專利名稱：：用于砂磨的光敏組合物以及含該組合物的光敏膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種用于砂磨的新的光敏組合物。更具體地說，本發(fā)明涉及一種用于砂磨的光敏組合物，它具有優(yōu)良的彈性、柔軟性、堿的顯影性、與基片的粘性、感光度和耐砂磨性，本發(fā)明還涉及用于砂磨具有光敏層的光敏膜。已知砂磨是一種在基片(如玻璃、石材、塑料、陶瓷、皮革和木材)表面形成圖案的技術(shù)。通過砂磨形成圖案是采用使用模版的方法實(shí)施的，在該方法中，將橡膠片、紙等置于基片上并用切割機(jī)等切割之，形成模版圖案，隨后用磨料打磨該基片，以選擇性地研磨基片；或者是采用使用光掩模的方法實(shí)施的，在該方法中，在基片上形成光敏層，用影印法形成光掩模圖案，隨后用磨料進(jìn)行打磨以選擇性地研磨基片。第一種方法存在操作麻煩和工作效率低的問題。另一方面，第二種影印方法的工作效率高，能精密地進(jìn)行加工，能有效地制造帶有金屬圖案和絕緣圖案的線路板，尤其能有效地制造等離子體顯示板的金屬布線圖案或由陶瓷、熒光物質(zhì)等制成的絕緣圖案。目前提出的用于砂磨的光敏層用光敏組合物包括在端部具有烯鍵不飽和基團(tuán)的聚氨酯預(yù)聚物、單官能的烯鍵不飽和化合物和聚合引發(fā)劑的可網(wǎng)印的組合物(參見JP-A-60-10242，本文中術(shù)語“JP-A”指“日本未經(jīng)審查公布的專利申請”)，含有不飽和聚酯、不飽和單體和光致聚合引發(fā)劑的組合物(參見JP-A-55-103554)，以及含有聚乙烯醇和重氮樹脂的組合物(參見JP-A-2-69754)。但是，由于這些光敏樹脂組合物是液態(tài)的，因此難以操作并且膜的厚度難以控制。在JP-A-6-161098中提出過一種無上述缺點(diǎn)的用于砂磨的光敏組合物，該組合物主要包括在端部具有烯鍵不飽和基團(tuán)的聚氨酯預(yù)聚物，并且其中摻雜纖維素衍生物以及聚合引發(fā)劑。盡管提出的組合物具有高的彈性、高柔軟性并具有優(yōu)良的堿顯影性，同時(shí)在感光度和與基片的粘性方面優(yōu)于常規(guī)的光敏組合物，但是在感光度、與基片的粘性和耐砂磨性方面仍不能令人滿意。因此需要開發(fā)一種具有改進(jìn)特性的砂磨用光敏組合物。本發(fā)明的目的是提供一種砂磨用光敏組合物，它具有優(yōu)良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性，并具有優(yōu)良的彈性、柔軟性和堿顯影性。本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光敏膜，它具有包括上述光敏組合物的光敏層。本發(fā)明人經(jīng)不斷研究，考慮到上述JP-A-6-161098所公開的光敏樹脂組合物容易操作并在感光度、與基片的粘性和耐砂磨性方面優(yōu)于常規(guī)的光敏樹脂組合物，認(rèn)為對該組合物進(jìn)行改進(jìn)可能是達(dá)到上述目的的捷徑。在該思路下經(jīng)過進(jìn)一步研究，發(fā)現(xiàn)用特殊的纖維素化合物作為纖維素衍生物可極大地改進(jìn)感光度、與基片的粘性和耐砂磨性。本發(fā)明就是在這個(gè)發(fā)現(xiàn)的基礎(chǔ)上完成的。本發(fā)明涉及一種砂磨用的光敏組合物，它包括(A)至少具有兩個(gè)丙烯?；鶊F(tuán)和/或甲基丙烯酰基團(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發(fā)劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。本發(fā)明還涉及一種砂磨用光敏膜，它具有包括上述光敏組合物的光敏層。本發(fā)明砂磨用光敏組合物顯示出優(yōu)良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性，并具有高的彈性、柔軟性和足夠的堿顯影性。本發(fā)明光敏膜容易定位，適合于精密加工。圖1是本發(fā)明光敏膜的剖面示意圖；圖2(a)-(e)說明使用本發(fā)明光敏膜制造等離子體顯示板的蝕刻方法的步驟。用作組分(A)的至少具有兩個(gè)丙烯?；鶊F(tuán)和/或甲基丙烯?