專利名稱：反射罩、照明裝置、檢測/測量裝置及檢測/測量方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種反射罩，尤其涉及一種提高光的利用率的反射罩，應用該反射罩的檢測裝置或測量裝置及檢測方法或測量方法。
背景技術：
測量及檢測技術廣泛應用于現(xiàn)代加工制造業(yè)，以確定元件、半成品或者成品是否符合要求。一種檢測系統(tǒng)包括圓頂燈、棱鏡及成像模塊。所述圓頂燈發(fā)出的光線照射到待測物體，光線從待測物體反射至棱鏡以便成像模塊拍攝成像。上述的檢測系統(tǒng)，雖然能實現(xiàn)非接觸式在線測量；但，需要較高功率的圓頂燈才能提供清晰成像所需要的亮度，光的利用
率不高。

發(fā)明內容
鑒于以上所述，有必要提供一種提高光的利用率的反射罩。此外，還有必要提供一種應用該反射罩的測量和/或檢測裝置。進一步地，還有必要提供一種利用上述測量裝置的測量方法。進一步地，還有必要提供一種利用上述檢測裝置的檢測方法。進一步地，還有必要提供一種利用上述反射罩的照明裝置。一種反射罩，包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合。其中，所述反射面的個數(shù)為二、三或者四個。其中，該反射罩還包括第一側面、第二側面及第三側面，第一側面與第二側面相互平行，第三側面分別與第一側面及第二側面垂直連接。一種測量和/或檢測裝置，用于測量和/或檢測待測物體，該裝置包括光源、反射罩及成像模塊，所述反射罩用于接收光源發(fā)出的光投射于待測量和/或檢測物體上以為成像模塊提供成像光線，所述反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，反射罩用于接收光源發(fā)出的光投射于待測量和/或檢測物體上形成光帶。其中，所述光源的安裝位置為 第i段橢圓長軸與待測量和/或檢測物體的待檢
( h Ix2 y
面的夾角為QpOTi= arcsm—，其中，該反射面所在橢圓方程為~j + ~J = Lhi為第
I 2/JAi Bi
i個光源距離待檢面的垂直距離，f1； f2，...，fi; ... fn為第i段橢圓弧所在的橢圓的焦距，Ai為第i段反射面所在橢圓的長軸長度，Bi為第i段反射面所在橢圓的短軸長度，A2=Ai2-ΒΛ AiI其中，所述裝置還進一步包括控制芯片，所述控制芯片與電源及成像模塊信號連接，所述控制芯片用于處理成像模塊所拍攝的圖像。
其中，所述光源為LED光源，每個LED光源至少有一顆LED燈珠。其中，所述反射罩至少兩個，所述反射罩間隔地安裝于該裝置上，所述光源的數(shù)量與反射罩數(shù)量相同。其中，所述裝置對稱安裝有所述反射罩及光源。其中，所述反射面的個數(shù)為二、三或者四個。一種應用上述測量裝置的測量方法，包括以下步驟將待測量物質放置于預定位置；光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體上并形成反射光； 所述反射光進入成像模塊成像。 一種應用上述檢測裝置的檢測方法，包括以下步驟將待測量物質放置于預定位置；光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體上并形成反射光；所述反射光進入成像模塊成像；將得圖像與基準圖像比較，判斷是否滿足要求或者所屬等級?！N照明裝置，該照明裝置包括光源及反射罩，所述反射罩的反射面為至少兩段橢圓柱面，所述橢圓柱面的焦距不相等，且在由平行于長軸與短軸構成的平面所在的截面上具有共同焦線，所述反射面將安裝于橢圓柱面焦線上的光源發(fā)出的光線集中于所述各共同焦線上以形成一光帶。一種檢測裝置，用于檢測待測物體，該裝置包括成像模塊及線光源、反射罩，所述反射罩成對設置，所述反射罩用于接收線光源發(fā)出的光并投射于待檢測物體上，從而為成像模塊提供成像光線，所述反射罩所述反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面的焦線上設有所述線光源，每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，反射罩用于接收光源發(fā)出的光投射于待檢測物體上形成光帶，每對反射罩形成的光帶重合。相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明的反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，所述反射罩將位于焦線發(fā)出的光線投射于待測物體上并形成光帶，提高了光的強度，增加了光的利用率。


