一種分析裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種分析裝置,包括真空腔、電極組、離子傳輸單元、質(zhì)量分析單元和控制單元,其特點(diǎn)是:所述真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源;所述分析裝置還包括隔斷單元,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷;所述控制單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式,以實(shí)現(xiàn)在不同的電離源工作模式下相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。本發(fā)明還提供了一種分析方法。本發(fā)明具有檢測范圍寬、不同工作模式間切換便捷等優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】一種分析裝置及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種分析裝置及方法,尤其是色譜-質(zhì)譜聯(lián)用分析裝置及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液相-色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀器(LC-MS) —般配置大氣壓電離源,包括大氣壓電離源如電噴霧電離源(ESI)、大氣壓化學(xué)電離源(APCI),有些儀器還配置有解吸附電噴霧電離源(DESI)、直接實(shí)時(shí)分析電離源(DART)等。ESI用于難揮發(fā)性有機(jī)物及大分子量有機(jī)物分析,APCI源用于極性小分子有機(jī)物分析,解吸附電噴霧電離源(DESI)、直接實(shí)時(shí)分析電離源(DART)可以簡化樣品前處理,直接對樣品進(jìn)行分析,這幾種電離源均工作于大氣壓條件,主要得到分子離子峰。氣相-色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀器(GC-MS) —般配置電子電離源,有些儀器配置紫外電離源,電子電離源(EI)和紫外電離源為真空電離源,工作于真空條件,其可獲得碎片離子峰,通過譜庫檢索,可以對未知物進(jìn)行定性分析,一般用于GC-MS儀器。
[0003]質(zhì)譜儀器如果能同時(shí)使用真空電離源和大氣壓電離源,將使質(zhì)譜儀器與GC儀器、LC儀器同時(shí)聯(lián)用成為可能,將提升質(zhì)譜儀器的分析能力和應(yīng)用領(lǐng)域,將提升質(zhì)譜儀器的利用率,降低用戶質(zhì)譜設(shè)備購置成本。國外廠商已經(jīng)在EI和ESI混合電離源開展了研究,Varian公司(現(xiàn)在被Agilent收購)推出300系列LC-MS儀器,該儀器質(zhì)量分析器部分共用,EI源和ESI源為模塊化設(shè)計(jì),EI源和ESI源有自己獨(dú)立的六極桿,可連同六極桿整體進(jìn)行替換。該儀器雖然能支持模塊化設(shè)計(jì)的EI源和ESI源,但無法同時(shí)安裝EI源和ESI源模塊,用戶只能選擇安裝其中之一。更換模塊時(shí),安裝時(shí)需要先卸掉真空,安裝模塊,然后再抽真空進(jìn)行分析,操作較為復(fù)雜。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述不足,本發(fā)明提供了一種檢測范圍寬、不同工作模式間切換便捷的分析裝置及方法。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0006]一種分析裝置,包括真空腔、電極組、離子傳輸單元、質(zhì)量分析單元和控制單元,其特點(diǎn)是:
[0007]所述真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源;所述電離源用于產(chǎn)生待分析離子,對離子束進(jìn)行聚焦和整形,并且控制離子通斷;
[0008]所述分析裝置還包括隔斷單元,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷;
[0009]所述控制單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式,以實(shí)現(xiàn)在不同的電離源工作模式下相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測;