；鶊F(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物(下面稱之為聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物)是(a)由二元醇化合物和二異氰酸酯化合物反應(yīng)制得的異氰酸酯(-NCO)封端的化合物與(b)具有羥基的(甲基)丙烯酸酯化合物的反應(yīng)產(chǎn)物。作為組分(A)的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的分子中最好具有不小于4根氨基甲酸酯鍵。如果聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物中氨基甲酸酯鍵的數(shù)量小于4，其耐砂磨性會顯著下降。用于制造聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的二元醇化合物包括在端部具有羥基的聚酯和聚醚。所述聚酯包括由內(nèi)酯開環(huán)聚合獲得的化合物，聚碳酸酯，由亞烷基二醇(如乙二醇、丙二醇、二甘醇、三甘醇和二丙二醇)和二元羧酸(如馬來酸、富馬酸、戊二酸和己二酸)縮合獲得的聚酯。內(nèi)酯的例子有δ-戊內(nèi)酯、ε-己內(nèi)酯、β-丙內(nèi)酯、α-甲基-β-丙內(nèi)酯、β-甲基-β-丙內(nèi)酯、α,α-二甲基-β-丙內(nèi)酯、以及β,β-二甲基-β-丙內(nèi)酯。所述聚碳酸酯包括由二元醇(如雙酚A、氫醌或二羥基環(huán)己烷)與羰基化合物(如碳酸二苯酯、碳酰氯或丁二酸酐)反應(yīng)獲得的產(chǎn)物。聚醚的例子包括聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇和聚戊二醇。對于聚酯和聚醚，含有2,2-二羥甲基丙酸殘基、2,2-二(2-羥乙基)丙酸殘基或2,2-二(3-羥丙基)丙酸殘基，尤其是2,2-二羥甲基丙酸殘基的這類化合物是較好的，因?yàn)樗鼈兡苁咕郯滨?甲基)丙烯酸酯化合物在堿溶液中具有大的溶解度。聚酯或聚醚可單獨(dú)使用或兩種或多種混合使用。與二元醇化合物反應(yīng)的二異氰酸酯化合物包括脂族或脂環(huán)族二異氰酸酯化合物，如二亞甲基二異氰酸酯、三亞甲基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、七亞甲基二異氰酸酯、2,2-二甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、八亞甲基二異氰酸酯、2,5-二甲基己烷-1,6-二異氰酸酯、2,2,4-三甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、九亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基己烷二異氰酸酯、十亞甲基二異氰酸酯和異佛爾酮二異氰酸酯。它們可單獨(dú)使用或兩種或多種混合使用。與異氰酸酯封端的化合物的異氰酸酯基發(fā)生反應(yīng)的帶有羥基的(甲基)丙烯酸酯化合物包括丙烯酸羥甲酯、甲基丙烯酸羥甲酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸3-羥丙酯、甲基丙烯酸3-羥丙酯、單丙烯酸乙二醇酯、單甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、單丙烯酸二季戊四醇酯和單甲基丙烯酸二季戊四醇酯。它們可單獨(dú)使用或兩種或多種混合使用。聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的重均分子量較好為1,000-30,000。如果重均分子量小于1,000，那么光敏組合物的固化膜的粘結(jié)力增強(qiáng)，硬度增大，從而降低耐砂磨性。如果重均分子量超過30,000，則光敏組合物的粘度增高，它會使涂覆性能和工作性能下降，形成的固化膜的電阻將會增高。按光敏組合物固體重量計(jì)，聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的含量一般為50-90重量％。本發(fā)明光敏組合物至少含有一種纖維素衍生物作為組分(C)(下面稱之為纖維素化合物)，該纖維素衍生物選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素和鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。