一種刻蝕裝置、刻蝕系統(tǒng)及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種刻蝕裝置、刻蝕系統(tǒng)及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在刻蝕裝置稼動(dòng)率低以及刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)不準(zhǔn)確的問題。方法為，在刻蝕裝置的終點(diǎn)探測(cè)窗口中添加終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，當(dāng)刻蝕裝置中進(jìn)行的刻蝕過程的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)時(shí)，通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋探測(cè)窗，從而保護(hù)了探測(cè)窗不受過刻過程中刻蝕氣體的腐蝕，延長(zhǎng)了探測(cè)窗的使用壽命，保證了終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn)確性，提高了刻蝕裝置的稼動(dòng)率。
【專利說明】一種刻蝕裝置、刻蝕系統(tǒng)及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及刻蝕【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種刻蝕裝置、刻蝕系統(tǒng)及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方 法。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前，在干法刻蝕過程中，通常應(yīng)用EH) (End Point Detector ;刻蝕終點(diǎn)探測(cè)）系 統(tǒng)監(jiān)控刻蝕裝置中的刻蝕過程。參閱圖1所示，刻蝕裝置1包括Ero窗口 2，EPD系統(tǒng)包括 電荷耦合元件（CCD)3，電流/頻率（I/F)回路4，以及計(jì)算機(jī)5 ;其中，EH)窗口 2位于刻蝕 裝置1中刻蝕腔側(cè)壁上的開口處，用于將刻蝕裝置1在刻蝕過程中輝光放電產(chǎn)生的光信號(hào) 透?jìng)髦?XD3 ;(XD3將EH)窗口 2發(fā)送的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)后發(fā)送至I/F回路4，I/F回路 將上述電信號(hào)進(jìn)行處理后發(fā)送至計(jì)算機(jī)5，計(jì)算機(jī)5根據(jù)上述處理后的電信號(hào)的變化情況， 判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)，以控制刻蝕裝置1中的刻蝕過程。
[0003] 通常，在干法刻蝕過程中，當(dāng)刻蝕終點(diǎn)到達(dá)后，為了保證刻蝕完全，在刻蝕裝置1 中仍需要進(jìn)行預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)的過刻過程。在過刻過程中，由于Ero窗口 2中的石英窗6位于刻 蝕裝置1側(cè)壁中的開口處，因此，干法過刻過程中的等離子體等刻蝕氣體將與石英窗6發(fā)生 反應(yīng)，從而腐蝕石英窗6 ;石英窗6與刻蝕氣體反應(yīng)后生成的物質(zhì)將附著于石英窗6之上， 導(dǎo)致EH)窗口 2光強(qiáng)透過率下降，造成刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)錯(cuò)誤，進(jìn)而影響刻蝕工藝質(zhì)量。
[0004] 由此可見，目前存在刻蝕裝置中EH)窗口損耗大，導(dǎo)致刻蝕裝置稼動(dòng)率低以及刻 蝕終點(diǎn)檢測(cè)不準(zhǔn)確的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本發(fā)明實(shí)施例提供一種刻蝕裝置、刻蝕系統(tǒng)及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法，用以解決現(xiàn)有 技術(shù)中存在刻蝕裝置稼動(dòng)率低以及刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)不準(zhǔn)確的問題。
[0006] 本發(fā)明實(shí)施例提供的具體技術(shù)方案如下：
[0007] -種刻蝕裝置，包括刻蝕腔，所述刻蝕腔包括終點(diǎn)探測(cè)窗口 ；其中：
[0008] 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口包括探測(cè)窗、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置；
[0009] 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)，位于所述探測(cè)窗內(nèi)側(cè)，用于到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)遮擋所 述探測(cè)窗；
[0010] 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，與所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)連接，用于 驅(qū)動(dòng)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)的打開或關(guān)閉。
[0011] 一種刻蝕系統(tǒng)，包括如上所述的刻蝕裝置，以及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)，其中：
[0012] 所述刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)包括信號(hào)處理裝置，以及電荷耦合元件；
[0013] 所述電荷耦合元件，位于所述刻蝕裝置中的電荷耦合元件支架上，用于將所述刻 蝕裝置在刻蝕過程中產(chǎn)生的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)；
[0014] 所述信號(hào)處理裝置，與所述電荷耦合元件連接，用于將所述模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù) 字電信號(hào)。
[0015] 一種刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法，用于探測(cè)刻蝕裝置的刻蝕終點(diǎn)，所述刻蝕裝置包括設(shè)置 有終點(diǎn)探測(cè)窗口的刻蝕腔，且所述終點(diǎn)探測(cè)窗口包括探測(cè)窗、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及 終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，所述方法包括：
