X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及調(diào)制生成的X射線射束。為了提供增大的(即，更快的)X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制，提供一種用于X射線管中的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極來(lái)調(diào)制生成的X射線射束的陽(yáng)極盤(28)，所述陽(yáng)極盤包括圓周目標(biāo)區(qū)域(34)，所述圓周目標(biāo)區(qū)域(34)具有目標(biāo)表面區(qū)域、焦軌道中心線(38)以及射束捕集器表面區(qū)域。提供目標(biāo)表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線；并且，提供射束捕集器表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的X射線。目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分(80、82)，并且射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分(88)。所述目標(biāo)部分和所述射束捕集器部分被布置為沿著焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于焦軌道中心線上。而且，在焦軌道中心線兩側(cè)的結(jié)構(gòu)被布置使得，當(dāng)正由同質(zhì)電子射束撞擊時(shí)，在兩側(cè)提供相同的輻射強(qiáng)度。額外地提供，目標(biāo)表面區(qū)域的至少一部分在焦斑軌道中心線的方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分。
【專利說(shuō)明】X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種X射線管中的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極來(lái)調(diào)制生成的X射線射束的陽(yáng)極盤、用于生成X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的X射線管、X射線成像系統(tǒng)和用于調(diào)制X射線射束的方法，以及計(jì)算機(jī)程序元件和計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002]例如，X射線成像用于CT成像。例如，通過(guò)電子射束的調(diào)制(諸如利用偏轉(zhuǎn)器件)或者還通過(guò)提供用于生成電子射束的變化的電能來(lái)提供輻射X射線的調(diào)制。US2010/0020938A1描述了一種具有標(biāo)記的陽(yáng)極盤，所述標(biāo)記能夠調(diào)制由探測(cè)單元探測(cè)到的雜散電子的數(shù)量。標(biāo)記的模式被提供在焦斑的期望軌道旁邊，使得信號(hào)中的對(duì)應(yīng)模式僅僅發(fā)生在焦斑偏離期望軌道時(shí)。由此，能夠探測(cè)焦斑的位置是否離開(kāi)了最優(yōu)路徑。然而，例如，當(dāng)在CT成像中應(yīng)用X射線輻射時(shí)，出于信號(hào)整合探測(cè)器的直接校準(zhǔn)目的，其將有助于調(diào)制由源放射的X射線通量，由此，在ca.200微秒內(nèi)，每個(gè)X射線架具有至少一個(gè)或多個(gè)調(diào)制周期。US2010/0172475A1描述了用于通過(guò)電子射束偏轉(zhuǎn)進(jìn)入射束捕集器的劑量調(diào)制的器件。然而，用于X射線射束的調(diào)制的上述范例不提供足夠快的周期性調(diào)制，同時(shí)完全維持系統(tǒng)的成像能力(例如，焦斑位置)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]由此，可以存在提供增大的(即，更快的)X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的需要。
[0004]通過(guò)獨(dú)立權(quán)利要求的主題來(lái)解決本發(fā)明的目的,其中，其他實(shí)施例被并入從屬權(quán)利要求。
[0005]應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明的以下描述的方面也應(yīng)用于陽(yáng)極盤、X射線管、X射線成像系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)程序元件和計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種用于X射線管中的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極的陽(yáng)極盤，所述陽(yáng)極盤包括用于調(diào)制生成的X射線射束的圓周目標(biāo)區(qū)域，所述目標(biāo)區(qū)域包括:目標(biāo)表面區(qū)域、焦軌道中心線和射束捕集器表面區(qū)域。提供目標(biāo)表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)能夠生成用于X射線成像的X射線。提供射束捕集器表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)能夠無(wú)法生成用于X射線成像的X射線。目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分，并且射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分。目標(biāo)部分和射束捕集器部分被布置為沿著焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于焦軌道中心線上。在焦軌道中心線兩側(cè)的結(jié)構(gòu)被布置使得，當(dāng)正由同質(zhì)電子射束擊中時(shí)，在兩側(cè)提供相同的輻射強(qiáng)度。至少一部分目標(biāo)表面區(qū)域在焦軌道中心線方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分。