纖維素化合物的酸值宜為50-250mg/KOH，較好為80-200mg/KOH。如果酸值小于50mg/KOH，組合物的顯影性將不足。如果酸值超過250mg/KOH，組合物的柔軟性和防水性將下降。將纖維素化合物和丙烯酸或甲基丙烯酸共聚物組合使用可獲得較好的酸值。與丙烯酸或甲基丙烯酸共聚的適用的共聚單體包括富馬酸、馬來酸、巴豆酸、肉桂酸、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、富馬酸單甲酯、富馬酸單乙酯、富馬酸單丙酯、馬來酸單甲酯、馬來酸單乙酯、馬來酸單丙酯、山梨酸、丙烯酸羥甲酯、甲基丙烯酸羥甲酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯、單丙烯酸乙二醇酯、單甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、單丙烯酸二季戊四醇酯、單甲基丙烯酸二季戊四醇酯、丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和甲基丙烯腈。其中較好的是丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異丁酯和甲基丙烯酸異丁酯。適當(dāng)?shù)靥暨x纖維素化合物能進(jìn)一步改進(jìn)光敏組合物的感光度、粘性和耐砂磨性，能使砂磨以更令人滿意的方式進(jìn)行。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物計(jì)，光敏組合物中纖維素化合物的含量較好為10-100重量份。作為組分(B)的光致聚合引發(fā)劑包括1-羥基環(huán)己基苯基酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-1-丙酮、2-芐基-2-二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲?；交趸ⅰ?-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯甲酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基-1-丙酮、4-苯甲?；?4’-甲基二甲硫醚、4-二甲氨基苯甲酸、4-二甲氨基苯甲酸甲酯、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸丁酯、4-二甲氨基苯甲酸2-乙基己酯、4-二甲氨基苯甲酸2-異戊酯、2,2-二乙氧基苯乙酮、芐基二甲醛縮苯乙酮、芐基-β-甲氧基乙基乙縮醛、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟、鄰苯甲?；郊姿峒柞ァ⒍?4-二甲氨基苯基)酮、4,4’-雙二甲氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯偶姻丁醚、對二甲氨基苯乙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二苯并環(huán)庚酮(dibenzosuberone)、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮和4-二甲氨基苯甲酸戊酯。這些引發(fā)劑可單獨(dú)使用或兩種或多種混合使用。按100重量份光敏組合物的固體含量計(jì)，光致聚合引發(fā)劑的用量為0.1-20重量份。如有必要，光敏組合物中還可含有可光致聚合的單體，以進(jìn)一步改進(jìn)感光度，并防止顯影時(shí)固化膜的厚度下降或溶脹。適用的可光致聚合的單體包括單官能的單體，如丙烯酸、甲基丙烯酸、富馬酸、馬來酸、富馬酸單甲酯、富馬酸單乙酯、丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、乙二醇單甲醚丙烯酸酯和乙二醇單甲醚甲基丙烯酸酯；以及多官能單體，如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基丙烷四甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯和二季戊四醇五丙烯酸酯。它們可單獨(dú)使用或兩種或多種混合使用。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸化合物計(jì)，可光致聚合單體的適宜的用量不超過20重量份。