性材料層52照射光。通過第一光掩模53形成左側(cè)的第一曝光區(qū)域52a。如圖 5所示，通過第二光掩模M，形成右側(cè)的第二曝光區(qū)域52b。在第一曝光區(qū)域5 和第二曝光區(qū)域52b之間形成連接區(qū)域52c。另外，在本實施方式中，感光性材料層52的未曝光區(qū)域是通過以下的顯影工序被除去的。此外，在基板51的長邊側(cè)的上下端部和中央部，分別設(shè)置有十字形狀的校準標記 (未圖示)。通過使用校準標記，能夠進行基板51與第一光掩模53和第二光掩模M之間的對位。在將分割曝光法應(yīng)用于PDP的制造中的情況下，作為一例，可以在前面玻璃基板3 上形成透明電極如、如時，利用ITO同時形成前面板2的校準標記。此外，可以在背面玻璃基板11上形成數(shù)據(jù)電極12時，利用Ag等導(dǎo)電材料同時形成背面板10的校準標記。3-2.校準方法通過校正基板51與第一光掩模53和第二光掩模M之間的相對位置，從而進行校準。通過位置校正和傾斜校正來進行校正。3-2-1.位置校正圖6表示正交坐標系x-y。在位置校正中，校正x_y軸和旋轉(zhuǎn)方向θ的位置。如圖6所示，在第一光掩模53的四角，設(shè)置有使可見光透過的窗W11、W12、W13以及W14。在第二光掩模討的四角，設(shè)置有W21、W22、W23以及W24。曝光裝置經(jīng)由Wll W24 識別大致十字形的校準標記(未圖示)。接著，第一光掩模53和第二光掩模M移動，以使校準標記位于規(guī)定的位置。通過攝像機拍攝等的圖像處理方法等，識別校準標記。3-2-2.傾斜校正接著，進行第一光掩模53和第二光掩模M的傾斜校正。在曝光裝置中，經(jīng)由 Wll W24，在與基板51對置的位置上配置有激光位移測量儀(未圖示)。激光位移測量儀根據(jù)激光的反射光和透過光，測量光掩模與基板之間的距離、即曝光間隙。在第一光掩模 53中，在位置P11、P12以及P13中設(shè)置有用于調(diào)整曝光間隙的機構(gòu)、即致動器。在第一光掩模53中，在位置P21、P22以及P23中設(shè)置有致動器。通過向曝光裝置的控制機構(gòu)輸入數(shù)值，從而致動器工作。隨著致動器工作，曝光間隙會變化。P11、P12以及P13在圖6所示的正交坐標系x-y中被配置在不同的坐標上。因此，可進行傾斜校正的范圍擴大。關(guān)于P21、 P22以及P23也是相同的。本實施方式的曝光裝置可輸入6個位置中的曝光間隙。S卩，如圖7所示，向Pll可輸入hll的曝光間隙，向P12可輸入hl2的曝光間隙，向P13可輸入hl3的曝光間隙，向P21 可輸入h21的曝光間隙，向P22可輸入h22的曝光間隙，向P23可輸入h23的曝光間隙。例如，在想要將曝光間隙設(shè)為500 μ m的情況下，對hll、hl2、hl3、h21、h22以及 h23 輸入 500 μ m。但是，實際的第一光掩模53和第二光掩模M并不是平面。即，大多數(shù)情況下是具有彎曲或起伏的曲面。這是因為與以往相比，第一光掩模53和第二光掩模M是由大面積的玻璃基板制造而成。S卩，即使將理想的曝光間隙的值輸入到曝光裝置，也會存在實際的曝光間歇成為不同的值的情況。因此，重要的是求出成為理想的曝光間隙的、曝光間隙的設(shè)定值。此外，重要的是在分割曝光的情況下，進行第一光掩模53和第二光掩模M的位置校正和傾斜校正，以使在連接區(qū)域52c內(nèi)不會產(chǎn)生圖案的不均。尤其重要的是將連接區(qū)域 52c中的曝光間隙設(shè)置得相等。即，在連接區(qū)域52c中的曝光間隙不相等的情況下，存在在連接區(qū)域52c的兩側(cè)形成不同寬度的圖案的情況。因此，在連接區(qū)域52c中，圖案無法圓滑地連接。因此，連接區(qū)域52c中的曝光間隙調(diào)整要求高精度。3-2-3.實施例在曝光裝置中設(shè)置第一光掩模53和第二光掩模M。