[0016] 從所述終點(diǎn)探測(cè)窗口探測(cè)所述刻蝕腔內(nèi)刻蝕過程中所發(fā)射的光，并轉(zhuǎn)換為電信 號(hào);
[0017] 根據(jù)所述電信號(hào)判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)；
[0018] 若達(dá)到刻蝕終點(diǎn)，所述終點(diǎn)探測(cè)窗口中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所 述終點(diǎn)探測(cè)窗口中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋所述探測(cè)窗。
[0019] 本發(fā)明實(shí)施例中，刻蝕裝置中的終點(diǎn)探測(cè)窗口包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，且終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)用于完全遮擋或者不遮擋終點(diǎn)探 測(cè)窗口。采用本發(fā)明技術(shù)方案，在刻蝕裝置的終點(diǎn)探測(cè)窗口中添加終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，當(dāng)刻蝕裝置中進(jìn)行的刻蝕過程的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)時(shí)， 通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋探測(cè)窗，從而保護(hù)了 探測(cè)窗不受過刻過程中刻蝕氣體的腐蝕，延長(zhǎng)了探測(cè)窗的使用壽命，保證了終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn) 確性，提高了刻蝕裝置的稼動(dòng)率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)中EF*D系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不意圖；
[0021] 圖2為本發(fā)明實(shí)施例一中刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0022] 圖3為本發(fā)明實(shí)施例一中刻蝕裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023] 圖4為本發(fā)明實(shí)施例一中刻蝕裝置俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024] 圖5為本發(fā)明實(shí)施例一中刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖二 ；
[0025] 圖6為本發(fā)明實(shí)施例一中刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖三；
[0026] 圖7為本發(fā)明實(shí)施例二中刻蝕系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027] 圖8為本發(fā)明實(shí)施例三中終點(diǎn)刻蝕探測(cè)流程示意圖；
[0028] 圖9為本發(fā)明實(shí)施例中探測(cè)窗未受到腐蝕以及受到腐蝕后分別對(duì)應(yīng)的光信號(hào)變 化情況示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0029] 為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在刻蝕裝置稼動(dòng)率低以及刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)不準(zhǔn)確的問題。本 發(fā)明實(shí)施例中，在刻蝕裝置的終點(diǎn)探測(cè)窗口中添加終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終點(diǎn)探測(cè)窗 口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，當(dāng)刻蝕裝置中進(jìn)行的刻蝕過程的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)時(shí)，通過終點(diǎn)探測(cè)窗 口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋探測(cè)窗，從而保護(hù)了探測(cè)窗不受過刻 過程中刻蝕氣體的腐蝕，延長(zhǎng)了探測(cè)窗的使用壽命，保證了終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn)確性，提高了刻蝕 裝置的稼動(dòng)率。
[0030] 下面結(jié)合說明書附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0031] 實(shí)施例一
[0032] 請(qǐng)參閱圖2，為本發(fā)明實(shí)施例一中提供的刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖一。如圖2所 示，實(shí)施例一提供的刻蝕裝置包括刻蝕腔1'，且刻蝕腔1'包括終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'，其中， 該刻蝕腔1'用于執(zhí)行刻蝕過程，如干法刻蝕過程等，終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'用于透?jìng)骺涛g過程 中生成的光信號(hào)。
[0033] 具體的，終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'包括探測(cè)窗3'、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，終點(diǎn)探 測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'，以及電荷耦合元件支架6';其中，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 4'，位于探測(cè)窗3'內(nèi)側(cè)，用于在刻蝕過程到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)遮擋探測(cè)窗3';終點(diǎn)探測(cè)窗口 保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'，與終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'連接，用于驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)4'向上移動(dòng)或者向下移動(dòng)；電荷耦合元件支架6'，位于探測(cè)窗3'除探測(cè)窗3'內(nèi)側(cè)以 外的其他側(cè)面，用于承載終點(diǎn)探測(cè)窗口 2，中的各個(gè)部件。