[0007]例如，術(shù)語(yǔ)“圓周目標(biāo)區(qū)域”涉及被布置在陽(yáng)極盤的外邊緣附近的線性焦軌道。除了被提供作為圓形目標(biāo)區(qū)域之外，也可能提供以沿陽(yáng)極的邊緣具有許多彎曲的曲線形式的目標(biāo)區(qū)域。由此，術(shù)語(yǔ)“線性目標(biāo)區(qū)域”能夠用于在直圓形線中的目標(biāo)區(qū)域，然而，也包括小偏差，例如，通過(guò)具有許多波形的小曲線模式(以蛇形形式)。[0008]在旋轉(zhuǎn)期間，目標(biāo)區(qū)域(諸如，線性目標(biāo)區(qū)域)包括變化的有效目標(biāo)。焦斑的中心保持在空間上不變，或者例如在蛇形焦軌道的情況下位于蛇形焦軌道的中心線上。
[0009]例如，管表面區(qū)域和射束捕集器表面區(qū)域被布置為沿著焦軌道中心線關(guān)于焦軌道中心線對(duì)稱。術(shù)語(yǔ)“對(duì)稱”是指沿著徑向線的對(duì)稱。由此，在圓形線的情況下，術(shù)語(yǔ)“對(duì)稱”是指垂直于圓的相應(yīng)部分的線，即，徑向線。然而，在曲線的圓周目標(biāo)區(qū)域(例如，其包括許多波形結(jié)構(gòu))的情況下，術(shù)語(yǔ)“對(duì)稱”是指垂直于目標(biāo)區(qū)域的相應(yīng)部分的線，或換言之，是指垂直于曲線的相應(yīng)部分的切線的線。
[0010]目標(biāo)表面區(qū)域和射束捕集器表面區(qū)域可以被提供作為具有被徑向布置的邊緣的結(jié)構(gòu)。可以同中心地提供恒定輻射強(qiáng)度的目標(biāo)表面區(qū)域的部分。也可以由在焦軌道中心線兩側(cè)的切向邊界線來(lái)定義提供恒定輻射強(qiáng)度的目標(biāo)表面區(qū)域的部分，所述邊界線被提供具有到焦軌道中心線的相同距離。
[0011]目標(biāo)表面可以被提供為目標(biāo)臺(tái)地區(qū)域，由射束捕集器部分包圍。
[0012]根據(jù)范例性實(shí)施例，提供連續(xù)的目標(biāo)中心部分。射束捕集器表面區(qū)域包括第一多個(gè)凹槽和第二多個(gè)凹槽，所述第一多個(gè)凹槽和第二多個(gè)凹槽被布置在目標(biāo)中心部分的對(duì)偵U。由此，目標(biāo)表面區(qū)域包括連續(xù)的目標(biāo)中心部分和中斷的側(cè)部分。
[0013]根據(jù)又一范例性實(shí)施例，沿著焦軌道中心線，以交替的方式提供目標(biāo)部分和射束捕集器部分。
[0014]目標(biāo)部分和射束捕集器部分可以各自延伸穿過(guò)完整的圓周目標(biāo)區(qū)域。
[0015]根據(jù)又一范例性實(shí)施例，目標(biāo)部分的至少一部分包括第一數(shù)量的第一子部分和第二數(shù)量的第二子部分。第一子部分被提供具有第一徑向長(zhǎng)度，并且第二子部分被提供具有第二徑向長(zhǎng)度。第一徑向長(zhǎng)度大于第二徑向長(zhǎng)度。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種用于生成X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的X射線管，其包括陰極、陽(yáng)極盤、和具有X射線窗口的管套。陽(yáng)極盤被提供作為根據(jù)上述范例中的一個(gè)所述的陽(yáng)極盤。陰極被配置為朝向焦軌道發(fā)射電子，作為具有焦斑的電子射束。提供射束捕集器，使得在當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)的位置上，射束捕集器的底部表面不具有到X射線窗口的視線。
[0017]根據(jù)范例性實(shí)施例，提供聚焦器件，以形成焦斑的尺寸和形式。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種X射線成像系統(tǒng)，其包括X射線源和X射線探測(cè)器。X射線源被提供作為根據(jù)上述范例中的一個(gè)所述的X射線源。
[0019]根據(jù)范例性實(shí)施例，陽(yáng)極旋轉(zhuǎn)的階段適于與X射線探測(cè)器的整合周期同步。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種用于調(diào)制X射線射束的方法，其包括以下步驟:
[0021]a)朝向包括圓周目標(biāo)區(qū)域的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極輻射電子射束，所述圓周目標(biāo)區(qū)域具有目標(biāo)表面區(qū)域、焦軌道中心線以及射束捕集器表面區(qū)域。提供目標(biāo)表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線。提供射束捕集器表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的X射線。目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分，并且射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分。目標(biāo)部分和射束捕集器部分被布置為沿著焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于焦軌道中心線上。目標(biāo)表面區(qū)域的至少一部分在焦軌道中心線方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分；并且[0022]b)旋轉(zhuǎn)所述陽(yáng)極盤，并且生成經(jīng)調(diào)制的X射線輻射。
[0023]根據(jù)范例性實(shí)施例，在步驟b)中提供電子射束，所述電子射束具有至少兩個(gè)不同的射束形狀，其焦斑具有變化的徑向長(zhǎng)度。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的方面，陽(yáng)極盤配備在焦軌道(即，圓周目標(biāo)區(qū)域)上的結(jié)構(gòu)，通過(guò)提供與用于生成X射線輻射的部分進(jìn)行組合輻射無(wú)用X射線的部分，所述結(jié)構(gòu)影響調(diào)制形式的X射線射束的生成。所述結(jié)構(gòu)被布置為使得有效焦斑的重力的中心相對(duì)于焦軌道中心線不移動(dòng)，而是在陽(yáng)極盤的旋轉(zhuǎn)期間停留或保持焦斑中心線。關(guān)于焦軌道中心線的兩側(cè)，以類似方式作用有效焦斑的變化，即，實(shí)際上配備用于生成有用的X射線輻射的表面的焦軌道的部分或區(qū)域，以便確保生成的X射線射束來(lái)源于相同的點(diǎn)，盡管來(lái)自圍繞中心點(diǎn)同中心布置的不同尺寸。換言之，提供X射線射束不依據(jù)與探測(cè)器的空間關(guān)系來(lái)移動(dòng)，而是僅僅依據(jù)強(qiáng)度被調(diào)制。