[0010]電極組用于實(shí)現(xiàn)對不同方位入射離子的偏轉(zhuǎn);離子傳輸單元用于接收偏轉(zhuǎn)透鏡的偏轉(zhuǎn)離子,并將離子傳輸給質(zhì)量分析單元;質(zhì)量分析單元用于分離和檢測離子。
[0011]作為優(yōu)選,所述隔斷單元包括但不限于插板閥、球閥。
[0012]作為優(yōu)選,所述至少兩個(gè)電離源為真空電離源或大氣壓電離源。
[0013]作為優(yōu)選,所述電極組為靜電偏轉(zhuǎn)透鏡組或射頻偏轉(zhuǎn)透鏡組。
[0014]作為優(yōu)選,所述電極組的每塊電極為內(nèi)表面為雙曲面的電極片或平面片狀電極片。
[0015]作為優(yōu)選,所述至少兩個(gè)電離源的離子光學(xué)軸重合或垂直。
[0016]作為優(yōu)選,所述離子傳輸單元為六級桿或離子漏斗。
[0017]作為優(yōu)選,所述大氣壓電離源包括但不限于電噴霧電離源、大氣壓化學(xué)電離源、解吸附電噴霧電離源、直接實(shí)時(shí)分析電離源。
[0018]作為優(yōu)選,所述真空電離源包括但不限于電子電離源、真空紫外電離源。
[0019]本發(fā)明還提供了一種分析方法,包括以下步驟:
[0020]A、真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源;
[0021]選擇工作電離源,工作電離源和其離子出口均處于開啟狀態(tài);非工作電離源和其離子出口均處于關(guān)閉狀態(tài);
[0022]B、工作電離源產(chǎn)生的離子通過其離子出口進(jìn)入真空腔,依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。
[0023]進(jìn)一步,采用上述任一所述的分析裝置進(jìn)行分析,其中,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源的離子出口的開啟與關(guān)閉,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷。
[0024]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下有益效果:
[0025]1、不同的電離源可同時(shí)安裝于一臺儀器,擴(kuò)充了同一臺質(zhì)譜儀器的應(yīng)用范圍;
[0026]2、不同的電離源之間不需要卸真空僅通過控制隔斷單元即可實(shí)現(xiàn)切換,更換速度快;
[0027]3、不同的電離源處于不同的工作區(qū)域,相互獨(dú)立,不存在相互干擾;
[0028]4、離子傳輸路徑為離軸設(shè)計(jì),降低了中性粒子的干擾;
[0029]5、通過在真空腔內(nèi)安裝真空電離源和大氣壓電離源,選擇不同的工作模式,控制真空電離源和大氣壓電離源的通斷,實(shí)現(xiàn)了離子-離子反應(yīng)和分子離子反應(yīng)等功能。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0030]圖1為實(shí)施例2中分析裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
[0031]圖2為實(shí)施例3中分析裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
[0032]圖3為實(shí)施例4中分析裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0033]實(shí)施例1
[0034]一種分析裝置,包括真空腔、隔斷單元、電極組、離子傳輸單元、質(zhì)量分析單元和控制人員單元;
[0035]所述真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源;所述電離源用于產(chǎn)生待分析離子,對離子束進(jìn)行聚焦和整形,并且通過電路控制離子通斷;
[0036]作為優(yōu)選,所述至少兩個(gè)電離源為真空電離源或大氣壓電離源。
[0037]液相-色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀器(LC-MS) —般配置大氣壓電離源,所述大氣壓電離源如電噴霧電離源(ESI)、大氣壓化學(xué)電離源(APCI),有些儀器還配置有解吸附電噴霧電離源(DESI)、直接實(shí)時(shí)分析電離源(DART)等。ESI用于難揮發(fā)性有機(jī)物及大分子量有機(jī)物分析,APCI源用于極性小分子有機(jī)物分析,解吸附電噴霧電離源(DESI)、直接實(shí)時(shí)分析電離源(DART)可以簡化樣品前處理,直接對樣品進(jìn)行分析,這幾種電離源均工作于大氣壓條件,主要得到分子離子峰。
