技術(shù)特征：
1.一種投影光模塊(10)，帶有光源(12)，該光源的光束由主光學(xué)器件(18)匯聚到第一光分布中，該第一光分布位于投影光模塊(10)的遮光平面中；和帶有成像光學(xué)器件(24)，該成像光學(xué)器件設(shè)置為，將第一光分布投影到位于投影光模塊(10)的前部區(qū)域中的第二光分布；并且?guī)в姓诠獍?20)和調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器(40)，所述遮光平面通過(guò)所述遮光板的光學(xué)作用邊緣的位置限定，該調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器設(shè)置為，通過(guò)遮光板(20)在第一調(diào)節(jié)位置(42)和第二調(diào)節(jié)位置(44)之間的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)調(diào)節(jié)遮光板(20)的光學(xué)作用邊棱(22)；其特征在于，所述投影光模塊(10)具有磁的制動(dòng)裝置，該制動(dòng)裝置設(shè)置為，在所述遮光板(20)接近第一調(diào)節(jié)位置(42)和/或第二調(diào)節(jié)位置(44)時(shí)或者在所述遮光板(20)經(jīng)過(guò)所述第一調(diào)節(jié)位置(42)和/或所述第二調(diào)節(jié)位置(44)時(shí)延緩所述遮光板(20)的調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述制動(dòng)裝置具有至少一個(gè)磁體對(duì)(50)，該磁體對(duì)包括兩個(gè)相互排斥的磁體(46,48)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影光模塊(10)，其特征在于，這樣選擇所述磁體對(duì)(50)的能量密度和/或數(shù)量，使得在遮光板(20)的近光燈位置(44)上形成磁力(F)和復(fù)位力之間的平衡。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影光模塊(10)，其特征在于，磁體對(duì)(50)的第一磁體(46)和第二磁體(48)在近光燈位置(44)相對(duì)彼此以一間距布置。5.根據(jù)前列權(quán)利要求之一所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器(40)包括吸引銜鐵(58)和復(fù)位彈簧(60)。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述磁體對(duì)(50)的第一磁體(46)設(shè)置在主光學(xué)器件(18)的前緣(38)上，而磁體對(duì)(50)的第二磁體(48)設(shè)置在遮光板(20)上。7.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的投影光模塊(10)，其特征在于，在遮光板(20)和/或主光學(xué)器件(18)上設(shè)有用于容納磁體(46、48)的凹槽。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述磁體對(duì)(50)包括至少一個(gè)永磁體。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述永磁體通過(guò)壓縮和/或燒結(jié)制成。10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的投影光模塊(10)，其特征在于，永磁體的材料根據(jù)投影光模塊(10)在按規(guī)定運(yùn)行時(shí)在遮光板(20)上出現(xiàn)的溫度選擇。11.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的投影光模塊(10)，其特征在于，該投影光模塊具有至少一個(gè)附加的磁體對(duì)(63)，其中，該附加的磁體對(duì)(63)具有吸引的磁力(F)，其作用方向垂直于在遮光板(20)調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng)時(shí)出現(xiàn)的慣性力的作用方向。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的投影光模塊(10)，其特征在于，附加磁體對(duì)(63)的第一磁體(46)和第二磁體(48)在近光燈位置(44)相對(duì)彼此以一間距(64)布置。13.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的投影光模塊(10)，其特征在于，所述遮光板(20)由順磁性的材料制成。