[0025]參考下文描述的實(shí)施例，本發(fā)明的這些和其他方面將顯而易見(jiàn)并得以闡述。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0026]參考以下附圖，下文將描述本發(fā)明的范例性實(shí)施例。
[0027]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的范例性實(shí)施例的X射線成像系統(tǒng)。
[0028]圖2在俯視圖中示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的范例性實(shí)施例的陽(yáng)極盤。
[0029]圖3在俯視圖中示出了根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)極盤的又一范例。
[0030]圖4示出了根據(jù)圖3的陽(yáng)極盤的橫截面。
[0031]圖5a和圖5b在詳細(xì)俯視圖(僅圖5a中的截面)和俯視圖(圖5b)中示出了根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)極盤的又一范例。
[0032]圖6在俯視圖的詳細(xì)視圖(僅截面)中示出了根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)極盤的又一范例。
[0033]圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的X射線管的范例。
[0034]圖8在垂直橫截面中示出了具有根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)極盤的X射線管的又一范例。
[0035]圖9在詳細(xì)俯視圖(僅截面)中示出了根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)極盤的又一范例。
[0036]圖10示出了根據(jù)本發(fā)明的用于調(diào)制X射線射束的方法的基本步驟。
[0037]圖11示出了根據(jù)本發(fā)明的方法的又一范例。
[0038]圖12示出了根據(jù)本發(fā)明的范例性實(shí)施例的與探測(cè)器的非線性相關(guān)的兩個(gè)圖表。
[0039]圖13示出了根據(jù)本發(fā)明用于光子通量測(cè)量、同步和數(shù)據(jù)處理的圖表。
[0040]圖14示出了根據(jù)本發(fā)明用于選擇光子探測(cè)周期的圖表。
【具體實(shí)施方式】
[0041]圖1示出了 X射線成像系統(tǒng)10，其包括X射線源12和X射線探測(cè)器14。例如，X射線成像系統(tǒng)10是CT成像系統(tǒng)，其包括機(jī)架16，在所述機(jī)架16上，X射線源12和X射線探測(cè)器14被彼此相對(duì)安裝，并且在其中它們能夠在機(jī)架上以共同運(yùn)動(dòng)被旋轉(zhuǎn)。而且，示出了患者工作臺(tái)18，對(duì)象(例如患者20)被布置在所述患者工作臺(tái)18上。更進(jìn)一步，提供處理單元22、接口單元24以及顯示單元26。
[0042]必須注意，盡管圖1示出了 CT系統(tǒng)，本發(fā)明也提供其他X射線成像系統(tǒng)，例如C型臂成像系統(tǒng)。[0043]X射線源12被提供作為根據(jù)X射線源的下述實(shí)施例中的一個(gè)所述的X射線源。
[0044]在對(duì)例如圖7中的橫截面中所示的X射線管形式的X射線源12進(jìn)行描述之前，參考下述圖2等等，其示出了用于X射線管中的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極的陽(yáng)極盤28。利用圍繞中心點(diǎn)32的旋轉(zhuǎn)箭頭30指示旋轉(zhuǎn)的提供。
[0045]陽(yáng)極盤28包括用于調(diào)制生成的X射線射束的圓周目標(biāo)區(qū)域34，例如作為圓周線性目標(biāo)區(qū)域。目標(biāo)區(qū)域34包括目標(biāo)表面區(qū)域36、焦軌道中心線38以及射束捕集器表面區(qū)域40。
[0046]提供目標(biāo)表面區(qū)域36，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線，其將在下文進(jìn)一步說(shuō)明。提供射束捕集器表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的有用X射線。目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分42，并且射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分44。
[0047]應(yīng)當(dāng)注意，圖2示出了目標(biāo)部分42和射束捕集器部分44的具體布置。然而，諸如下圖所示的，也可以提供其他布置。
[0048]目標(biāo)部分42和射束捕集器部分44被布置為沿著焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于焦軌道中心線上。在焦軌道中心線兩側(cè)的結(jié)構(gòu)被布置，使得當(dāng)正由同質(zhì)電子射束擊中時(shí)，在兩側(cè)提供相同的輻射強(qiáng)度。例如，盡管結(jié)合陰極能夠僅僅確定焦斑的位置，圓46指示在圖2中焦斑的位置，其參考圖7進(jìn)行解釋。
[0049]目標(biāo)表面區(qū)域36的至少一部分在焦軌道中心線38的方向上以交替方式包括目標(biāo)部分42和射束捕集器部分44。
[0050]圖2示出了焦軌道中心線38作為線性圓周，S卩，圓形結(jié)構(gòu)。然而，也提供曲線焦軌道中心線，或者曲線圓周目標(biāo)區(qū)域也被布置在陽(yáng)極盤28上。
[0051]在旋轉(zhuǎn)期間，目標(biāo)區(qū)域34包括變化的有效目標(biāo)。焦斑的中心保持空間不變。
[0052]由此，圖2提供100%和0%之間的調(diào)制。通過(guò)電子射束的切換在理論上可以提供100%和0%之間的調(diào)制，作為備選方法。然而，根據(jù)本發(fā)明的調(diào)制提供以下優(yōu)點(diǎn):在從100%到0%的轉(zhuǎn)換期間，在切換電子射束的情況下，焦斑不被形變。