[0034] 可選的，上述探測(cè)窗3'可以為石英窗。
[0035] 可選的，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'的面積大于等于刻蝕腔1'中開口 1"(參見 圖2中橢圓虛線框所示位置）的面積，以使得在刻蝕終點(diǎn)到達(dá)時(shí)，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 4'能夠完全遮擋探測(cè)窗3'，從而避免了過刻過程中刻蝕氣體以及刻蝕生成物對(duì)探測(cè)窗 3/造成的腐蝕，達(dá)到保護(hù)探測(cè)窗3'的目的，進(jìn)而提高了刻蝕裝置的稼動(dòng)率以及保證了刻 蝕終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn)確性。
[0036] 可選的，上述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'可以為一個(gè)閥門。此時(shí)，當(dāng)刻蝕終點(diǎn)到達(dá) 時(shí)，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'關(guān)閉；當(dāng)刻蝕過程 結(jié)束后，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'打開。
[0037] 可選的，參閱圖2所示，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'位于電荷耦合元件支架6'內(nèi) 偵牝且終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'固定在電荷耦合元件支架6'外側(cè)，終點(diǎn)探測(cè)窗 口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'和終端探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'之間為電荷耦合元件支架6'的底 板（如圖2中底板6")。
[0038] 可選的,參閱圖2所示，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'與終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng) 裝置5'之間還包括驅(qū)動(dòng)桿7'，且驅(qū)動(dòng)桿7'穿過電荷耦合元件支架6'中固定終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'的底板6"，用于在終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'的作 用下驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上移動(dòng)或者向下移動(dòng)，以使終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 4/完全遮擋或者不遮擋探測(cè)窗3'。其中，上述驅(qū)動(dòng)桿7'可以為一個(gè)可伸縮桿狀結(jié)構(gòu)， 通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)該驅(qū)動(dòng)桿7'伸長(zhǎng)或者縮短，以使終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上或者向下移動(dòng)；驅(qū)動(dòng)桿7'還可以為一個(gè)不可伸縮桿狀結(jié)構(gòu)，驅(qū)動(dòng)桿 V的一部分位于終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'中，通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng) 裝置5'驅(qū)動(dòng)該驅(qū)動(dòng)桿7'伸出或者收回，以使終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上或者向下移 動(dòng)。
[0039] 請(qǐng)參閱圖3，為本發(fā)明實(shí)施例一中圖2所示刻蝕裝置沿AA'方向的截面結(jié)構(gòu)示意 圖。如圖3所示，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'與電荷耦合元件支架6'之間還包括 密封圈8'，且密封圈8'環(huán)繞驅(qū)動(dòng)桿7'的四周。
[0040] 可選的，在終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'中固定在電荷耦合元件支架6' 的側(cè)面上設(shè)置一個(gè)密封圈8'相匹配的凹槽，將密封圈8'置于該凹槽中，且密封圈8'略 高于凹槽所在的側(cè)面。其中，密封圈8'的形狀可以為環(huán)狀，可以為矩形，也可以為不規(guī)則圖 形。采用上述技術(shù)方案，在終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'和電荷耦合元件支架6'之 間設(shè)置密封圈8'，且密封圈8'環(huán)繞驅(qū)動(dòng)桿7'，使刻蝕腔1'、電荷耦合元件支架6'以 及探測(cè)窗3'組成的結(jié)構(gòu)為密封結(jié)構(gòu)，從而防止刻蝕腔1'漏氣，保證了刻蝕過程的順利進(jìn) 行。
[0041] 可選的,參閱圖3所示,在電荷稱合元件支架6'上還包括導(dǎo)軌9'，導(dǎo)軌9'位于 電荷稱合元件支架6'上與終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'的aa'邊以及bb'邊相對(duì)應(yīng)的位 置，用于使終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'沿著預(yù)設(shè)軌跡向上或者向下移動(dòng)。
[0042] 請(qǐng)參閱圖4，為本發(fā)明實(shí)施例一中圖3所示刻蝕裝置沿BB'方向的俯視結(jié)構(gòu)示意 圖。如圖4所示，驅(qū)動(dòng)桿7'截面面積小于終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'的截面面 積，具體驅(qū)動(dòng)桿7'的截面面積與終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'的截面面積之間的 比例根據(jù)驅(qū)動(dòng)桿7'的硬度，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'的質(zhì)量，以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)4'在移動(dòng)過程中受到的摩擦力確定，即驅(qū)動(dòng)桿7'的截面面積設(shè)置原則為足以驅(qū)動(dòng)終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上或者向下移動(dòng)。