[0038]氣相-色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀器(GC-MS) —般配置電子電離源,有些儀器配置紫外電離源,電子電離源(EI)和紫外電離源為真空電離源,工作于真空條件,其可獲得碎片離子峰,通過譜庫檢索,可以對未知物進(jìn)行定性分析,一般用于GC-MS儀器。
[0039]所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷;
[0040]所述控制單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式,以實(shí)現(xiàn)在不同的電離源工作模式下相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測;
[0041]電極組用于實(shí)現(xiàn)對不同方位入射離子的偏轉(zhuǎn);離子傳輸單元用于接收偏轉(zhuǎn)透鏡的偏轉(zhuǎn)離子,并將離子傳輸給質(zhì)量分析單元;質(zhì)量分析單元用于分離和檢測離子。
[0042]作為優(yōu)選,所述隔斷單元包括但不限于插板閥、球閥。
[0043]作為優(yōu)選,所述電極組為靜電偏轉(zhuǎn)透鏡組或射頻偏轉(zhuǎn)透鏡組。
[0044]作為優(yōu)選,所述電極組的每塊電極為內(nèi)表面為雙曲面的電極片或平面片狀電極片。
[0045]對所述至少兩個(gè)電離源的離子光學(xué)軸不加限定,只要從相應(yīng)電離源出射的離子能夠通過電極組偏轉(zhuǎn)進(jìn)入離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行分析即可。
[0046]作為優(yōu)選,所述至少兩個(gè)電離源的離子光學(xué)軸重合或垂直。
[0047]作為優(yōu)選,所述離子傳輸單元為六級桿或離子漏斗。
[0048]本發(fā)明還提供了一種分析方法,包括以下步驟:
[0049]A、真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源;
[0050]選擇工作電離源,工作電離源和其離子出口均處于開啟狀態(tài);非工作電離源和其離子出口均處于關(guān)閉狀態(tài);離子出口設(shè)定為離子從電離源至真空腔的連接口,本發(fā)明的離子出口可以理解為隔斷單元設(shè)置在相應(yīng)電離源與電極組之間的隔斷模塊;
[0051]B、工作電離源產(chǎn)生的離子通過其離子出口進(jìn)入真空腔,依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。
[0052]進(jìn)一步,采用上述任一所述的分析裝置進(jìn)行分析,其中,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源的離子出口的開啟與關(guān)閉,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷。
[0053]不同的電離源可同時(shí)安裝于一臺儀器,擴(kuò)充了同一臺質(zhì)譜儀器的應(yīng)用范圍;
[0054]不同的電離源之間不需要卸真空僅通過控制隔斷單元即可實(shí)現(xiàn)切換,更換速度快;
[0055]不同的電離源處于不同的工作區(qū)域,相互獨(dú)立,不存在相互干擾;
[0056]離子傳輸路徑為離軸設(shè)計(jì),降低了中性粒子的干擾;
[0057]通過在真空腔內(nèi)安裝真空電離源和大氣壓電離源,選擇不同的工作模式,控制真空電離源和大氣壓電離源的通斷,實(shí)現(xiàn)了離子-離子反應(yīng)和分子離子反應(yīng)等功能。
[0058]實(shí)施例2
[0059]本實(shí)施例是實(shí)施例1的應(yīng)用例。
[0060]本應(yīng)用例提供了一種分析裝置,請參閱圖1,所述分析裝置包括大氣壓電離源1、真空電離源2、電極組3、隔斷單元、離子傳輸單元5、質(zhì)量分析單元6。
[0061]其中,所述大氣壓電離源I為ESI源,所述真空電離源2為EI源,ESI源模塊I和EI源模塊2垂直安裝于真空腔體兩側(cè)且相對設(shè)置,與質(zhì)量分析單元6的質(zhì)量分析器61的主離子光學(xué)軸成90度;ESI源模塊I和EI源模塊2的離子光學(xué)軸重合。