[0053]還應(yīng)當(dāng)注意，也根據(jù)本發(fā)明的又一范例提供其他調(diào)制。
[0054]圖3示出了具有目標(biāo)區(qū)域34的陽(yáng)極盤28的又一范例。橢圓形結(jié)構(gòu)48指示焦斑位置。在陽(yáng)極盤28上方以線性方式示出目標(biāo)區(qū)域34，其中，不同于例如到陽(yáng)極盤中心的射束捕集器部分44的圓周布置和相應(yīng)對(duì)齊，以直線性配置提供射束捕集器部分。然而，技術(shù)人員理解，提供該線性投影僅僅用于說(shuō)明目的。
[0055]目標(biāo)表面區(qū)域36和射束捕集器表面區(qū)域38被布置為沿著焦軌道中心線關(guān)于焦軌道中心線38對(duì)稱，所述焦軌道中心線利用點(diǎn)劃線38進(jìn)行指示。術(shù)語(yǔ)“對(duì)稱”是指在徑線上的對(duì)稱，其中，與焦軌道中心線的交叉點(diǎn)是鏡像，或?qū)ΨQ軸。由于曲線焦軌道(是圓周)，當(dāng)然這里在焦軌道的長(zhǎng)度上不提供真正的對(duì)稱，而是僅僅對(duì)于在焦軌道上具有對(duì)稱射束生成部分的點(diǎn)。目標(biāo)表面區(qū)域和射束捕集器表面區(qū)域(即，目標(biāo)部分42和射束捕集器部分44)被提供作為具有被徑向布置的邊緣的結(jié)構(gòu)，其被示為與在圖3中的線性投影彼此平行。
[0056]例如，如圖3中所示，提供連續(xù)的目標(biāo)中心部分50。射束捕集器表面區(qū)域包括第一多個(gè)52凹槽和第二多個(gè)54凹槽，所述第一多個(gè)52凹槽和第二多個(gè)54凹槽被布置在目標(biāo)中心部分50的對(duì)側(cè)。如圖所示，在焦軌道中心線38的內(nèi)側(cè)和外側(cè)提供凹槽。由此，緊挨著連續(xù)的目標(biāo)中心部分50，提供中斷的側(cè)部分。
[0057]關(guān)于焦斑48，其被示為在線性投影中在圖3中的三個(gè)不同范例性配置，由此，對(duì)于大焦斑尺寸用參考數(shù)字來(lái)指示，對(duì)于中等尺寸的焦斑用48M來(lái)指示，并且對(duì)于小焦斑用48s來(lái)指示。盡管相對(duì)于焦軌道中心線38在相同的位置提供不同焦斑尺寸，結(jié)合示出所述不同焦斑尺寸。提供其分選僅出于說(shuō)明目的。在圓周目標(biāo)區(qū)域34的線性投影上面，相應(yīng)的類似圖標(biāo)的圖表56^561!以及56s示出相應(yīng)的結(jié)果射束調(diào)制。如圖所示，由于大焦斑48^延伸橫穿兩種凹槽模式，因此提供加強(qiáng)的射束調(diào)制。由于中等尺寸焦斑48?具有更大百分比的不受影響的部分，即，連續(xù)目標(biāo)中間部分50，因此，與大焦斑相比，調(diào)制更少。因?yàn)樾〗拱邇H僅覆蓋連續(xù)的目標(biāo)中心部分50，無(wú)調(diào)制發(fā)生。
[0058]圖4示出了穿過(guò)陽(yáng)極盤28的橫截面，其中，兩個(gè)箭頭58指示用于通過(guò)擊中目標(biāo)部分42而生成X射線射束60的X射線部分。兩個(gè)更遠(yuǎn)的箭頭62指示X射線擊中射束捕集器部分44，后者利用點(diǎn)劃線來(lái)指示。而且，箭頭64指示徑向方向。
[0059]盡管屬于X射線管的結(jié)構(gòu)，示出偏轉(zhuǎn)器件66和X射線管套68的一部分，以及X射線窗口 70。
[0060]例如，射束偏轉(zhuǎn)器件66可以被提供作為磁性聚焦或電容性聚焦。如圖3中所示，通過(guò)調(diào)整焦斑長(zhǎng)度能夠調(diào)整調(diào)制幅度。焦斑寬度的調(diào)整可以用于調(diào)整調(diào)制水平之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間。利用第一雙向箭頭72指示焦斑的長(zhǎng)度，也被稱為Fp利用圖3中的第二雙向箭頭74指示焦斑寬度，也被稱為Fw。
[0061]僅作為范例，陽(yáng)極可以以180Hz自旋，并且軌道直徑是180mm ;則軌道速度是102m/
So
[0062]當(dāng)采取100m/s的焦軌道時(shí)，Imm周期的凹槽槽距將提供IOOkHz調(diào)制。由此，“整合周期”大于100毫秒長(zhǎng)。凹槽可以配備具有Imm周期的0.5mm槽距，并且焦斑寬度可以足夠小，例如小于0.5mm。
[0063]根據(jù)又一范例，目標(biāo)部分42被提供具有不同徑向?qū)挾?6，也被稱為Rw。備選地或額外地，目標(biāo)部分42也可以被提供具有不同徑向長(zhǎng)度78，被稱為術(shù)語(yǔ)“徑向?qū)挾取鄙婕霸趶较蚍较蛏系牟糠值木S度，并且術(shù)語(yǔ)“徑向長(zhǎng)度”涉及在焦軌道中心線方向上的部分的維度。
[0064]例如，圖5a示出了圓周目標(biāo)區(qū)域34的又一線性投影。代替連續(xù)目標(biāo)中心部分，目標(biāo)部分的至少一部分包括第一數(shù)量的第一子部分80和第二數(shù)量的第二子部分82。第一子部分80被提供具有第一徑向長(zhǎng)度84，并且第二子部分被提供具有第二徑向長(zhǎng)度86。第一徑向長(zhǎng)度84大于第二徑向長(zhǎng)度86。
[0065]如以上關(guān)于圖2指示的，根據(jù)本發(fā)明的調(diào)制提供以下優(yōu)點(diǎn):在轉(zhuǎn)換期間，焦斑不被形變。由此，實(shí)現(xiàn)10%的穩(wěn)定強(qiáng)度值。應(yīng)當(dāng)注意，利用電子射束切換幾乎不能實(shí)現(xiàn)這樣的10%的穩(wěn)定“中間”值。
[0066]圖5b示出了具有圖5a的目標(biāo)部分布置的陽(yáng)極的俯視圖，其包括第一子部分和第二子部分80、82。為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，利用參考數(shù)字94指示焦斑位置。當(dāng)然，對(duì)于圖5b，也提供有關(guān)圖5a描述的特征。
[0067]根據(jù)又一范例(盡管未示出)，提供第三或其他、多個(gè)第三或其他子部分。
[0068]例如，如圖5a(和圖5b)中所示，提供目標(biāo)模式，跟隨射束捕集器子部分88鄰近沿著焦軌道中心線提供第一子部分和第二子部分。