[0043] 請(qǐng)參閱圖5，為本發(fā)明實(shí)施例一中提供的刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖二。如圖5所 示，刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'，位于終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū) 動(dòng)裝置5'上，用于手動(dòng)控制終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上移動(dòng)或者向下移動(dòng)。當(dāng)刻蝕裝 置無法獲取到刻蝕終點(diǎn)到達(dá)信號(hào)時(shí)，可以通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'使終點(diǎn) 探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'打開或者關(guān)閉終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4';或者，當(dāng)需要臨 時(shí)打開或關(guān)閉終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，如需要打開刻蝕腔1'執(zhí)行保養(yǎng)或者故障處理 等相關(guān)操作時(shí)，可以通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'使終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū) 動(dòng)裝置5'打開或者關(guān)閉終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'。較佳的，刻蝕裝置可以包含兩個(gè)終點(diǎn) 探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'，一個(gè)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕用于控制終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向下移動(dòng)，另一個(gè)終點(diǎn)探測(cè)窗 口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕用于控制終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù) 結(jié)構(gòu)4'向上移動(dòng)；此外，上述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'還可以具有微調(diào)功能。
[0044] 可選的，在電荷耦合元件支架底板6"，上增加密封裝置，使終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)4'到達(dá)電荷耦合元件支架底板6"，時(shí)，能夠與電荷耦合元件支架底板6"，緊密貼 合，從而保證刻蝕腔1'中的刻蝕氣體以及刻蝕生成物無法泄漏至終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 4/外側(cè)，從而保護(hù)探測(cè)窗3'避免受到腐蝕。
[0045] 請(qǐng)參閱圖6，為本發(fā)明實(shí)施例一中提供的刻蝕裝置截面結(jié)構(gòu)示意圖三。如圖6所 示，刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位置檢測(cè)裝置11'，用于檢測(cè)終點(diǎn)探測(cè)窗口保 護(hù)結(jié)構(gòu)4'是否完全遮擋探測(cè)窗3'。
[0046] 采用上述技術(shù)方案，在刻蝕裝置中增加終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，當(dāng)刻蝕終點(diǎn)到 達(dá)時(shí)，通過該終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'完全遮擋探測(cè)窗3'，縮短了探測(cè)窗3'與刻蝕氣 體以及刻蝕生成物的接觸時(shí)間，延長(zhǎng)了探測(cè)窗3'的使用壽命，有效提高了刻蝕裝置的稼動(dòng) 性；并且，由于通過探測(cè)窗3'將刻蝕過程中生成的光信號(hào)傳遞至其他設(shè)備，由其他設(shè)備檢 測(cè)刻蝕終點(diǎn)，因此，使探測(cè)窗3'避免受到腐蝕能夠有效提高刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn)確性，保證 刻蝕過程的穩(wěn)定性；此外，在刻蝕裝置中增加手動(dòng)按鈕10'，當(dāng)刻蝕裝置出現(xiàn)異常無法獲 取刻蝕終點(diǎn)時(shí)，或者需要臨時(shí)打開或關(guān)閉刻蝕裝置時(shí)，能夠通過手動(dòng)按鈕10'控制終點(diǎn)探 測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，使探測(cè)窗3'在任何情況下都不受刻蝕氣體以及刻蝕生成物的腐蝕， 具有更強(qiáng)的可操作性。
[0047] 實(shí)施例二
[0048] 請(qǐng)參閱圖7，為本發(fā)明實(shí)施例二中提供的刻蝕系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。如圖7所示，刻蝕 系統(tǒng)包括刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)，以及如實(shí)施例一中所述的刻蝕裝置；其中：刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系 統(tǒng)包括電荷耦合元件12'，信號(hào)處理裝置13'，以及刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'。
[0049] 具體的，電荷耦合元件12'位于刻蝕裝置中的電荷耦合元件支架6'上，用于將 刻蝕裝置在刻蝕過程中產(chǎn)生的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)；信號(hào)處理裝置13'，與電荷耦合 元件12'連接，用于將上述模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號(hào)；刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'，與信 號(hào)處理裝置13'連接，用于實(shí)時(shí)監(jiān)控信號(hào)處理裝置13'發(fā)送的數(shù)字電信號(hào)的變化量，并根 據(jù)該數(shù)字電信號(hào)的變化量確定刻蝕終點(diǎn)是否到達(dá)。