[0062]ESI源包括噴霧毛細(xì)管11、霧化氣12、霧化氣管13、樣品錐14、提取錐15和ESI源殼體等。EI源包括燈絲21、提取透鏡22、聚焦透鏡23、出口透鏡24、推斥極25和電離源盒20,EI源模塊整體處于真空中,真空度小于10-4Torr,真空由配套的真空系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。ESI源、EI源的相應(yīng)結(jié)構(gòu)為本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù),在此不再贅述。
[0063]電極組3由D31、D32、D33、D34四組內(nèi)表面為雙曲面的電極組成,電極上加載直流電壓。
[0064]隔斷單元為隔斷模塊41和隔斷模塊42,所述隔斷模塊41和隔斷模塊42分別設(shè)置在ESI源與電極組3之間、EI源與電極組3之間。所述隔斷模塊41和隔斷模塊42均為插板閥。
[0065]離子傳輸單兀5包括六極傳輸桿51和透鏡52,六級傳輸桿51用于傳輸和聚焦離子,通過選擇合適的驅(qū)動電壓,六級傳輸桿51能高效傳輸和聚焦ESI源產(chǎn)生的離子。透鏡52用于聚焦離子并緩解質(zhì)譜檢測器的邊緣場效應(yīng),提高離子的傳輸效率。
[0066]質(zhì)量分析單元6包括質(zhì)量分析器61和檢測器62,其中質(zhì)量分析器61為四級桿質(zhì)量分析器。
[0067]工作過程如下:
[0068]A、需要選擇工作電離源,工作電離源和其離子出口均處于開啟狀態(tài);非工作電離源和其離子出口均處于關(guān)閉狀態(tài);
[0069]在不同的電離源工作模式下,隔斷單元實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源的離子出口的開啟與關(guān)閉,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷;
[0070]B、工作電離源產(chǎn)生的離子通過其離子出口進(jìn)入真空腔,依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測;
[0071]即:
[0072]控制單元選擇ESI源為工作電離源,并控制ESI源工作,在ESI源工作模式下,噴霧毛細(xì)管11上加載3000V高壓(VII),液體樣品從噴霧毛細(xì)管11流出后,大氣壓下的溶液在噴霧氣12的作用下,形成帶電小液滴,隨著溶劑的蒸發(fā),帶電小液滴轉(zhuǎn)變成帶電粒子。樣品錐14和提取錐15與配套的真空系統(tǒng)形成大氣壓-真空采樣接口,樣品錐14和提取錐15真空度為幾Torr,帶電粒子經(jīng)過兩錐采樣后,部分離子穿過隔斷模塊41,經(jīng)過提取透鏡17,到達(dá)電極組3。提取透鏡17用于壓縮離子并控制離子的通斷。此時(shí),控制人員單元控制隔斷模塊42關(guān)閉,出口透鏡24關(guān)閉,EI源處于關(guān)閉狀態(tài)。ESI源的工作過程為本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù),在此不再贅述。
[0073]通過選擇合適的電極組D31、D32、D33、D34電極電壓組合,從ESI源出射的離子被電極組3偏轉(zhuǎn)90度,到達(dá)六級傳輸桿51。從六極傳輸桿51出射的離子,經(jīng)過透鏡52達(dá)到質(zhì)量分析器61進(jìn)行分析。質(zhì)量分析器61上加載射頻驅(qū)動電壓,用于將目標(biāo)離子按照質(zhì)量順序依次分離,分離后的離子到達(dá)檢測器62被檢測。
[0074]控制單元選擇EI源為工作電離源,并控制EI源工作,在EI源工作模式下,給燈絲21加載驅(qū)動電流,燈絲發(fā)射大量電子,在電離源盒內(nèi),電子將樣品電離后形成帶電離子;推斥極25加載電壓V21,提取透鏡22加載電壓V23,推斥極25用于將電離源盒產(chǎn)生的離子推到提取透鏡22處,提取透鏡22用于將離子從產(chǎn)生離子的電離源盒20提取出來,在提取透鏡22和推斥極25的共同作用下,電離源盒產(chǎn)生的離子達(dá)到聚焦透鏡23,聚焦透鏡23加載電壓V24,用來將離子在徑向進(jìn)行壓縮和聚焦;聚焦后的離子穿過隔斷模塊42后,再經(jīng)過出口透鏡24,到達(dá)電極組3。此時(shí),控制人員單元控制隔斷模塊41關(guān)閉,提取透鏡17關(guān)閉,ESI源處于關(guān)閉狀態(tài)。EI源的工作過程為本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù),在此不再贅述。