[0069]第一子部分80可以被提供作為目標(biāo)臺(tái)地90。第二子部分82可以被提供作為鄰近第一子部分80的轉(zhuǎn)換臺(tái)地92。如圖6所示，轉(zhuǎn)換部分具有從第一子部分到射束捕集器部分的減少的徑向?qū)挾?。例如，在焦斑的移?dòng)方向上，第二子部分被提供具有跟隨射束捕集器子部分的減少的徑向?qū)挾?。第二子部分被提供具有基本三角形狀，其中，三角形狀適于焦軌道中心線的圓度。
[0070]第二子部分也可以被提供具有中心對(duì)稱形狀，諸如，雙曲線、階梯式或三角形。
[0071]通過(guò)隱含焦斑軌道和射束捕集器的臺(tái)地，周期性地調(diào)制生成的使用的光子通量。
[0072]關(guān)于圖5a、圖5b以及圖6，可以提供三倍水平的通量調(diào)制。例如，圖5(圖5a和圖5b)示出了 100% /10% /0%的通量調(diào)制。
[0073]例如，第一子部分80是“ 100% -臺(tái)地”，如橢圓形焦斑指示符94指示的，其完全容納電子射束。由于電子射束也覆蓋所謂的臺(tái)地_捕集的部分，即，圍繞第二子部分82的捕集子部分88，作為“10% -臺(tái)地”的第二子部分82僅僅生成全部光子通量的10%。如利用又一焦斑指示符96指示的，基于利用移動(dòng)箭頭98指示的陽(yáng)極盤的移動(dòng)，示出了焦斑相對(duì)于10%臺(tái)地的位置?；诶糜忠唤拱咧甘酒?00指示的進(jìn)一步移動(dòng)，提供所謂的0% -臺(tái)地或捕集，在其中完全地捕集電子射束，并且由此這里不生成光子通量。
[0074]為了更好地說(shuō)明，在利用曲線104指示相應(yīng)光子通量的目標(biāo)區(qū)域34的下方示出了圖表102。連接箭頭106指示在焦斑位置的目標(biāo)區(qū)域34上的相應(yīng)的位置和相關(guān)生成的光子通量調(diào)制。
[0075]應(yīng)當(dāng)注意，由于焦斑的橢圓形狀，曲線104的轉(zhuǎn)換部分106發(fā)生在100% -水平和10% -水平以及0% -水平之間，并且從0% -水平再回到100% -水平。由此，提供例如具有短CT幀的周期的逐步周期性調(diào)制。
[0076]根據(jù)又一范例性特征，圍繞100%臺(tái)地的部分，S卩，例如，第一子部分80，也可以被提供作為包圍或劃出射束捕集器部分108。
[0077]圖6示出了具有轉(zhuǎn)換部分92并且也在下面圖表中得到的光子通量調(diào)制的范例。而且，參考在曲線104上的相應(yīng)點(diǎn)，也結(jié)合連接箭頭111，指示多個(gè)焦斑位置110。
[0078]通過(guò)采用各種形狀的臺(tái)地，能夠以靈活的方式形成X射線通量的時(shí)域剖面線。例如，如圖所示，轉(zhuǎn)換臺(tái)地可以是所謂的三角形狀。
[0079]根據(jù)又一范例，在圖9所示，在焦斑的移動(dòng)方向上，射束捕集器部分44可以被提供具有增加并且然后減少的徑向?qū)挾?。例如，如圖9所示，射束捕集器部分被提供作為長(zhǎng)菱形射束捕集器112。
[0080]在說(shuō)明圖9所示的其他特征之前，參考圖7，示出了根據(jù)本發(fā)明用于生成X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的X射線管114。根據(jù)以上和以下描述的范例中的一個(gè)，X射線114包括陰極116、陽(yáng)極盤28以及具有X射線窗口 120的管套118。
[0081]陰極116被配置為朝向焦軌道發(fā)射電子作為具有焦斑的電子射束122。在圖7中未進(jìn)一步示出，提供射束捕集器，使得在當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)的位置上，射束捕集器的底部表面沒(méi)有到X射線窗口 120的視線。
[0082]利用旋轉(zhuǎn)軸124指示陽(yáng)極盤的旋轉(zhuǎn)。而且，僅僅非常示意性示出了軸承和驅(qū)動(dòng)器件126。作為又一選項(xiàng)，提供聚焦器件128，以形成電子射束(S卩，焦斑)的尺寸和形式。例如，聚焦器件是磁性聚焦器件。由此，電子射束在切線方向上是可偏轉(zhuǎn)的。在根據(jù)又一范例的陽(yáng)極盤的徑向方向上，焦斑具有至少適合的尺寸。備選地或額外地，在陽(yáng)極盤的切線方向上焦斑具有至少適合的尺寸。
[0083]圖8示意性地示出了射束捕集器(S卩，射束捕集器部分44)的功能。垂直箭頭130指示擊中射束捕集器部分44的底部表面132的可能的電子射束段或大電子射束。從底部表面132，不提供到X射線窗口 120的視線。然而，利用小曲線箭頭134指示的一些反散射電子可以擊中射束捕集器部分的側(cè)壁部分136。而且，盡管當(dāng)然未依比例表示布置，在圖8中示意性地示出了探測(cè)器138。然而，一些探測(cè)器單元可以具有到邊緣或射束捕集器的側(cè)面部分壁的視線。由此，這些單元可以看到離焦輻射。這由指示生成的X射線射束的第一X射線射束扇形結(jié)構(gòu)140指示，所述生成的X射線射束從被布置在兩個(gè)射束捕集器部分44之間的目標(biāo)部分42中生成。第二扇形結(jié)構(gòu)142指示由反散射電子生成的可能的X射線射束。而且，對(duì)于其他射束捕集器部分示出類似，由此，提供可能的第三扇形射束結(jié)構(gòu)144。
[0084]例如，這能夠通過(guò)適當(dāng)?shù)匦纬缮涫都?例如，限制結(jié)構(gòu)等)來(lái)避免，或能夠使該作用最小化，其參考圖9作為范例示出。
[0085]如圖9中所示，具有增加和減少?gòu)较驅(qū)挾鹊纳涫都鞑糠直惶峁┚哂行纬蓮较虻叵蛲馊∠虻膹埥?46的兩側(cè),所述張角大于穿過(guò)X射線窗口輻射的X射線射束150的扇形角148 (在圖9中未示出)。然而，示意性地示出了探測(cè)器152。
[0086]為了避免涉及反散射電子的問(wèn)題，菱形角的相應(yīng)側(cè)壁部分154和156可以被提供具有低Z材料以避免來(lái)自反散射電子的離焦輻射。當(dāng)然，為了避免反散射輻射，低Z材料的提供也可以被提供到其他形式和形狀的射束捕集器部分。
[0087]關(guān)于圖9，利用其他橢圓形結(jié)構(gòu)158指示許多焦斑位置。如上所述，位置(B卩，結(jié)構(gòu))指示由陽(yáng)極盤的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)導(dǎo)致的相對(duì)于中心線的位置。