[0050] 可選的，刻蝕裝置中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'與刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備 14'電連接，接收刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'發(fā)送的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)信號(hào)。
[0051] 可選的，上述信號(hào)處理裝置13'可以通過電流/頻率（I/F)回路實(shí)現(xiàn)，刻蝕終點(diǎn)檢 測(cè)設(shè)備14'可以通過計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)。
[0052] 采用上述技術(shù)方案，通過終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'保護(hù)探測(cè)窗3'避免受到刻 蝕氣體已經(jīng)刻蝕生成物的腐蝕，使刻蝕過程中產(chǎn)生的光信號(hào)能夠順利透?jìng)髦量涛g終點(diǎn)檢測(cè) 設(shè)備14'，從而保證了刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
[0053] 實(shí)施例三
[0054] 基于上述刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)，本發(fā)明實(shí)施例提供一種刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法，用于探 測(cè)刻蝕裝置中正在進(jìn)行的刻蝕過程的刻蝕終點(diǎn)，參閱圖7所示，該刻蝕裝置包括設(shè)置有終 點(diǎn)探測(cè)窗口 2'的刻蝕腔1'，且終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'包括探測(cè)窗3'，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu) 4'以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'，參閱圖8所示，探測(cè)刻蝕裝置中進(jìn)行的刻蝕 過程終點(diǎn)的過程包括：
[0055] 步驟800:從終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'探測(cè)刻蝕腔1'內(nèi)刻蝕過程中所發(fā)射的光，并轉(zhuǎn)換 為電信號(hào)。
[0056] 本發(fā)明實(shí)施例中，參閱圖7所示，終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'將刻蝕腔1'內(nèi)刻蝕過程中所 發(fā)射的光進(jìn)行透?jìng)鳎煽涛g終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)中的電荷耦合元件12'接收到終點(diǎn)探測(cè)窗口 2' 透?jìng)鞯墓?，并將該光轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)；由刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)中的信號(hào)處理裝置13'將電 荷耦合元件12'發(fā)送的模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號(hào)。
[0057] 步驟810 :根據(jù)上述電信號(hào)判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)。
[0058] 本發(fā)明實(shí)施例中，刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)中的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'根據(jù)信號(hào)處理裝 置13'發(fā)送的數(shù)字電信號(hào)的變化量檢測(cè)是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)。
[0059] 步驟820 :若達(dá)到刻蝕終點(diǎn)，終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝 置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'遮擋探測(cè)窗3'。
[0060] 本發(fā)明實(shí)施例中，當(dāng)刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'檢測(cè)到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)，刻蝕終點(diǎn)檢測(cè) 設(shè)備14'向刻蝕裝置發(fā)送刻蝕終點(diǎn)到達(dá)信號(hào)；刻蝕裝置接收到該刻蝕終點(diǎn)到達(dá)信號(hào)時(shí)，終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'遮擋探測(cè)窗3'。
[0061] 可選的，刻蝕裝置中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'與刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備 14'電連接，接收刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備14'發(fā)送的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)信號(hào)。
[0062] 可選的，參閱圖7所示，刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'，位 于終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'上；當(dāng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕10'接收到 用戶輸入的關(guān)閉指令時(shí)，由終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'根據(jù)上述關(guān)閉指令，關(guān)閉終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'。
[0063] 可選的，刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位置檢測(cè)裝置11';當(dāng)終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位置檢測(cè)裝置11'檢測(cè)到終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'到達(dá)指定位置時(shí)，指示 終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'停止關(guān)閉終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'。