圖I是本發(fā)明第一較佳實施例的反射罩的截面示意圖。圖2是本發(fā)明第二較佳實施例的反射罩的截面示意圖。圖3是本發(fā)明第三較佳實施例的反射罩的截面示意圖。圖4是本發(fā)明第四較佳實施例的反射罩的截面示意圖。圖5是本發(fā)明較佳實施例的測量裝置模塊示意圖。圖6是本發(fā)明較佳實施例的測量裝置結構示意圖。
具體實施例方式為詳細說明本發(fā)明的技術內容、構造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。本發(fā)明的反射罩應用于光學領域測量或者檢測領域，以下以其應用于測量領域為例加以說明。請參閱圖1，本發(fā)明第一較佳實施例的反射罩101包括第一反射面11、第二反射面13。所述第一反射面11及第二反射面13分別為橢圓柱面的一段。所述第一反射面11具有焦線All，所述第二反射面13具有焦線A12，且所述第一反射面11及第二反射面13的另一個焦線的位置重合(圖未示)。所述橢圓弧的長度可以分別為內周總長的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的長度。在平行于長軸面的切面上，所述第一反射面11及第二反射面13所在的橢圓具有一共同焦線(圖未標)，光線經所述第一反射面11與第二反射面13反射后，投射于所述共同焦線上。從焦線All發(fā)出的光線經第一反射面11反射后照投射待測物體上的a點(圖未示)。從焦線A12發(fā)出的光線經第二反射面13反射后投射到待測物體上的b點(圖未示)，所述a點與b點重合。請參閱圖2，本發(fā)明第二較佳實施例的反射罩103包括第一反射面11、第二反射面13以及第三反射面15。所述第一至第三反射面均為橢圓柱面。所述橢圓圓弧的長度分別 可以分別為橢圓總圓周長的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的長度。所述第一反射面11、第二反射面13及第三反射面15在平行于長軸面的切面的橢圓上具有共同的焦線，所述光線反射后投射于所述共同焦線上。從焦線A21發(fā)出的光線經第一反射面11反射后照射到待測物體上的點與從焦線A22發(fā)出的光線a22經第二反射面13反射后照射到待測物體上的點，及從焦線A23發(fā)出的光線a23經第一反射面11反射后照射到待測物體上的點相重合。請參閱圖3，類似地，本發(fā)明第三較佳實施例的反射罩105包括若干個反射面11、13···，η，每一反射面11、13···，η均為橢圓柱面的一段。從每一焦線上發(fā)出的光線經對應的反射面反射后，投射到待測物體上重合的位置。請參閱圖4，本發(fā)明第四較佳實施例的反射罩107與第一較佳實施例的反射罩101結構相似，惟，該反射罩107還包括第一側面12、第二側面14及第三側面16。所述第一側面12與第二側面14大致相互平行，所述第三側面16分別第一側面12及第二側面14大致相互垂直。本第四較佳實施例的第一至第三側面12、14及16的平面設置更便于安裝于定位。請參閱圖5及6，本發(fā)明較佳實施例的測量裝置100以應用第二較佳實施例的反射罩103為例加以說明。所述測量裝置100還包括光源30、成像模塊70及控制芯片90。所述反射罩103將光源30所發(fā)出的光聚集于待測物體200上。所述光源30的發(fā)光位置設置于反射罩103各焦線所在位置上。所述控制芯片90用于控制光源30的發(fā)光及成像模塊70的成像。在本發(fā)明的較佳實施例中，所述的光源30為LED光源30，所述LED光源30包括多顆LED形成線狀光源30。所述線狀光源30經反射罩103反射，在待測物體上投射形成一光帶。各光源30所投射的光帶疊加，從而提高光的亮度。所述光源30發(fā)出的光，經反射罩103投射于待測物體上，提高了光源30的利用率。本發(fā)明較佳實施例的光源30的位置按如下方式確定根據(jù)橢圓方程為
權利要求
1.一種反射罩，其特征在于該反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合。
2.根據(jù)權利要求I所述的反射罩，其特征在于所述反射面的個數(shù)為二、三或者四個。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的反射罩，其特征在于該反射罩還包括第一側面、第二側面及第三側面，第一側面與第二側面相互平行，第三側面分別與第一側面及第二側面垂直連接。