第一光掩模53和第二光掩模M被吸附于曝光裝置內(nèi)的光掩模折疊器(photomask folder) 0吸附面設(shè)置在不會受到曝光區(qū)域的干擾的區(qū)域上。在各個吸附部位，設(shè)置了可相對第一光掩模53和第二光掩模M 沿三維方向移動自如的機構(gòu)。因此，在有意使第一光掩模53和第二光掩模M產(chǎn)生了彎曲的狀態(tài)下，能夠分別獨立地移動和固定第一光掩模53和第二光掩模M。在本實施方式中，優(yōu)選相對配置在曝光裝置內(nèi)的基板51，將第一光掩模53和第二光掩模M固定成整體成為凸形狀或凹形狀。由此，在交換光掩模時，也能夠使用后述的校準方法。在通過上述工序進行了位置校正之后，進行傾斜校正。本實施例的特征在于曝光間隙的計算方法。首先，將第一光掩模53近似為由多個多邊形構(gòu)成。接著，假設(shè)在多個多邊形上存在P11、P12以及P13。此外，計算hll、hl2以及hl3，以使連接區(qū)域52c的曝光間隙成為設(shè)定值。計算出的值被輸入到曝光裝置中。因此，能夠?qū)⑴c連接區(qū)域52c的曝光間隙的設(shè)定值之間的偏差確保為最小限度，并且在連接區(qū)域52c的相反側(cè)的區(qū)域中也能夠使與曝光間隙之間的偏差停留在最小限度。關(guān)于第二光掩模M也是相同的。4.計算例示出具體的計算例。首先，詳細說明圖8。圖8是示意性地表示了基板51和第一光掩模53的關(guān)系的圖。在圖8中，將配置了基板51的面假設(shè)為基板面。相對基板面取曝光間隙的設(shè)定值的面為曝光間隙面。即，圖8中的長方體的上面為曝光間隙面。此外，第一光掩模53被近似為兩個多邊形的三角形。在圖8的1-7-2正交坐標系中，圖6所示的機1被置換為六仏14742)。以下，同樣地，W12被置換為B (Bx, By、Bz)。W13被置換為C (Cx, Cy、Cz)。W14被置換為D (Dx, Dy、 Dz)。Pll 被置換為 P(Px、Py、Pz)。AD 的中點為 E(Ex、Ey、Ez)。BC 的中點為 F(Fx、Fy、Fz)。與第二光掩模M的連接區(qū)域52c是線段BC側(cè)。在曝光間隙面中的ζ坐標為fe。即，( 是曝光間隙設(shè)定值。此外，P12被置換為Q (Qx,Qy,Qz)。P13被置換為R(Rx,Ry,Rz)。計算出的數(shù)值為I^、Qz以及Rz。如圖9所示，基板面中心成為原點0(0、0、0)。4-1.第一旋轉(zhuǎn)校正值的計算首先，求出完成了位置校正時的A、B、C及D的坐標。接著，計算第一旋轉(zhuǎn)校正值 ΔΖ2。首先，計算出Fz成為( 時的校正值Δ Zl。即，Δ Zl是第一光掩模53沿著Z軸平行移動時的校正值。由于F是BC的中點，所以1 = (Bz+Cz)/2。因此，Δ Zl = ( -(Bz+Cz)/2。接著，計算出Bz和Cz成為( 時的第一旋轉(zhuǎn)校正值ΔΖ2。S卩，Δ Z2是第一光掩模 53以經(jīng)過F和E的直線為中心軸旋轉(zhuǎn)時的校正值。在Bz和Cz成為(iz時，Bz+Δ Zl+Δ Z2 =Gz 和 Cz+Δ Zl-Δ Z2 = Gz 成立。因此，Δ Z2 = (Cz-Bz)/4-2.第二旋轉(zhuǎn)校正值的計算假設(shè)進行了基于第一旋轉(zhuǎn)校正值ΔΖ2的校正。此時，A的ζ坐標^，為Az’ = Az+ ΔΖ1+ΔΖ2 = Az+Gz-Bz。D 的 ζ 坐標 Dz，為 Dz，= Dz+Δ Zl-Δ Ζ2 = Dz+Gz-Cz。接著，接著，計算出fe成為( 時的第二旋轉(zhuǎn)校正值m S卩，ΔΜ是第一光掩模 53以經(jīng)過B和C的直線為中心軸旋轉(zhuǎn)時的校正值。在fe成為(iz時，Ez+Δ Zl+Δ D = Gz 成立。由于 fe= (Az+Dz)/2，所以(-Az+Bz+Cz-Dz)/2。假設(shè)進行了基于第二旋轉(zhuǎn)校正值的校正。此時，A的ζ坐標為 Az" = Αζ，+ΔΖ3 = (iz+(Az-Bz+Cz-Dz)/2。D 的 ζ 坐標 Dz"為 Dz” = Dz，+ΔΖ3 = Gz+ (-Az+Bz-Cz+Dz) /2。