[0064] 采用本發(fā)明提供的刻蝕系統(tǒng)，改善刻蝕過程中刻蝕氣體對(duì)探測(cè)窗的腐蝕，以及降 低刻蝕生成物的附著，延長(zhǎng)了探測(cè)窗的使用壽命（如探測(cè)窗的使用壽命可以由可以刻蝕出 800片產(chǎn)品延長(zhǎng)至8000片產(chǎn)品），有效降低了設(shè)備維護(hù)成本；并且，當(dāng)對(duì)探測(cè)窗進(jìn)行維護(hù)保 養(yǎng)時(shí)，可手動(dòng)操作終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)關(guān)閉探測(cè)窗口，無需打開刻蝕腔，從而不破壞刻蝕 腔中的真空環(huán)境，有效提高了設(shè)備稼動(dòng)率，提高了產(chǎn)能。此外，請(qǐng)參閱圖9，為本發(fā)明實(shí)施例 中探測(cè)窗未受到腐蝕以及受到腐蝕后分別對(duì)應(yīng)的光信號(hào)變化情況示意圖，由圖9可見，當(dāng) 探測(cè)窗受到腐蝕后，能夠使刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備檢測(cè)的光強(qiáng)強(qiáng)度變化量出現(xiàn)誤差，從而影響 到刻蝕終點(diǎn)的準(zhǔn)確定位，而采用本發(fā)明提供的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)能夠保護(hù)探測(cè)窗不受 刻蝕氣體以及刻蝕過程的腐蝕，保證了刻蝕終點(diǎn)定位的準(zhǔn)確性。
[0065] 綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例中，刻蝕裝置包括刻蝕腔r，且刻蝕腔r包括終點(diǎn)探 測(cè)窗口 2'，終點(diǎn)探測(cè)窗口 2'包括探測(cè)窗3'、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，終點(diǎn)探測(cè)窗口 保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5';其中，終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'，位于探測(cè)窗3'內(nèi)側(cè)，用于在刻 蝕過程到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)遮擋探測(cè)窗3';終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置5'，與終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'連接，用于驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)4'向上移動(dòng)或者向下移動(dòng)。采用 本發(fā)明技術(shù)方案，在刻蝕裝置的終點(diǎn)探測(cè)窗口中添加終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，當(dāng)刻蝕裝置中進(jìn)行的刻蝕過程的刻蝕終點(diǎn)到達(dá)時(shí)，通過終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋探測(cè)窗，從而保護(hù)了探測(cè)窗不受過 刻過程中刻蝕氣體的腐蝕，延長(zhǎng)了探測(cè)窗的使用壽命，保證了終點(diǎn)檢測(cè)的準(zhǔn)確性，提高了刻 蝕裝置的稼動(dòng)率。
[0066] 盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造 性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu) 選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0067] 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā) 明實(shí)施例的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明實(shí)施例的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求 及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種刻蝕裝置，包括刻蝕腔，所述刻蝕腔包括終點(diǎn)探測(cè)窗口 ；其中： 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口包括探測(cè)窗、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū) 動(dòng)裝置； 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)，位于所述探測(cè)窗內(nèi)側(cè)，用于到達(dá)刻蝕終點(diǎn)時(shí)遮擋所述探 測(cè)窗; 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，與所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)連接，用于驅(qū)動(dòng) 所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)的打開或關(guān)閉。
2.如權(quán)利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按 鈕，位于所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置上，用于手動(dòng)控制所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)的打開或者關(guān)閉。
3.如權(quán)利要求1或2所述的刻蝕裝置，其特征在于，還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位置 檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)是否完全遮擋所述探測(cè)窗。
4.如權(quán)利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，還包括電荷耦合元件支架，位于所述探 測(cè)窗中除所述探測(cè)窗內(nèi)側(cè)以外的其他側(cè)面。