[0088]如以上指示的，即使具有主要電子的垂直影響，可以由電子擊中轉(zhuǎn)換臺(tái)地的邊緣，所述電子從射束捕集器的底部被反散射。為了以非對(duì)稱方式使該離焦輻射和X射線探測(cè)器的照射最小化，轉(zhuǎn)換臺(tái)地的剖面線可以被例如“限制”為長(zhǎng)菱形形狀，使得僅僅一些探測(cè)器單元是在這樣邊緣的視線中。然而，由于非零陽(yáng)極角，在視線中仍然可以存在一些探測(cè)器單
J Li ο
[0089]菱形角應(yīng)當(dāng)大于探測(cè)器扇形角。
[0090]只要其他限制形狀遵循上面的要求，所述其他限制形狀能夠用于以不同方式調(diào)制
射束通量。
[0091]在轉(zhuǎn)換期間，并且針對(duì)低通量，根據(jù)又一范例，焦斑將在長(zhǎng)度方向上被分為兩部分。只要整個(gè)長(zhǎng)度足夠小，這不會(huì)損害系統(tǒng)的成像性能。
[0092]圖10示出了一種用于調(diào)制X射線射束的方法200，其包括以下步驟:在第一步驟210中，也被稱為步驟a)，朝向包括圓周目標(biāo)區(qū)域的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極輻射電子射束，所述圓周目標(biāo)區(qū)域具有目標(biāo)表面、焦軌道中心線以及射束捕集器表面。提供目標(biāo)表面，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線。提供射束捕集器表面，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的X射線。目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分，并且射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分。目標(biāo)部分和射束捕集器部分被布置為沿著焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于焦軌道中心線。目標(biāo)表面區(qū)域的至少一部分在焦軌道中心線的方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分。在第二步驟220中，也被稱為步驟b)，旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極盤，并且生成經(jīng)調(diào)制的X射線輻射。由此，同時(shí)執(zhí)行步驟a)和步驟b) ο
[0093]根據(jù)又一范例，如圖11所示，在步驟b)期間，利用參考數(shù)字230指示的，電子射束被提供具有至少兩個(gè)不同射束形狀，其焦斑具有變化的徑向長(zhǎng)度。
[0094]根據(jù)又一范例(未示出)，例如，當(dāng)從零通量到完全通量時(shí)，提供切線方向(即，X方向)上的電子射束的偏轉(zhuǎn)，以加速轉(zhuǎn)換。
[0095]也可能提供與柵格切換的組合。
[0096]根據(jù)又一范例，陽(yáng)極旋轉(zhuǎn)的相位適于與探測(cè)器的整合周期同步。
[0097]對(duì)于不同CT視圖，通量模式可以是不同的。重建算法將必須對(duì)齊不同視圖的不同質(zhì)量。
[0098]還提供具有陽(yáng)極盤，所述陽(yáng)極盤具有無(wú)射束捕集器的分離的“無(wú)擾動(dòng)”焦軌道，可由電子射束的偏轉(zhuǎn)進(jìn)行選擇。
[0099]在參考描述光子通量的測(cè)量和光子探測(cè)周期的選擇的圖13和圖14之前，參考圖12，所述圖12示出了第一圖表160，所述第一圖表160涉及垂直軸上的探測(cè)器讀數(shù)162以及水平軸上的主要X射線通量164。如圖所示，用于CT的探測(cè)器受到利用以高光子通量的第一曲線166指示的非線性的嚴(yán)格限制。以點(diǎn)劃方式的直線168指示虛擬線性響應(yīng)。
[0100]如下面的第二圖表170所示，根據(jù)本發(fā)明，例如，通過(guò)整合僅僅在減少的光子通量周期期間的信號(hào)，并且丟棄來(lái)自過(guò)度通量周期的信號(hào)，提供能量分離曲線172，以避免飽和。
[0101]圖13示出了第三圖表300中的光子通量的測(cè)量、同步和數(shù)據(jù)處理。X射線管310提供主要的X射線扇形射束312。對(duì)象314被布置在X射線扇形射束312中，其具有X射線不透過(guò)子對(duì)象316。而且，利用相應(yīng)的指示信號(hào)320指示探測(cè)器陣列318。點(diǎn)劃線322指示臨界線，在所述臨界線上方提供非線性響應(yīng)，并且在所述臨界線下方提供足夠的線性響應(yīng)。由此，信號(hào)320可以被劃分成三個(gè)部分324、326和328。第一部分324涉及能夠從低通量周期獲取信號(hào)的部分。由此，第二部分326能夠用于從高通量周期獲取信號(hào)。由此，類似于部分324，第三部分328也能夠用于從低通量周期獲取信號(hào)。以下利用子圖表330和相應(yīng)的連接箭頭332指示光子通量的圖表的相應(yīng)部分。
[0102]而且，參考射束334被提供到主要的通量監(jiān)控器336。利用圖表338指示相應(yīng)信號(hào)。由此，提供同步信號(hào)340，其具有信號(hào)結(jié)構(gòu)342。作為又一步驟，如利用箭頭346指示的，門控信號(hào)處理343被布置以便通過(guò)同步信號(hào)340和提供的相應(yīng)信號(hào)310的組合達(dá)到每能量分箱334真正的正弦圖。僅僅在X射線信號(hào)的適當(dāng)周期讀出每個(gè)探測(cè)器像素。在投影幀結(jié)束時(shí)回顧確定合適的周期，其也被稱為“整合周期”。零通量周期用于晶體偏振的探測(cè)。當(dāng)調(diào)制周期的長(zhǎng)度小于最小“整合周期”，對(duì)于每個(gè)投影能夠單獨(dú)地確定合適定時(shí)。
[0103]圖14示出了第四圖表400中的光子探測(cè)周期的選擇。在第一步驟410中，整合光子信號(hào)。接著，在又一步驟412中，信號(hào)被評(píng)估為在確定限制以下。如果回答是“是”，其在又一步驟414中被提供以估計(jì)(例如每能量的)信號(hào)。如果回答是“否”，提供又一步驟416，在其中忽略結(jié)果，并且選擇低通量周期。如利用箭頭418指示的，然后可以重復(fù)步驟。以下，又一子圖表420指示在垂直方向上和沿著時(shí)間在水平方向上的來(lái)自X射線管的光子通量。在下面的行中，利用參考數(shù)字422指示，示出了某些CT視圖。再下面，對(duì)于在上行426中的100%通量周期、對(duì)于在中間行428中的10%通量周期并且對(duì)于在下行430中的0%通量周期，示出了源通量序列424。在足夠低光子通量周期中，探測(cè)每探測(cè)器像素的所有進(jìn)入光子。假如，瞬時(shí)探測(cè)器信號(hào)應(yīng)當(dāng)超出探測(cè)器像素的線性響應(yīng)的限制，忽略在高通量周期測(cè)量到的那些數(shù)據(jù)。僅僅評(píng)估在低通量周期期間到達(dá)的光子通量。由于該環(huán)境中對(duì)象的衰減低，該信號(hào)提供足夠大的信噪比。調(diào)制周期可以短于CT投影周期。
