場(chǎng)發(fā)射光源的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種場(chǎng)發(fā)射光源，其包括陽(yáng)極結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)及隔離體。隔離體包括頂面和底面，頂面與底面相對(duì)。陽(yáng)極結(jié)構(gòu)安裝于隔離體的頂面，陰極結(jié)構(gòu)安裝于隔離體的底面。陰極結(jié)構(gòu)包括陰極板、支撐部和發(fā)射體，支撐部固定于陰極板靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)表面的中間區(qū)域，發(fā)射體置于支撐部靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面。支撐部為環(huán)狀突出物，發(fā)射體的表面為環(huán)狀表面。本發(fā)明提供的場(chǎng)發(fā)射光源利用發(fā)射體的表面為環(huán)狀弧面，使得發(fā)射電流與發(fā)射體的面積成線性增大，增加了發(fā)射體的電子束發(fā)射的穩(wěn)定性，進(jìn)而場(chǎng)發(fā)射光源的發(fā)光穩(wěn)定。
【專利說(shuō)明】場(chǎng)發(fā)射光源
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種光源，尤其涉及一種場(chǎng)發(fā)射光源。
【背景技術(shù)】
[0002]目前場(chǎng)發(fā)射光源一般通過(guò)陰極結(jié)構(gòu)的發(fā)射層發(fā)射出電子束以轟擊陽(yáng)極結(jié)構(gòu)上的發(fā)光層，使其激發(fā)而發(fā)光。然而，現(xiàn)有的陰極結(jié)構(gòu)的發(fā)射層為面積較大的平面，從而發(fā)射層的電阻較大且發(fā)射電流不能隨發(fā)射層面積的增加而增加，致使發(fā)射層電子束的發(fā)射不穩(wěn)定，進(jìn)而場(chǎng)發(fā)射光源的發(fā)光不穩(wěn)定。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種場(chǎng)發(fā)射光源。
[0004]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種場(chǎng)發(fā)射光源，其包括陽(yáng)極結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)及隔離體。所述隔離體包括頂面和底面，所述頂面與所述底面相對(duì)。所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)安裝于所述隔離體的頂面，所述陰極結(jié)構(gòu)安裝于所述隔離體的底面。所述陰極結(jié)構(gòu)包括陰極板、支撐部和發(fā)射體，所述支撐部固定于所述陰極板靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)表面的中間區(qū)域，所述發(fā)射體置于所述支撐部靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面。所述支撐部為環(huán)狀突出物，所述發(fā)射體的表面為環(huán)狀表面。
[0005]其中，所述支撐部由不銹鋼制成。
[0006]其中，所述支撐部的縱截面為兩個(gè)半橢圓形或半圓形。
[0007]其中，所述發(fā)射體為透明的碳納米管薄膜。
[0008]其中，所述發(fā)射體的表面呈環(huán)狀圓形或環(huán)狀橢圓形。
[0009]其中，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)包括陽(yáng)極基板和發(fā)光層，所述發(fā)光層設(shè)置在所述陽(yáng)極基板靠近所述陰極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面上。
[0010]其中，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)包括陽(yáng)極基板、第一導(dǎo)電層及發(fā)光層，所述第一導(dǎo)電層設(shè)置在所述陽(yáng)極基板和所述發(fā)光層之間。
[0011]其中，所述陰極板包括陰極基板和第二導(dǎo)電層，所述第二導(dǎo)電層濺射在所述陰極基板靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面上。
[0012]其中，所述支撐部通過(guò)銀漿固定在所述第二導(dǎo)電層靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的中間區(qū)域。
[0013]其中，所述隔離體設(shè)置在所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)和所述陰極結(jié)構(gòu)之間，以隔離所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)和所述陰極結(jié)構(gòu)。
[0014]本發(fā)明提供的場(chǎng)發(fā)射光源利用發(fā)射體的表面為環(huán)狀弧面，使得發(fā)射電流與發(fā)射體的面積成線性增大，增加了發(fā)射體的電子束發(fā)射的穩(wěn)定性，進(jìn)而場(chǎng)發(fā)射光源的發(fā)光穩(wěn)定。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施方式中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0016]圖1是本發(fā)明實(shí)施方式提供的場(chǎng)發(fā)射光源的分解示意圖。
[0017]圖2是本發(fā)明實(shí)施方式提供的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0018]圖3是本發(fā)明實(shí)施方式提供的陰極結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0019]圖4是本發(fā)明實(shí)施方式提供的隔離體的示意圖。
[0020]圖5是圖1的組裝示意圖。
[0021]圖6是圖5的剖視圖。
[0022]圖7是圖6中VII部分的放大圖。
[0023]圖8是本發(fā)明實(shí)施方式提供的電子束的發(fā)射示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施方式中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。