[0075]通過選擇合適的電極組D31、D32、D33、D34電極電壓組合,從EI源出射的離子被電極組3偏轉(zhuǎn)90度,到達(dá)六極傳輸桿51。從六極傳輸桿51出射的離子,經(jīng)過透鏡52達(dá)到質(zhì)量分析器61進(jìn)行分析。質(zhì)量分析器61上加載射頻驅(qū)動電壓,用于將目標(biāo)離子按照質(zhì)量順序依次分離,分離后的離子到達(dá)檢測器62被檢測。
[0076]本實(shí)施例,大氣壓電離源和真空電離源同時(shí)安裝在真空腔體上,通過插板閥選擇采用EI源還是ESI源。EI源和ESI源獨(dú)立工作,相互之間不存在干擾。電極組3上所加載的直流電壓根據(jù)所分析的樣品進(jìn)行優(yōu)化,確保最高的傳輸效率。
[0077]實(shí)施例3
[0078]本實(shí)施例是實(shí)施例1的應(yīng)用例。
[0079]本實(shí)施例與實(shí)施例2不同的是:請參閱圖2,本實(shí)施例的大氣壓電離源101為APCI電離源,電極組30采用D301、D302、D303、D304平面片狀電極;離子傳輸單元50包括離子漏斗501,離子漏斗501用于傳輸和聚焦離子,通過選擇合適的驅(qū)動電壓,離子漏斗5能高效傳輸和聚焦APCI源產(chǎn)生的離子。質(zhì)量分析單元60包括飛行時(shí)間質(zhì)量分析器601,飛行時(shí)間質(zhì)量分析器601包括離子提取和加速模塊602,離子飛行區(qū)603和離子反射器604等。離子經(jīng)過離子提取和加速模塊602選擇和加速后,進(jìn)入到離子飛行區(qū)603,在飛行區(qū)603內(nèi),離子按照質(zhì)量數(shù)的大小依次分離達(dá)到檢測器,離子反射器604的作用是增加離子飛行距離,提升質(zhì)譜分辨率。
[0080]APCI源包括噴霧毛細(xì)管11、放電針102、樣品錐14、提取錐15和APCI源殼體等。
[0081]控制人員單元選擇APCI源為工作電離源,并控制APCI源工作,在APCI源工作模式下,放電針102加載1000V高壓(Vll),氣體樣品從噴霧毛細(xì)管11流出后,大氣壓下的氣體分子樣品,在放電針的作用下發(fā)生電離,轉(zhuǎn)變成帶電粒子。樣品錐14和提取錐15與配套的真空系統(tǒng)形成大氣壓-真空采樣接口,帶電粒子經(jīng)過兩錐采樣后,部分離子穿過隔斷模塊41,經(jīng)過提取透鏡17,到達(dá)電極組3。在APCI源工作模式下,控制人員單元控制隔斷模塊42關(guān)閉,出口透鏡24關(guān)閉,EI源處于關(guān)閉狀態(tài)。APCI源的工作過程為本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù),在此不再贅述。
[0082]通過選擇合適的偏轉(zhuǎn)電極組0301、0302、0303、0304電極電壓組合,從APCI源出射的離子被電極組偏轉(zhuǎn)90度,到達(dá)離子漏斗501。從離子漏斗501出射的離子,經(jīng)過透鏡52達(dá)到飛行時(shí)間質(zhì)量分析器601分離并被檢測器檢測分析。
[0083]控制單元選擇EI源為工作電離源,并控制EI源工作,在EI源工作模式下,EI源產(chǎn)生的離子穿過隔斷模塊42后,再經(jīng)過出口透鏡24,到達(dá)電極組30。此時(shí),控制單元控制隔斷模塊41關(guān)閉,提取透鏡17關(guān)閉,APCI源處于關(guān)閉狀態(tài)。
[0084]通過選擇合適的電極組D301、D302、D303、D304電極電壓組合,從EI源出射的離子被電極組3偏轉(zhuǎn)90度,到達(dá)離子漏斗501。從離子漏斗501出射的離子,經(jīng)過透鏡52達(dá)到飛行時(shí)間質(zhì)量分析器601分離并被檢測器檢測分析。
[0085]實(shí)施例4
[0086]本實(shí)施例是實(shí)施例1的應(yīng)用例。
[0087]本實(shí)施例與實(shí)施例2所述的分析裝置不同的是:請參閱圖3,本實(shí)施例的真空電離源20為紫外電離源,ESI源和紫外電離源垂直安裝于真空腔體10兩側(cè),與質(zhì)量分析單元6的質(zhì)量分析器61的主離子光學(xué)軸成90度;紫外電離源包括紫外燈201、提取透鏡202、聚焦透鏡203、出口透鏡204、推斥極205和電離源盒200,紫外電離源整體處于真空中,真空度小于KT4Torr,真空由配套的真空系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。
[0088]本實(shí)施例還包括APCI源9,所述APCI源9垂直安裝于真空腔10,與質(zhì)量分析器61的主離子光學(xué)軸重合;ESI源和紫外電離源的離子光學(xué)軸重合。