4.一種測量和/或檢測裝置，用于測量和/或檢測待測物體，該裝置包括光源、反射罩及成像模塊，所述反射罩用于接收光源發(fā)出的光并投射于待測量和/或檢測物體上，從而為成像模塊提供成像光線，其特征在于所述反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，反射罩用于接收光源發(fā)出的光投射于待測量和/或檢測物體上形成光帶。
5.根據(jù)權利要求4所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述光源的安裝位置 為第i段橢圓長軸與待測量和/或檢測物體的待檢面的夾角為
6.根據(jù)權利要求4所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述裝置還進一步包括控制芯片，所述控制芯片與電源及成像模塊信號連接，所述控制芯片用于處理成像模塊所拍攝的圖像。
7.根據(jù)權利要求4-6任意一項所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述光源為LED光源，每個LED光源為LED燈條。
8.根據(jù)權利要求7所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述反射罩至少兩個，所述反射罩間隔地安裝于該裝置上，每一反射罩上光源的數(shù)量與反射罩的反射面數(shù)量相同。
9.根據(jù)權利要求8所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述裝置對稱安裝有所述反射罩及光源。
10.根據(jù)權利要求8所述的測量和/或檢測裝置，其特征在于所述反射面的個數(shù)為二、三或者四個。
11.一種檢測裝置，用于檢測待測物體，該裝置包括成像模塊及線光源、反射罩，所述反射罩成對設置，所述反射罩用于接收線光源發(fā)出的光并投射于待檢測物體上，從而為成像模塊提供成像光線，其特征在于所述反射罩所述反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面的焦線上設有所述線光源，每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，反射罩用于接收光源發(fā)出的光投射于待檢測物體上形成光帶，每對反射罩形成的光帶重合。
12.—種應用權利要求4-10任意一項的測量裝置的測量方法，包括以下步驟 將待測量物質放置于預定位置；光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體上并形成反射光； 所述反射光進入成像模塊成像。
13.一種應用權利要求4-10任意一項的檢測裝置的檢測方法，包括以下步驟 將待測量物質放置于預定位置； 光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體上并形成反射光； 所述反射光進入成像模塊成像； 將得圖像與基準圖像比較，判斷是否滿足要求或者所屬等級。
14.一種照明裝置，該照明裝置包括光源及反射罩，其特征在于所述反射罩的反射面為至少兩段橢圓柱面，所述橢圓柱面的焦距不相等，且在由平行于長軸與短軸構成的平面所在的截面上具有共同焦線，所述反射面將安裝于橢圓柱面焦線上的光源發(fā)出的光線集中于所述各共同焦線上以形成光帶。
全文摘要
本發(fā)明公開一種反射罩、應用該反射罩的照明裝置、測量裝置、檢測裝置，及測量方法及檢測方法。所述反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合。所述相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明的反射罩包括至少二反射面，所述反射面為橢圓柱面的一段；每一反射面具有二焦線，所述反射面的其中一條焦線重合，所述反射罩將位于焦線發(fā)出的光線投射于待測物體上并形成一光帶，提高了光的強度，增加了光的利用率。
文檔編號F21V7/08GK102878529SQ20121040894
公開日2013年1月16日 申請日期2012年10月23日 優(yōu)先權日2012年9月29日
發(fā)明者吳身健, 李波, 張梁, 王秀秀, 樊思民, 溫曄 申請人:肇慶中導光電設備有限公司