[0025]請(qǐng)參考圖1，為本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種場(chǎng)發(fā)射光源100，其包括陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10、陰極結(jié)構(gòu)30及隔離體50。
[0026]請(qǐng)同時(shí)參考圖2，陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10包括陽(yáng)極基板12、第一導(dǎo)電層14及發(fā)光層16。
[0027]在本實(shí)施方式中，陽(yáng)極基板12為透明玻璃板。陽(yáng)極基板12為厚度大致為3mm，直徑大致為110_的圓形板。在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，將一塊厚度為3_的透明玻璃板切割為直徑為110_的圓形板，再進(jìn)行超聲清洗和烘干，就制造出陽(yáng)極基板12。
[0028]第一導(dǎo)電層14為厚度大致為0.1mm的金屬層，如銅、鎳、金、鋁、銀等。在本實(shí)施方式中，第一導(dǎo)電層14為金屬鋁。第一導(dǎo)電層14通過(guò)磁控濺射方法濺射在陽(yáng)極基板12靠近陰極結(jié)構(gòu)30 —側(cè)的表面上。
[0029]發(fā)光層16設(shè)置在第一導(dǎo)電層14靠近陰極結(jié)構(gòu)30 —側(cè)的表面上，即第一導(dǎo)電層14設(shè)置在陽(yáng)極基板12和發(fā)光層16之間。在本實(shí)施方式中，發(fā)光層16為熒光粉層，通過(guò)絲網(wǎng)印刷的方法涂覆在第一導(dǎo)電層14靠近陰極結(jié)構(gòu)30 —側(cè)的表面上。
[0030]在本實(shí)施方式中，第一導(dǎo)電層14的直徑大致等于陽(yáng)極基板12的直徑,但稍大于發(fā)光層16的直徑。
[0031]在其它實(shí)施方式中，陽(yáng)極基板12也可為導(dǎo)電的金屬板。如陽(yáng)極基板12為金屬板則無(wú)第一導(dǎo)電層14，故發(fā)光層16直接涂覆陽(yáng)極基板12的靠近陰極結(jié)構(gòu)30 —側(cè)的表面上。
[0032]請(qǐng)同時(shí)參考圖3，陰極結(jié)構(gòu)30包括陰極基板32、第二導(dǎo)電層34、支撐部36 (請(qǐng)參考圖7)及發(fā)射體38。
[0033]在本實(shí)施方式中，陰極基板32為透明玻璃板。陰極基板32為厚度大致為3mm，直徑大致為110_的圓形板。在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，將一塊厚度為3_的透明玻璃板切割為直徑為110_的圓形板，再進(jìn)行超聲清洗和烘干，就制造出陰極基板32。
[0034]第二導(dǎo)電層34為厚度大致為0.1mm的金屬層，如銅、鎳、金、鋁、銀等。在本實(shí)施方式中，第二導(dǎo)電層34為金屬鋁。第二導(dǎo)電層34通過(guò)磁控濺射方法濺射在陰極基板32靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10 —側(cè)的表面上。
[0035]在本實(shí)施方式中，濺射第二導(dǎo)電層34后的陰極基板32被稱為陰極板33，即陰極板33包括陰極基板32和第二導(dǎo)電層34。
[0036]在其它實(shí)施方式中，陰極基板32也可為導(dǎo)電的金屬板，此時(shí)，陰極板33只包括陰極基板32。
[0037]如陰極板33包括第二導(dǎo)電層34，則支撐部36設(shè)置在第二導(dǎo)電層34靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10 一側(cè)表面的中間區(qū)域，即第二導(dǎo)電層34設(shè)置在陰極基板32和支撐部36之間。
[0038]如陰極板33不包括第二導(dǎo)電層34，則支撐部36設(shè)置在陰極基板32靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10 —側(cè)表面的中間區(qū)域，即本發(fā)明的支撐部36設(shè)置在陰極板33靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10 —側(cè)表面的中間區(qū)域。
[0039]支撐部36為由金屬做成的環(huán)狀突出物，并通過(guò)銀漿固定在陰極板33靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10—側(cè)表面的中間區(qū)域，即支撐部36通過(guò)銀漿固定在第二導(dǎo)電層34靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10一側(cè)表面的中間區(qū)域或陰極基板32靠近陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10 —側(cè)表面的中間區(qū)域。在本實(shí)施方式中，支撐部36為不銹鋼的游泳圈狀的突出物，其縱截面為兩個(gè)半橢圓形，每個(gè)橢圓形的短半軸為3mm,長(zhǎng)半軸為5mm。
[0040]發(fā)射體38置于支撐部36靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10—側(cè)的表面。在本實(shí)施方式中，發(fā)射體38覆蓋在支撐部36的環(huán)狀表面，如發(fā)射體38直接生長(zhǎng)在支撐部36的半橢球形表面，或發(fā)射體38通過(guò)絲網(wǎng)印刷的方法覆蓋在支撐部36的半橢球形表面。
[0041]在其它實(shí)施方式中，發(fā)射體38通過(guò)熱化學(xué)氣相沉積生長(zhǎng)在支撐部36的半橢球形表面。
[0042]發(fā)射體38的表面形狀與支撐部36的表面形狀一致，即發(fā)射體38的表面亦為環(huán)狀橢圓形表面。
[0043]在本實(shí)施方式中，發(fā)射體38為透明的碳納米管薄膜。
[0044]在生產(chǎn)過(guò)程中，不銹鋼的游泳圈狀的突出物做成后，還要對(duì)其表面進(jìn)行拋光、超聲清洗及烘干處理，然后再在其環(huán)狀表面覆蓋所述發(fā)射體38。
[0045]在其它實(shí)施方式中，支撐部36的縱截面為兩個(gè)半圓形，發(fā)射體38的表面為環(huán)狀圓形表面。
