一種離子注入裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種離子注入裝置，包括噴槍、引出裝置、加速裝置、靶室、真空泵、基板；所述噴槍、引出裝置、加速裝置、靶室依次連接設(shè)置，噴槍開口于引出裝置內(nèi)；所述靶室側(cè)面連接有真空泵；所述基本設(shè)置在靶室內(nèi)。本實(shí)用新型通過更簡化更利于生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了企業(yè)利用離子注入技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)的低成本化，極大的有利于企業(yè)的發(fā)展，而且裝置結(jié)構(gòu)簡單，企業(yè)無需專門生產(chǎn)或購置整套裝置，而由此帶來的設(shè)備成本相對(duì)較低也能進(jìn)一步降低企業(yè)成本。
【專利說明】一種離子注入裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種離子注入裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，離子注入機(jī)雖然有一些不同的類型，但就基本工作原理和基本結(jié)構(gòu)來說是相似的，一般由以下幾個(gè)基本系統(tǒng)組成:(I)離子源系統(tǒng)，(2)離子的引出和加速系統(tǒng)，(3)質(zhì)量分析系統(tǒng)，(4)離子束聚焦和掃描系統(tǒng)，(5)靶室和真空系統(tǒng)。就裝置的簡化而言，由于目前離子注入主要用于光學(xué)用途，而且基本都處于實(shí)驗(yàn)階段，因此質(zhì)量分析系統(tǒng)、離子束聚焦和掃描系統(tǒng)兩大系統(tǒng)幾乎是不可少的，如申請(qǐng)?zhí)枮镃N201210530482.2的中國發(fā)明專利公開了一種離子注入方法及裝置，其中提到的離子注入裝置就包括靜電監(jiān)控單元和比值選定單元，由此雖然裝置在使用過程中各系數(shù)能得到監(jiān)控，但就生產(chǎn)而言，尤其是少量的生產(chǎn)，則這些單元系統(tǒng)顯得多余，對(duì)于用離子注入技術(shù)生產(chǎn)產(chǎn)品的企業(yè)來說成本過高，特別是監(jiān)控、檢測等功能一般都是以電子設(shè)備實(shí)現(xiàn)，在涉及等離子體的持續(xù)使用中極易損壞，而成本過高必然導(dǎo)致企業(yè)發(fā)展較為困難。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種離子注入裝置，該離子注入裝置通過更簡化更利于生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了企業(yè)利用離子注入技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)的低成本化，極大的有利于企業(yè)的發(fā)展。
[0004]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)。
[0005]本實(shí)用新型提供的一種離子注入裝置，包括噴槍、引出裝置、加速裝置、靶室、真空泵、基板；所述噴槍、引出裝置、加速裝置、靶室依次連接設(shè)置，噴槍開口于引出裝置內(nèi)；所述靶室側(cè)面連接有真空泵；所述基本設(shè)置在靶室內(nèi)。
[0006]所述引出裝置內(nèi)設(shè)置有加熱鎢絲。
[0007]所述引出裝置、加速裝置和加熱鎢絲分別獨(dú)立連接引出電源、加速電源和加熱電源。
[0008]所述靶室底部設(shè)置有可開合的排水管。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果在于:通過更簡化更利于生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了企業(yè)利用離子注入技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)的低成本化，極大的有利于企業(yè)的發(fā)展，而且裝置結(jié)構(gòu)簡單，企業(yè)無需專門生產(chǎn)或購置整套裝置，而由此帶來的設(shè)備成本相對(duì)較低也能進(jìn)一步降低企業(yè)成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖中:1_噴槍，2-引出裝置，21-引出電源，3-加速裝置，31-加速電源，4-靶室，5-加熱鎢絲，51-加熱電源，6-真空泵，7-基板，8-排水管?！揪唧w實(shí)施方式】
[0012]下面進(jìn)一步描述本實(shí)用新型的技術(shù)方案，但要求保護(hù)的范圍并不局限于所述。
[0013]如圖1所示的一種離子注入裝置，包括噴槍1、引出裝置2、加速裝置3、靶室4、真空泵6、基板7 ;所述噴槍1、引出裝置2、加速裝置3、靶室4依次連接設(shè)置，噴槍I開口于引出裝置2內(nèi)；所述靶室4側(cè)面連接有真空泵6 ;所述基本7設(shè)置在靶室4內(nèi)。
[0014]所述引出裝置2內(nèi)設(shè)置有加熱鶴絲5。
[0015]所述弓丨出裝置2、加速裝置3和加熱鎢絲5分別獨(dú)立連接引出電源21、加速電源31和加熱電源51。
[0016]所述靶室4)底部設(shè)置有可開合的排水管8)。
[0017]在實(shí)際生產(chǎn)過程中，對(duì)于產(chǎn)品質(zhì)量的控制可以通過其他步驟實(shí)現(xiàn)，因此并不必要以例如設(shè)置復(fù)雜監(jiān)控系統(tǒng)等成本更高的方式來進(jìn)行控制。
[0018]本實(shí)用新型主要用于氣體離子的離子注入。
【權(quán)利要求】
1.一種離子注入裝置，包括噴槍(I)、引出裝置(2)、加速裝置(3)、靶室(4)、真空泵(6)、基板(7)，其特征在于:所述噴槍(I)、引出裝置(2)、加速裝置(3)、靶室(4)依次連接設(shè)置，噴槍(I)開口于引出裝置(2)內(nèi)；所述靶室(4)側(cè)面連接有真空泵(6);所述基本(7)設(shè)置在革巴室(4)內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的離子注入裝置，其特征在于:所述引出裝置(2)內(nèi)設(shè)置有加熱鎢絲(5)。
3.如權(quán)利要求2所述的離子注入裝置，其特征在于:所述引出裝置(2)、加速裝置(3)和加熱鎢絲(5)分別獨(dú)立連接引出電源(21)、加速電源(31)和加熱電源(51)。
4.如權(quán)利要求1所述的離子注入裝置，其特征在于:所述靶室(4)底部設(shè)置有可開合的排水管(8)。
【文檔編號(hào)】H01J37/317GK203760420SQ201320874350
【公開日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】季泳, 張龔磊 申請(qǐng)人:貴州藍(lán)科睿思技術(shù)研發(fā)中心