此外，此時的 Bz 和 Cz 依然是 Gz。S卩，在本實施例中，使作為第一邊的BC的中點F和基板51的距離對準曝光間隙 fe。接著，以連接F和作為第二邊的AD的中點E的線為軸，使第一光掩模53旋轉(zhuǎn)，從而使 BC各自與基板51的距離對準曝光間隙(iz。接著，以BC為軸使第一光掩模53旋轉(zhuǎn)，從而使 E和基板51的距離對準曝光間隙fe。通過以上的動作，求出假設(shè)將第一光掩模53的對應(yīng)于連接區(qū)域52c的區(qū)域?qū)势毓忾g隙設(shè)定值、且與連接區(qū)域52c相反側(cè)的區(qū)域也盡可能地接近了曝光間隙設(shè)定值時的A、 B、C以及D的坐標。另外，嚴格的說，在使第一光掩模53旋轉(zhuǎn)時，A、B、C以及D的x、y坐標也移動。但是，與光掩模的x、y軸方向的大小相比，ζ方向的移動量小兩位數(shù)程度，所以能夠忽略x、y方向上的移動量。4_3·輸入值的計算接著，計算I^、QZ及Rz。在進行了位置校正的時刻已決定好I3X、Py、Qx、Qy、Rx及 Ry。在本實施例中，P、Q及R的全部構(gòu)成為不位于三角形B⑶或三角形ABD上。即，P、Q及 R中的任一個位于三角形B⑶內(nèi)。且P、Q及R中的任一個位于三角形ABD內(nèi)。作為一例， 如圖8和圖9所示，P和R位于三角形ABD內(nèi)。Q位于三角形B⑶內(nèi)。[4-3-1. 的計算在將連接A和D的矢量設(shè)為S、將連接A和B的矢量設(shè)為T時，S = (Dx-Ax、Dy-Ay、 Dz-Az)、T = (Bx-Ax、By-Ay、Bz_Az)。若求出垂直于矢量S和矢量T的矢量U，則U = {(Dy-Ay) (Bz-Az) - (By-Ay)
9(Dz-Az)、(Dz-Az) (Bx-Ax) - (Bz-Az)(Dx-Ax)、(Dx-Ax)(By-Ay) - (Bx-Ax)(Dy-Ay)}。因此，包括三角形ABD的、垂直于矢量U的平面，使用常數(shù)k而可以寫作 {(Dy-Ay) (Bz-Az)-(By-Ay) (Dz-Az)} X+{(Dz-Az) (Bx-Ax)-(Bz-Az) (Dx-Ax)} Y+{(Dx-Ax) (By-Ay)-(Bx-Ax) (Dy-Ay) }Z+k = 0。由于三角形ABD通過D，所以若求出常數(shù)k，則成為k= {(Dy-Ay) (Bz-Az)-(By-Ay) (Dz-Az)}Dx+{(Dz-Az)(Bx-Ax)-(Bz-Az) (Dx-Ax)}Dy+{(Dx-Ax) (By-Ay) - (Bx-Ax)(Dy-Ay)} Dz，獲得三角形ABD形成的平面。由于P是三角形ABD上的點，所以使用上述式和已決定的和Py，可以計算出內(nèi)。 關(guān)于R也是相同的。同樣地，關(guān)于三角形BCD也使用常數(shù)h而刻寫作{(By-Cy) (Dz-Cz) - (Dy-Cy) (Bz-Cz)}X+{(Bz-Cz)(Dx-Cx)-(Dz-Cz)(Bx-Cx)}Y+{(Bx-Cx) (Dy-Cy) - (Dx-Cx) (By-Cy)}Z+h=0。這里，h= {(By-Cy) (Dz-Cz) - (Dy-Cy) (Bz-Cz)} Dx+ {(Bz-Cz) (Dx-Cx) - (Dz-Cz) (Bx-Cx)}Dy+{(Bx-Cx)(Dy-Cy) - (Dx-Cx)(By-Cy)}Dz = 0。并且，由于Q是三角形B⑶上的點，所以使用上述式和已決定的Qx和Qy，可以計算出Qz。通過以上的計算，能夠根據(jù)A、B、C及D的坐標獲得P、Q及R。另外，A、B、C及D的坐標使用在上述光掩模的傾斜校正中計算出的坐標。換言之，求出了用于向?qū)⑴c連接區(qū)域 52c的曝光間隙的設(shè)定值之間的偏差確保為最小限度且在連接區(qū)域52c的相反側(cè)的區(qū)域中也能夠使與曝光間隙的偏差停留在最小限度時的、第一光掩模53中的A、B、C及D移動的坐標的Pz、Qz及Rz。通過將計算出的Pz、Qz及Rz輸入到曝光裝置，從而實施傾斜校正。