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用于顯示裝置的熒光層的制造方法

文檔序號(hào):2964153閱讀:255來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:用于顯示裝置的熒光層的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示裝置,且更具體地說(shuō)是涉及一種用于顯示裝置的熒光層的制造方法。
用于在顯示屏上顯示信息的一種圖象顯示裝置,包括采用熱電子發(fā)射和熒光發(fā)射的陰極光線管(CRT)、具有與CRT類似的原理且其總體形狀通常為扁平形的真空熒光顯示器(VFD)、利用液晶的電光特性的液晶顯示器(LCD)、利用充電電極之間的氣體放電現(xiàn)象的等離子體顯示板(PDP)等。
這些顯示裝置采用了紅、藍(lán)和綠熒光或用于彩色顯示器的濾色器層。
用于用于彩色顯示的熒光層,是利用例如光刻處理或印制處理而形成的。然而,光刻處理包括熒光復(fù)合物的涂覆處理和反復(fù)進(jìn)行的曝光、顯影和熱處理,因而它非常地長(zhǎng)且復(fù)雜,且經(jīng)常由于曝光和顯影處理期間的灰塵而產(chǎn)生缺陷。另外,在熒光復(fù)合物被涂覆之前,必須涂覆一種底涂覆溶液以對(duì)其進(jìn)行熱處理,以增強(qiáng)該復(fù)合物的粘合強(qiáng)度。
同時(shí),根據(jù)在諸如等離子體顯示板(PDP)的扁平顯示器或場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)中通常采用的印制方法,能夠獲得均勻的熒光膜圖案。然而,該印制方法有以下問(wèn)題。
首先,用這種方法形成的熒光圖案的厚度是不一致的(厚度偏離約20%)。
第二,由于這種印制方法是基于屏幕印制的,分辨率被限制在約80%,因而難于形成高分辨率的熒光圖案。
本發(fā)明的一個(gè)目的,是提供用于顯示裝置的熒光層制造方法,從而減少灰塵或外來(lái)物造成的缺陷并改善熒光層的分辨率。
為了實(shí)現(xiàn)該目的,提供了用于顯示裝置的熒光層制造方法,它包括以下步驟(a)設(shè)置一個(gè)施主膜,該施主膜與一個(gè)基底相隔預(yù)定的距離并由一個(gè)基膜、一個(gè)光吸收膜、一個(gè)緩沖層和一個(gè)熒光層構(gòu)成;以及,(b)用一個(gè)能量源照射該施主膜,以將一種熒光物從熒光層轉(zhuǎn)移到該基底的表面上并隨后對(duì)轉(zhuǎn)移的熒光物進(jìn)行熱處理。
基膜起著支撐的作用,且較好地是基膜具有90%或更大的光透射率?;さ睦邮蔷蹖?duì)苯二甲酸乙酯和聚碳酸酯膜。
光吸收層吸收來(lái)自光的光或熱,以得到分解,并發(fā)出氮?dú)饣驓錃?,從而提供轉(zhuǎn)移能量。該層是由從由鉛(Al)、鉍(Bi)、錫(Sn)、銦(In)、鋅(Zn)、鈦(Ti)、鉻(Cr)、鉬(Mo)、鎢(W)、鈷(Co)、銥(Ir)、鎳(Ni)、鈀(Pd)、鉑(Pt)、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)、鋯(Zr)、鐵(Fe)、它們的氧化物和硫化物、染料和顏料組成的組中選出的至少一個(gè)形成。緩沖層的作用是把光吸收層的加熱傳遞到熒光層,并且是由從季戊四醇四硝酸酯(PETN)和三硝基甲苯(TNT)中選出的材料形成的。
通過(guò)以下結(jié)合附圖進(jìn)行的描述,本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見(jiàn)。在附圖中

圖1是用在本發(fā)明中的激光轉(zhuǎn)移裝置的示意圖;圖2是剖視圖,顯示了根據(jù)本發(fā)明的施主膜的結(jié)構(gòu);圖3A至圖3C是剖視圖,用于顯示根據(jù)本發(fā)明的熒光層的制造步驟。
在本發(fā)明中,利用激光轉(zhuǎn)移方法而形成了一個(gè)熒光層。在此,激光轉(zhuǎn)移方法被廣泛地用于打印、排字、攝影等。該方法采用了一個(gè)原理--即通過(guò)將所要轉(zhuǎn)移的目標(biāo)材料推向接收物而將該目標(biāo)材料轉(zhuǎn)移到接收物上。
圖1是用在本發(fā)明中的激光轉(zhuǎn)移裝置的示意圖。
參見(jiàn)圖1,從一個(gè)能量源發(fā)射出了一個(gè)高功率激光束11。該能量源包括諸如Nd/YAG的高功率固體激光器、諸如CO2或CO的氣體激光器和二極管耦合Nd/YAG。發(fā)射的激光束通過(guò)了一個(gè)分束器12并被分成具有相同強(qiáng)度的幾束。
分成幾束的激光束的強(qiáng)度比由一個(gè)調(diào)制器13根據(jù)轉(zhuǎn)移的物質(zhì)的形狀而進(jìn)行控制,且該激光束經(jīng)一個(gè)連接光學(xué)系統(tǒng)14而通過(guò)一個(gè)光纖15,并隨后照射到包括熒光層的一個(gè)施主膜16的表面上。此時(shí),只有施主膜16接收到光的部分上涂覆的熒光物被轉(zhuǎn)移到接收體17上。此時(shí),一個(gè)級(jí)18的運(yùn)動(dòng)受到一個(gè)計(jì)算機(jī)20和一個(gè)提升器19的控制,以根據(jù)轉(zhuǎn)移物質(zhì)的形狀來(lái)控制幾個(gè)光束的強(qiáng)度。