[0046]請(qǐng)同時(shí)參考圖4，隔離體50設(shè)置在陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10和陰極結(jié)構(gòu)30之間，使陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10和陰極結(jié)構(gòu)30之間形成一個(gè)空間，以隔離陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10和陰極結(jié)構(gòu)30。
[0047]在本實(shí)施方式中，隔離體50為厚度為5mm、外直徑為100mm、內(nèi)徑為95mm的空心柱體。隔離體50由電介質(zhì)材料制成，如氧化鋁陶瓷、氮化硼、玻璃等，特別地選用94%A1203陶瓷。
[0048]隔離體50包括頂面52和底面54，頂面52和底面54均為圓環(huán)面且相對(duì)設(shè)置。
[0049]請(qǐng)同時(shí)參考圖5和圖6，組裝時(shí)，陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10安裝于隔離體50的頂面52，陰極結(jié)構(gòu)30安裝于隔離體50的底面54，然后進(jìn)行封接和抽氣處理，這樣，陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10、陰極結(jié)構(gòu)30及隔離體50便組裝為場(chǎng)發(fā)射光源100。在此組裝位置，隔離體50的內(nèi)部真空度為I X KT5Pa。
[0050]請(qǐng)同時(shí)參考圖8，因發(fā)射體38的表面為環(huán)狀圓形或橢圓形，即發(fā)射體38的表面為環(huán)狀弧形表面，從而發(fā)射體38的表面無(wú)邊緣菱角，進(jìn)而整個(gè)發(fā)射體38的表面的電場(chǎng)比較均勻，故電子束的發(fā)射也比較均勻，從而電子束均勻地轟擊陽(yáng)極結(jié)構(gòu)10的發(fā)光層16，進(jìn)而發(fā)光層16的出光均勻。[0051]因本發(fā)明發(fā)射體38的表面為環(huán)狀弧面，從而發(fā)射體38的面積較小，使得發(fā)射電流與發(fā)射體38的面積成線性增大，增加了發(fā)射體38的電子束發(fā)射的穩(wěn)定性，進(jìn)而場(chǎng)發(fā)射光源100的發(fā)光穩(wěn)定。
[0052]同時(shí)，因發(fā)射體38的面積較小，從而發(fā)射體38的電阻較小，故發(fā)射體38的發(fā)熱量小，有利于保護(hù)發(fā)射體38。
[0053]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種場(chǎng)發(fā)射光源，包括陽(yáng)極結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)及隔離體，所述隔離體包括頂面和底面，所述頂面與所述底面相對(duì)，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)安裝于所述隔離體的頂面，所述陰極結(jié)構(gòu)安裝于所述隔離體的底面，其特征在于，所述陰極結(jié)構(gòu)包括陰極板、支撐部和發(fā)射體，所述支撐部固定于所述陰極板靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)表面的中間區(qū)域，所述發(fā)射體置于所述支撐部靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面，所述支撐部為環(huán)狀突出物，所述發(fā)射體的表面為環(huán)狀表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述支撐部由不銹鋼制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述支撐部的縱截面為兩個(gè)半橢圓形或半圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述發(fā)射體為透明的碳納米管薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述發(fā)射體的表面呈環(huán)狀圓形或環(huán)狀橢圓形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)包括陽(yáng)極基板和發(fā)光層，所述發(fā)光層設(shè)置在所述陽(yáng)極基板靠近所述陰極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)包括陽(yáng)極基板、第一導(dǎo)電層及發(fā)光層，所述第一導(dǎo)電層設(shè)置在所述陽(yáng)極基板和所述發(fā)光層之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述陰極板包括陰極基板和第二導(dǎo)電層，所述第二導(dǎo)電層濺射在所述陰極基板靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的表面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述支撐部通過(guò)銀漿固定在所述第二導(dǎo)電層靠近所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)一側(cè)的中間區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的場(chǎng)發(fā)射光源，其特征在于，所述隔離體設(shè)置在所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)和所述陰極結(jié)構(gòu)之間，以隔離所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)和所述陰極結(jié)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】H01J63/06GK103824751SQ201210464498
【公開(kāi)日】2014年5月28日 申請(qǐng)日期:2012年11月16日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月16日
【發(fā)明者】周明杰, 吳康鋒, 陳貴堂, 王國(guó)彪 申請(qǐng)人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司