5.如權(quán)利要求4所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位于所述 電荷耦合元件支架內(nèi)側(cè)，且所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述電荷耦合元件 支架外側(cè)。
6.如權(quán)利要求4所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)與所述終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置之間還包括驅(qū)動(dòng)桿，所述驅(qū)動(dòng)桿穿過所述電荷稱合元件支架 中固定所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置的底板，所述驅(qū)動(dòng)桿用于在所述終點(diǎn)探測(cè)窗口 保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置的作用下驅(qū)動(dòng)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)移動(dòng)以完全遮擋或者不遮擋 所述探測(cè)窗。
7.如權(quán)利要求6所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置 與所述電荷耦合元件支架之間還包括密封圈，且所述密封圈環(huán)繞所述驅(qū)動(dòng)桿的四周，用于 保證所述刻蝕腔為密封狀態(tài)。
8. 一種刻蝕系統(tǒng)，包括如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的刻蝕裝置，以及刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系 統(tǒng)，其中： 所述刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)包括信號(hào)處理裝置，以及電荷耦合元件； 所述電荷耦合元件，位于所述刻蝕裝置中的電荷耦合元件支架上，用于將所述刻蝕裝 置在刻蝕過程中產(chǎn)生的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)； 所述信號(hào)處理裝置，與所述電荷耦合元件連接，用于將所述模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電 信號(hào)。
9.如權(quán)利要求8所述的刻蝕系統(tǒng)，其特征在于，所述刻蝕終點(diǎn)探測(cè)系統(tǒng)還包括刻蝕終 點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備，與所述信號(hào)處理裝置連接，用于實(shí)時(shí)探測(cè)所述信號(hào)處理裝置發(fā)送的數(shù)字電信 號(hào)的變化量，并根據(jù)所述數(shù)字電信號(hào)的變化量，檢測(cè)是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)。
10.如權(quán)利要求9所述的刻蝕系統(tǒng)，其特征在于，所述刻蝕裝置中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù) 結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置與所述刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備電連接，接收所述刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)設(shè)備發(fā)送的刻蝕終 點(diǎn)到達(dá)信號(hào)。
11. 一種刻蝕終點(diǎn)探測(cè)方法，用于探測(cè)刻蝕裝置的刻蝕終點(diǎn)，所述刻蝕裝置包括設(shè)置有 終點(diǎn)探測(cè)窗口的刻蝕腔，且所述終點(diǎn)探測(cè)窗口包括探測(cè)窗、終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)以及終 點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置，所述方法包括： 從所述終點(diǎn)探測(cè)窗口探測(cè)所述刻蝕腔內(nèi)刻蝕過程中所發(fā)射的光，并轉(zhuǎn)換為電信號(hào)； 根據(jù)所述電信號(hào)判斷是否到達(dá)刻蝕終點(diǎn)； 若達(dá)到刻蝕終點(diǎn)，所述終點(diǎn)探測(cè)窗口中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述終 點(diǎn)探測(cè)窗口中的終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋所述探測(cè)窗。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù) 結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕，位于所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置上； 當(dāng)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)手動(dòng)按鈕接收到用戶發(fā)送的關(guān)閉指令時(shí)，所述終點(diǎn)探測(cè) 窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置根據(jù)所述關(guān)閉指令，驅(qū)動(dòng)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)遮擋所述探測(cè) 窗。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述刻蝕裝置還包括終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù) 結(jié)構(gòu)位置檢測(cè)裝置； 當(dāng)所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)位置檢測(cè)裝置檢測(cè)到所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)到達(dá) 指定位置時(shí)，指示所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)裝置停止關(guān)閉所述終點(diǎn)探測(cè)窗口保護(hù)結(jié) 構(gòu)。
【文檔編號(hào)】H01J37/32GK104217916SQ201410412719
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2014年8月20日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月20日
【發(fā)明者】庹文平, 左志剛 申請(qǐng)人:上海天馬有機(jī)發(fā)光顯示技術(shù)有限公司, 天馬微電子股份有限公司