[0089]隔斷單元還包括隔斷模塊43,實(shí)現(xiàn)APCI源的離子出口的開啟與關(guān)閉,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)APCI電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷,所述隔斷模塊43也是插板閥。
[0090]APCI源9包括噴霧毛細(xì)管91、放電針92、樣品錐93、提取錐94和出口透鏡95等。
[0091]紫外電離源、ESI源和APCI源同時(shí)安裝時(shí),可以選擇任何一種源工作,另外兩種源關(guān)閉;在一些特殊應(yīng)用場合,比如需要開展離子-分子反應(yīng)或者離子-離子反應(yīng)的應(yīng)用場合,可以優(yōu)化偏轉(zhuǎn)透鏡工作參數(shù),同時(shí)開啟兩個(gè)源或者三個(gè)源。
[0092]上述實(shí)施方式不應(yīng)理解為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。本發(fā)明的關(guān)鍵是:將多個(gè)電離源安裝在同一套分析儀器上,通過隔斷單元實(shí)現(xiàn)不同電離源出射的離子進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行分析。在不脫離本發(fā)明精神的情況下,對本發(fā)明做出的任何形式的改變均應(yīng)落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種分析裝置,包括真空腔、電極組、離子傳輸單元、質(zhì)量分析單元和控制單元,其特征在于: 所述真空腔內(nèi)安裝至少兩個(gè)電離源; 所述分析裝置還包括隔斷單元,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷; 所述控制人員單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式,以實(shí)現(xiàn)在不同的電離源工作模式下相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分析裝置,其特征在于:所述隔斷單元包括但不限于插板閥、球閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分析裝置,其特征在于:所述至少兩個(gè)電離源為真空電離源或大氣壓電離源。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分析裝置,其特征在于:所述電極組包括但不限于靜電偏轉(zhuǎn)透鏡組或射頻偏轉(zhuǎn)透鏡組。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分析裝置,其特征在于:所述電極組包括但不限于每塊電極為內(nèi)表面為雙曲面的電極片或平面片狀電極片。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分析裝置,其特征在于:所述離子傳輸單元包括但不限于六級桿或離子漏斗。
7.一種分析方法,包括以下步驟: A、真空腔內(nèi)設(shè)置至少兩個(gè)電離源; 選擇工作電離源,工作電離源和其離子出口均處于開啟狀態(tài);非工作電離源和其離子出口均處于關(guān)閉狀態(tài); B、工作電離源產(chǎn)生的離子通過其離子出口進(jìn)入真空腔,依次通過電極組、離子傳輸單元進(jìn)而進(jìn)入質(zhì)量分析單元進(jìn)行檢測。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的分析方法,其特征在于:采用權(quán)利要求1?6任一所述的分析裝置進(jìn)行分析,其中,所述隔斷單元與每個(gè)電離源相對應(yīng)設(shè)置在相應(yīng)電離源和電極組之間,實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源的離子出口的開啟與關(guān)閉,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)相應(yīng)電離源產(chǎn)生的離子與真空之間的通斷。
【文檔編號】H01J49/02GK104347343SQ201410521304
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月30日
【發(fā)明者】劉立鵬, 胡建坤, 鄭毅, 韓雙來, 李綱, 鄧豐濤 申請人:聚光科技(杭州)股份有限公司