關(guān)于第二光掩模M也實施同樣的校正。在本實施例中，近似成第一光掩模53和第二光掩模M由兩個三角形構(gòu)成，從而計算出了校正值。但是，有時，實際的第一光掩模53和第二光掩模M不一定由兩個三角形構(gòu)成。因此，通過測定傾斜校正之后的曝光間隙，從而求出與設(shè)定值的差分。通過反映差分之后再次計算校正值，從而能夠更進一步接近曝光間隙的設(shè)定值。另外，在本實施方式的曝光裝置中，不具有分別對Wll WM設(shè)定曝光間隙的機構(gòu)。這是為了能夠使用相同的曝光裝置來制造畫面尺寸不同的各種PDP。S卩，并不是通過光掩模的四角，而是通過對應(yīng)于各種機型的公共區(qū)域的三點來進行光掩模的傾斜校正。由此， 降低了制造工序中的機型切換時間損耗。[5.總結(jié)本實施方式中的FPD的制造方法使用隔著曝光間隙( 而配置的多個光掩模，對作為在基板51上形成的感光性膜的感光性材料層52進行分割曝光。多個光掩模至少包括第一光掩模53和第二光掩模M。第一光掩模53為矩形，且包括第一邊和與第一邊對置的第二邊。第二光掩模M為矩形，且包括第三邊和與第三邊對置的第四邊。首先，在作為被分割曝光的邊界部、即連接區(qū)域52c中，使第一邊的中點與基板51 之間的距離對準曝光間隙fe。接著，以連接第一邊的中點和第二邊的中點的線為軸使第一光掩模53旋轉(zhuǎn)，從而使第一邊的兩端的每一個與基板51之間的距離對準曝光間隙fe。接著，以第一邊為軸使第一光掩模53旋轉(zhuǎn)，從而使第二邊的中點與基板51之間的距離對準曝
10光間隙fe。接著，在連接區(qū)域52c中，使第三邊的中點與基板51之間的距離對準曝光間隙(iz。 接著，以連接第三邊的中點和第四邊的中點的線為軸使第二光掩模M旋轉(zhuǎn)，從而使第三邊的兩端的每一個與基板51之間的距離對準曝光間隙(iz。接著，以第三邊為軸使第二光掩模 54旋轉(zhuǎn)，從而使第四邊的中點與基板51之間的距離對準曝光間隙fe。通過上述方法，能夠?qū)⑴c連接區(qū)域52c的曝光間隙( 之間的偏差確保為最小限度、且在連接區(qū)域52c的相反側(cè)的區(qū)域中也能夠使與曝光間隙( 的偏差停留在最小限度。另外，在本實施方式中，近似成第一光掩模53和第二光掩模M由兩個三角形構(gòu)成。但是，本發(fā)明并不限于此。除了三角形之外，還可以適當?shù)亟瞥捎善渌亩噙呅螛?gòu)成。 此外，也可以近似成第一光掩模53和第二光掩模M由三個以上的三角形構(gòu)成。此外，在本實施方式中，示出了曝光的區(qū)域被分割為兩個的分割曝光。但是，本發(fā)明并不限于此。在曝光的區(qū)域被分割為三個以上的分割曝光中，也可以應(yīng)用同樣的方法。(產(chǎn)業(yè)上的可利用性)如上所述，在此公開的技術(shù)廣泛地有用于通過平版印刷技術(shù)進行圖案形成的FPD 的制造中。符號說明
1 PDP
2前面板
3前面玻璃基板
4掃描電極
5維持電極
6顯示電極
7黑條(遮光層)
8電介質(zhì)層
9保護層
10背面板
11背面玻璃基板
12數(shù)據(jù)電極
13襯底電介質(zhì)層
14隔壁
15熒光體層
51基板
52感光性材料層
5 第一曝光區(qū)域
5 第二曝光區(qū)域
52c連接區(qū)域
53第一光掩模
M第二光掩模
55開口部
81第一電介質(zhì)層82第二電介質(zhì)層
權(quán)利要求
