一種新型ams用氣體靶錐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種新型AMS用氣體靶錐,涉及工業(yè)機(jī)械領(lǐng)域，其特征在于，包括靶錐底部和靶錐頭部，所述靶錐頭部內(nèi)設(shè)有襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)，所述襯底鈦網(wǎng)與靶錐底座通過中空通道相連接，所述襯底鈦網(wǎng)何表面鈦網(wǎng)均為80—100目，保證了靶錐本身即作為氣體反應(yīng)介質(zhì)同時作陰極的特性，即導(dǎo)電性良好，提供分布均勻的電場，同時大大降低了靶錐加工和更換的難度，而且表面的鈦網(wǎng)及鈦顆粒大大增加了反應(yīng)面積，使得反應(yīng)效率大大提升，提高了樣品在Cs+離子束流轟擊下的利用效率。
【專利說明】一種新型AMS用氣體靶錐

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及工業(yè)機(jī)械領(lǐng)域，具體涉及一種新型AMS用氣體靶錐。

【背景技術(shù)】
[0002]加速器質(zhì)譜儀(AMS)是測試微量長壽命放射性核素必不可少的前沿性工具之一。與傳統(tǒng)的固體樣品測量方式相比，氣體離子源優(yōu)點(diǎn)頗多。但是，目前已有的氣體樣品靶錐主要是如圖3和圖4所示靶錐，可見靶錐鈦片嵌入靶錐中，使之在Cs+束轟擊點(diǎn)與之反應(yīng)。雖然，其看似結(jié)構(gòu)簡單，但是缺點(diǎn)也很明顯。首先，對于AMS的氣體樣品14C測量為避免交叉污染所用靶錐均為一次性的，致使嵌入式的靶錐生產(chǎn)和更換相當(dāng)不易。更為重要的是其表面均為平面使Cs+束轟擊下參與反應(yīng)Ti與CO2氣體反應(yīng)有效面積有限，大大制約了 C—(碳負(fù)離子)束流的產(chǎn)率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型目的在于提供一種大大降低了靶錐加工和更換難度，又能使得反應(yīng)效率大大提升，提高樣品在Cs+轟擊下利用效率的新型AMS用氣體樣品靶錐。
[0004]本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案為:一種新型AMS用氣體靶錐，包括靶錐底部和靶錐頭部，所述靶錐頭部內(nèi)設(shè)有襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)、所述表面鈦網(wǎng)相連接，所述襯底鈦網(wǎng)與靶錐底座通過中空通道相連接，所述襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)均為80—100目。
[0005]作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)內(nèi)設(shè)有鈦顆粒。
[0006]作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述靶錐底座上設(shè)有螺紋。
[0007]作為進(jìn)一步改進(jìn)，所述靶錐底座和靶錐頭部均為鋁合金材質(zhì)。
[0008]作為進(jìn)一步改進(jìn),所述鈦顆粒為60—80目。
[0009]有益效果:本實(shí)用新型保證了靶錐本身即作為氣體反應(yīng)介質(zhì)同時作陰極的特性，即導(dǎo)電性良好，提供分布均勻的電場，同時大大降低了靶錐加工和更換的難度，而且表面的鈦網(wǎng)及鈦顆粒大大增加了反應(yīng)面積，使得反應(yīng)效率大大提升，提高了樣品在Cs+轟擊下的利用效率；靶錐底座上設(shè)有螺紋，螺紋將此新型實(shí)用氣體樣品靶錐與原設(shè)備固/氣兩用靶底座連接后置于測量樣品裝換盤。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型的剖視圖。
[0011]圖2為本實(shí)用新型中靶錐底部和靶錐頭部的剖視圖。
[0012]圖3為【背景技術(shù)】中目前國際上通行的一種氣體樣品靶錐。
[0013]圖4為【背景技術(shù)】中目前國際上通行的另一種氣體樣品靶錐。
[0014]其中:1—靶錐底部，2—中空通道；3—螺紋；4—靶錐頭部，5—表面鈦網(wǎng)，6—鈦顆粒，7—襯底鈦網(wǎng)、8—靶錐鈦片、9—靶錐。

【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1所示:一種新型AMS用氣體靶錐，包括靶錐底部I和靶錐頭部4，所述靶錐頭部4內(nèi)設(shè)有襯底鈦網(wǎng)7和表面鈦網(wǎng)5，所述襯底鈦網(wǎng)7和表面鈦網(wǎng)5之間充填鈦顆粒6，與所述表面鈦網(wǎng)5相連接，所述襯底鈦網(wǎng)7與靶錐底部I通過中空通道2相連接，所述襯底鈦網(wǎng)7和表面鈦網(wǎng)5均為80—100目，所述襯底鈦網(wǎng)7和表面鈦網(wǎng)5之間充填鈦顆粒6其粒度為60-80目保證了靶錐本身即作為氣體反應(yīng)介質(zhì)同時作陰極的特性，即導(dǎo)電性良好，提供分布均勻的電場，同時大大降低了靶錐加工和更換的難度，而且表面鈦網(wǎng)5及鈦顆粒6大大增加了反應(yīng)面積，使得反應(yīng)效率大大提升，提高了樣品在Cs+轟擊下的利用效率。
[0016]值得注意的是，所述靶錐底部I上設(shè)有螺紋3，螺紋3將此新型實(shí)用氣體樣品靶錐與原設(shè)備固/氣兩用靶底座連接后置于測量樣品裝換盤。
[0017]在本實(shí)施例中，所述靶錐底部I和靶錐頭部4均為鋁合金材質(zhì)，所述鈦顆粒為60—80 目。
[0018]基于上述，本實(shí)用新型保證了靶錐本身即作為氣體反應(yīng)介質(zhì)同時作陰極的特性，即導(dǎo)電性良好，又分布均勻的電場；同時大大降低了靶錐加工和更換的難度而且節(jié)約使用成本；表面的鈦網(wǎng)及鈦顆粒大大增加了反應(yīng)面積，使得反應(yīng)效率大大提升，提高了樣品在Cs+轟擊下的利用效率。
[0019]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型AMS用氣體靶錐，其特征在于，包括靶錐底部和靶錐頭部，所述靶錐頭部內(nèi)設(shè)有襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)、所述襯底鈦網(wǎng)與靶錐底部通過中空通道相連接，所述襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)均為80—100目。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型AMS用氣體靶錐，其特征在于:所述襯底鈦網(wǎng)和表面鈦網(wǎng)內(nèi)設(shè)有鈦顆粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型AMS用氣體靶錐，其特征在于:所述靶錐底部上設(shè)有螺紋。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型AMS用氣體靶錐，其特征在于:所述靶錐底座和靶錐頭部均為鋁合金材質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型AMS用氣體靶錐，其特征在于:所述鈦顆粒為60—80目。
【文檔編號】H01J49/14GK203983230SQ201420263871
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年5月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月22日
【發(fā)明者】付云翀, 趙穩(wěn)年 申請人:中國科學(xué)院地球環(huán)境研究所