[0104]在本發(fā)明的另一范例性實(shí)施例中，提供一種計(jì)算機(jī)程序或計(jì)算機(jī)程序元件，其特征在于，適于在適當(dāng)系統(tǒng)上實(shí)施根據(jù)前述實(shí)施例中的一項(xiàng)所述的方法的方法步驟。
[0105]因此，計(jì)算機(jī)程序元件可以被存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)單元，其也可以是本發(fā)明的實(shí)施例的一部分。該計(jì)算單元可以適于執(zhí)行或誘導(dǎo)上述方法的步驟的執(zhí)行。而且，其可以適于操作上述裝置的組件。計(jì)算單元能夠適于自動(dòng)操作和/或?qū)嵤┯脩舻捻樞?。?jì)算機(jī)程序可以被加載到數(shù)據(jù)處理器的工作內(nèi)存。由此，可以配備數(shù)據(jù)處理器來(lái)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的方法。
[0106]本發(fā)明的該范例性實(shí)施例涵蓋從最開(kāi)始使用本發(fā)明的計(jì)算機(jī)程序和借助于將現(xiàn)有程序更新為使用本發(fā)明的程序的計(jì)算機(jī)程序。
[0107]而且，計(jì)算機(jī)程序元件能夠提供所有必要步驟，以完成上述方法的范例性實(shí)施例的過(guò)程。
[0108]根據(jù)本發(fā)明的又一范例性實(shí)施例，提出一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，諸如CD-ROM，其中，所述計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)具有被存儲(chǔ)在其上的計(jì)算機(jī)程序元件，前述章節(jié)描述了所述計(jì)算機(jī)程序元件。
[0109]計(jì)算機(jī)程序可以被存儲(chǔ)和/或分布在適當(dāng)?shù)慕橘|(zhì)上，諸如與其他硬件一起提供或作為其他硬件的一部分的光學(xué)存儲(chǔ)介質(zhì)或固態(tài)介質(zhì)，但也可以以其他形式分布，諸如經(jīng)由互聯(lián)網(wǎng)或其他有線或無(wú)線通信系統(tǒng)。
[0110]然而，計(jì)算機(jī)程序也可以存在于網(wǎng)絡(luò)(如萬(wàn)維網(wǎng))并且能夠從這樣的網(wǎng)絡(luò)被下載到數(shù)據(jù)處理器的工作內(nèi)存中。根據(jù)本發(fā)明的又一范例性實(shí)施例，提供一種用于使計(jì)算機(jī)程序元件可用于下載的介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)程序元件被布置為執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的先前描述的實(shí)施例中的一項(xiàng)所述的方法。
[0111]必須注意，參考不同主題描述本發(fā)明的實(shí)施例。尤其，參考方法類型權(quán)利要求描述一些實(shí)施例，而參考設(shè)備類型權(quán)利要求描述其他實(shí)施例。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員將從以上和以下描述中獲悉，除非另作說(shuō)明，除屬于一個(gè)類型主題的特征的任意組合之外，在涉及不同主題的特征之間的任意組合也被認(rèn)為是這個(gè)申請(qǐng)的公開(kāi)。然而，能夠組合所有特征，提供比特征的簡(jiǎn)單總和更多的協(xié)同效果。
[0112]盡管在附圖和上述描述中已經(jīng)詳細(xì)圖示并描述了本發(fā)明，這樣的圖示和描述被認(rèn)為是圖示性或范例性的，并非限制性的。本發(fā)明不限于已公開(kāi)的實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員通過(guò)研究附圖、公開(kāi)內(nèi)容和從屬權(quán)利要求書，在實(shí)踐所主張的本發(fā)明的過(guò)程中，能夠理解和實(shí)現(xiàn)對(duì)所公開(kāi)實(shí)施例的其他變型。
[0113]在權(quán)利要求中，“包括” 一詞不排除其他要素或步驟，并且不定冠詞“一”或“一個(gè)”不排除多個(gè)。單個(gè)處理器或其他單元可以實(shí)現(xiàn)在權(quán)利要求中列舉的若干項(xiàng)功能。在互不相同的從屬權(quán)利要求中列舉的某些措施的事實(shí)不表明不能夠使用這些措施的組合來(lái)獲益。在權(quán)利要求中的任何參考標(biāo)記不應(yīng)被解釋為限制范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用于X射線管中的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極來(lái)調(diào)制生成的X射線射束的陽(yáng)極盤(28)，其包括圓周目標(biāo)區(qū)域(34)，所述目標(biāo)區(qū)域具有: -目標(biāo)表面區(qū)域(36)； -焦軌道中心線(38);以及 -射束捕集器表面區(qū)域(40)； 其中，提供所述目標(biāo)表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線； 其中，提供所述射束捕集器表面區(qū)域，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的X射線； 其中，所述目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分(42);并且所述射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分(44)； 