1.一種校準方法，該校準方法將基板與光掩模之間的距離設(shè)定為規(guī)定的曝光間隙，其中，所述光掩模為矩形，且包括第一邊和與所述第一邊對置的第二邊， 使所述第一邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙， 以連接所述第一邊的中點和所述第二邊的中點的線為軸使所述光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第一邊的兩端的每一個與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，以所述第一邊為軸使所述光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第二邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準方法，其中，進一步將所述光掩模近似為至少由兩個多邊形構(gòu)成，通過控制第一多邊形內(nèi)的至少一點和第二多邊形內(nèi)的至少一點的位置，從而使所述第一邊的中點、所述第一邊的兩端以及所述第二邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校準方法，其中，進一步將所述光掩模相對所述基板固定成凸形狀或凹形狀， 將所述光掩模近似為至少由兩個多邊形構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3的任一項所述的校準方法，其中， 將所述光掩模近似為由兩個三角形構(gòu)成。
5.一種平板顯示器的制造方法，所述平板顯示器使用隔著曝光間隙而配置的多個光掩模，對形成在基板上的感光性膜進行分割曝光，其中，所述多個光掩模至少包括第一光掩模和第二光掩模， 所述第一光掩模為矩形，且包括第一邊和與所述第一邊對置的第二邊， 所述第二光掩模為矩形，且包括第三邊和與所述第三邊對置的第四邊， 在所述分割曝光的邊界部，使所述第一邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，以連接所述第一邊的中點和所述第二邊的中點的線為軸使所述第一光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第一邊的兩端的每一個與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，以所述第一邊為軸使所述第一光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第二邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，在所述分割曝光的邊界部，使所述第三邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，以連接所述第三邊的中點和所述第四邊的中點的線為軸使所述第二光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第三邊的兩端的每一個與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙，以所述第三邊為軸使所述第二光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使所述第四邊的中點與所述基板之間的距離對準所述曝光間隙。
全文摘要
本發(fā)明提供一種將基板與光掩模之間的距離設(shè)定為規(guī)定的曝光間隙的校準方法。光掩模為矩形，且包括第一邊和與第一邊對置的第二邊。使第一邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。以連接第一邊的中點和第二邊的中點的線為軸使光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第一邊的兩端的每一個與基板之間的距離對準所述曝光間隙。以第一邊為軸使光掩模旋轉(zhuǎn)，從而使第二邊的中點與基板之間的距離對準曝光間隙。
文檔編號H01J9/02GK102365591SQ20118000160
公開日2012年2月29日 申請日期2011年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月12日
發(fā)明者村社智宏, 浜田良太 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社