圖2顯示了本發(fā)明中所用的施主膜25的結(jié)構(gòu)。
參見(jiàn)圖2,在一個(gè)基膜21上依次形成了一個(gè)光吸收層22、一個(gè)緩沖層23、和一個(gè)熒光層24。
圖3A至3C是剖視圖,用于顯示在根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的、用于場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)的熒光層制造方法中轉(zhuǎn)移熒光層圖案的步驟。
在一個(gè)基膜37上依次涂覆一個(gè)光吸收膜36、一個(gè)緩沖層35和一個(gè)熒光層34,從而形成一個(gè)施主膜38。
隨后,施主膜38被設(shè)置在與第一基底33上。隨后,用一個(gè)能量源照射設(shè)置在上面的施主膜38??梢杂眉す馐?、氙燈或鹵燈作為能量源。從它們中選出并照射的能量源依次通過(guò)一個(gè)轉(zhuǎn)移裝置32和基膜37,并激活光學(xué)吸收層36并發(fā)射由于加熱時(shí)進(jìn)行的分解反應(yīng)而產(chǎn)生出的氫或鎳氣。發(fā)出的熱量被傳遞到緩沖層35,且氣體的釋放使得熒光物被轉(zhuǎn)移到第一基底33的上表面。
在進(jìn)行了轉(zhuǎn)移處理之后,進(jìn)行熱處理,以固化并粘合轉(zhuǎn)移的熒光物。
這里,熒光物的轉(zhuǎn)移是通過(guò)單個(gè)或幾個(gè)步驟進(jìn)行的。即,熒光層的厚度是通過(guò)一次轉(zhuǎn)移所需的量或進(jìn)行幾次轉(zhuǎn)移而形成的。然而,考慮到加工的方便和穩(wěn)定性,較好地是在一個(gè)步驟中轉(zhuǎn)移熒光物。
圖3B顯示了借助上述方法制成的具有熒光層34’的第一基底。
此外,第一電極40和第二電極41被相互隔離地形成在與第一基底33相對(duì)的第二基底33’上。然后,薄膜層42和42’分別被形成在第一電極40和第二電極41上。
然后,加速電極層39被形成在第一基底33的熒光層34’上。第一基底被疊置在第二基底33’上,從而完成圖3C的場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)。具有這種結(jié)構(gòu)的FED的工作原理如下。
當(dāng)預(yù)定電壓被加到第一電極40和第二電極41時(shí),涂覆在相應(yīng)電極上的薄膜層42和42’之間發(fā)射的電子被加速到加速電極層39,使得熒光層34’發(fā)光。
本發(fā)明具有以下效果。
首先,利用干蝕刻法的處理減少了由于灰塵或外來(lái)物而產(chǎn)生的缺陷,因而與傳統(tǒng)方法相比制造的產(chǎn)量可提高10%以上。另外,簡(jiǎn)單的加工提高了生產(chǎn)率。
第二,在傳統(tǒng)的方法中,分辨率基本上在70和100μm之間,但根據(jù)本發(fā)明,能夠獲得高至20μm的分辨率。因此,形成了高分辨率的圖案。
權(quán)利要求
1.用于顯示裝置的熒光層的制造方法,包括以下步驟(a)設(shè)置一個(gè)施主膜,該施主膜與一個(gè)基底相隔預(yù)定的距離并由一個(gè)基膜、一個(gè)光吸收層、一個(gè)緩沖層和一個(gè)熒光層構(gòu)成;以及(b)用一個(gè)能量源照射該施主膜,以將一種熒光物從熒光層轉(zhuǎn)移到該基底的表面上并隨后對(duì)轉(zhuǎn)移的熒光物進(jìn)行熱處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中在步驟(b)中所述能量源是從由激光束、氙燈和鹵燈組成的組中選出的。
全文摘要
用于顯示裝置的熒光層的制造方法,包括以下步驟:設(shè)置一個(gè)施主膜,該施主膜與一個(gè)基底相隔預(yù)定的距離并由一個(gè)基膜、一個(gè)光吸收層、一個(gè)緩沖層和一個(gè)熒光層構(gòu)成;以及,用一個(gè)能量源照射該施主膜,以將一種熒光物從熒光層轉(zhuǎn)移到該基底的表面上并隨后對(duì)轉(zhuǎn)移的熒光物進(jìn)行熱處理。在此方法中,由于灰塵或外來(lái)物產(chǎn)生的缺陷被減少了,因而制造產(chǎn)量與傳統(tǒng)方法相比得到了改善。另外,該方法是簡(jiǎn)單的,因而生產(chǎn)率得到了提高,且實(shí)現(xiàn)了高分辨率的屏幕。
文檔編號(hào)H01J9/227GK1236968SQ98108960
公開(kāi)日1999年12月1日 申請(qǐng)日期1998年5月22日 優(yōu)先權(quán)日1998年5月22日
發(fā)明者李時(shí)賢, 樸柱相 申請(qǐng)人:三星電管株式會(huì)社
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