其中，所述目標(biāo)部分和所述射束捕集器部分被布置為沿著所述焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于所述焦軌道中心線上；并且其中，在所述焦軌道中心線的兩側(cè)的結(jié)構(gòu)被布置，使得當(dāng)正由同質(zhì)電子射束擊中時(shí)，在所述兩側(cè)提供相同的輻射強(qiáng)度；以及 其中，所述目標(biāo)表面區(qū)域的至少一部分在所述焦軌道中心線的方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述 的陽(yáng)極盤，其中，所述目標(biāo)部分被提供具有不同徑向?qū)挾?76)和/或具有不同徑向長(zhǎng)度(78)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陽(yáng)極盤，其中，提供連續(xù)的目標(biāo)中心部分(50);并且其中，所述射束捕集器表面區(qū)域包括第一多個(gè)(52)凹槽和第二多個(gè)(54)凹槽，所述第一多個(gè)凹槽和第二多個(gè)凹槽被布置在所述目標(biāo)中心部分的對(duì)側(cè)。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的陽(yáng)極盤，其中，沿著所述焦軌道中心線，以交替方式提供目標(biāo)部分和射束捕集器部分。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的陽(yáng)極盤，其中，所述目標(biāo)部分的至少一部分包括第一數(shù)量的第一子部分(80)和第二數(shù)量的第二子部分(82)； 其中，所述第一子部分被提供具有第一徑向長(zhǎng)度(84);并且所述第二子部分被提供具有第二徑向長(zhǎng)度(86);以及 其中，所述第一徑向長(zhǎng)度大于所述第二徑向長(zhǎng)度。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的陽(yáng)極盤，其中，所述第一子部分被提供作為目標(biāo)臺(tái)地(90)； 其中，所述第二子部分被提供作為鄰近所述第一子部分的轉(zhuǎn)換臺(tái)地(92);以及 其中，所述轉(zhuǎn)換部分具有從所述第一子部分到所述射束捕集器部分的減少的徑向?qū)挾取?br> 7.一種用于生成X射線強(qiáng)度的周期性調(diào)制的X射線管(114)，包括: -陰極(116)； -根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的陽(yáng)極盤(28)； -管套(118)，其具有X射線窗口(120)； 其中，所述陰極被配置為朝向所述焦軌道發(fā)射電子，作為具有焦斑的電子射束(122)；以及 其中，提供所述射束捕集器，使得在當(dāng)正由所述電子射束擊中時(shí)的位置上，所述射束捕集器的底部表面不具有到所述X射線窗口的視線。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的 X射線管，其中，提供聚焦器件(128)，以形成所述焦斑的尺寸和形式。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的X射線管，其中，提供具有增加和減少的徑向?qū)挾鹊纳涫都鞑糠?，在其兩?cè)形成徑向地向外取向的張角(146)，所述張角大于穿過(guò)所述X射線窗口輻射的X射線射束(150)的扇形角(148)。
10.一種X射線成像系統(tǒng)(10)，包括: -X射線源(12)； -X射線探測(cè)器(14)； 其中，所述X射線源被提供作為根據(jù)前述權(quán)利要求中的一項(xiàng)所述的X射線源管。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線成像系統(tǒng)，其中，陽(yáng)極旋轉(zhuǎn)的相位適于與所述X射線探測(cè)器的整合周期同步。
12.一種用于調(diào)制X射線射束的方法(200)，包括以下步驟: a)朝向包括圓周目標(biāo)區(qū)域的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極輻射(210)電子射束，所述圓周目標(biāo)區(qū)域具有目標(biāo)表面區(qū)域、焦軌道中心線以及射束捕集器表面區(qū)域；其中，提供所述目標(biāo)表面，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成用于X射線成像的X射線；其中，提供所述射束捕集器表面，使得當(dāng)正由電子射束擊中時(shí)，能夠生成不用于X射線成像的X射線；其中，所述目標(biāo)表面區(qū)域包括多個(gè)目標(biāo)部分；并且，所述射束捕集器表面區(qū)域包括多個(gè)射束捕集器部分；其中，所述目標(biāo)部分和所述射束捕集器部分被布置為沿著所述焦軌道中心線，使得在其中生成X射線輻射的焦斑的中心位于所述焦軌道中心線上；并且其中，所述目標(biāo)表面區(qū)域的至少一部分在所述焦軌道中心線的方向上以交替方式包括目標(biāo)部分和射束捕集器部分；并且 b)旋轉(zhuǎn)(220)所述陽(yáng)極盤并且生成經(jīng)調(diào)制的X射線輻射。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，在步驟b)期間，所述電子射束被提供(230)具有至少兩個(gè)不同的射束形狀，其焦斑具有變化的徑向長(zhǎng)度。
14.一種用于控制根據(jù)權(quán)利要求1至11中的一項(xiàng)所述的裝置的計(jì)算機(jī)程序元件，當(dāng)由處理單元執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序元件時(shí)，所述計(jì)算機(jī)程序元件適于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求12至13所述的方法步驟。
15.一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，其已經(jīng)存儲(chǔ)根據(jù)權(quán)利要求14所述的程序元件。
【文檔編號(hào)】H01J35/10GK103959423SQ201280057661
【公開(kāi)日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2012年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2011年11月23日
【發(fā)明者】R·K·O·貝林 申請(qǐng)人:皇家飛利浦有限公司