如果用量超過20重量份，光敏組合物的干膜會冷流，并且用紫外光固化的光敏組合物膜彈性下降，耐砂磨性變差?？蓪⒈景l(fā)明光敏組合物溶解在溶劑中使用。適用的溶劑的說明性例子包括乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸4-甲氧基丁酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-乙氧基丁酯和乙酸4-乙氧基丁酯。光敏組合物還可任選地含有染料、阻聚劑、控制電阻的導(dǎo)電物質(zhì)(如碳粒和金屬顆粒)、以及陰離子，陽離子或兩性表面活性劑。根據(jù)用途可將砂磨用光敏組合物以液態(tài)涂布在基片上，或者網(wǎng)印在基片上。在需要精密加工的領(lǐng)域(如制造電子部件)中，最好用光敏膜的形式使用所述組合物，該光敏膜是將組合物涂布在撓性膜基片上，隨后干燥而形成的。使用這種光敏膜能高精度定位地實(shí)施研磨加工。砂磨用光敏膜的一個(gè)例子示于圖1。圖1的光敏膜由撓性膜1、含有本發(fā)明光敏組合物的光敏層2和剝離膜3組成。撓性膜1是支承砂磨用光敏層的基片，它的厚度較好為15-125微米。該撓性膜包括合成樹脂(如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯等)的膜。聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜由于其撓性而是較好的。光敏層2較好是用涂布機(jī)、刮條涂覆機(jī)、輥涂機(jī)、簾流涂覆機(jī)等將光敏樹脂組合物在溶劑中的溶液涂覆在撓性膜1上至涂層的干厚度達(dá)到10-100微米而制得。剝離膜3是對使用前的光敏層2實(shí)施穩(wěn)定保護(hù)的膜層，它具有適中的剝離性能，以便在使用前不會脫落但使用時(shí)容易剝離。厚度為15-125微米、上面涂布硅氧烷或再經(jīng)烘烤的PET膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜等是較好的剝離膜?？稍趽闲阅ず凸饷魧又g施加水溶性樹脂層，以防止光敏層受氧影響而不易感光，并防止在將掩模圖案與光敏層接觸用于曝光時(shí)掩模圖案粘附在光敏層上。水溶性樹脂層最好如下制得將5-20重量％水溶性聚合物(如聚乙烯醇或部分皂化的聚醋酸乙烯酯)的水溶液涂布在撓性膜上至涂層的干厚度為1-10微米，隨后進(jìn)行干燥。水溶性聚合物的水溶液較好含有乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等以改進(jìn)撓性和剝離性能。在制備水溶性聚合物的水溶液時(shí)，加入甲醇、乙二醇單甲醚、丙酮或水性消泡劑可改進(jìn)粘度、消泡沫性能等。使用本發(fā)明光敏膜的常用方法示于制備等離子體顯示板的圖2(a)-(e)。如圖2(a)所示，剝離膜3已從光敏膜上被剝?nèi)ィ冻龅墓饷魧?最好通過熱壓與含有絕緣層4、導(dǎo)電圖案5和支承體6的基片緊密接觸。熱壓是通過預(yù)熱基片，將干膜置于基片上并壓制而成的。隨后除去撓性膜1。如圖2(b)所示，將具有規(guī)定掩模圖案的掩模7與露出的光敏層2接觸，用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、弧光等、氙燈等的紫外光透過掩模輻照該膜。受激激光、X-射線和電子束也像紫外光一樣適用。輻照后，除去掩模7并進(jìn)行顯影。為進(jìn)行顯影，可使用通用的堿性顯影劑?？捎糜趬A性顯影劑中的堿包括堿金屬(如鋰、鈉和鉀)的氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽、磷酸鹽或焦磷酸鹽；伯胺，如苯甲胺和丁胺；仲胺，如二甲胺、二芐胺和二乙醇胺；叔胺，如三甲胺、三乙胺和三乙醇胺；環(huán)胺，如嗎啉、哌嗪和吡啶；多胺，如乙二胺和六亞甲基二胺；氫氧化銨化合物，如氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、氫氧化三甲基芐基銨和氫氧化三甲基苯基芐基胺；氫氧化锍化合物，如氫氧化三甲基锍、氫氧化二乙基甲基锍和氫氧化二甲基芐基锍；膽堿和含硅酸鹽的緩沖溶液。通過顯影，光敏層2的未受照部分被除去，如圖2(c)所示僅留下光敏層的受照部分(固化樹脂層9)。顯影后，通過砂磨蝕刻絕緣層4，如圖2(d)所示形成與固化樹脂層9相一致的圖案。適用于砂磨的磨粒包括粒徑為2-500微米玻璃小球或無機(jī)顆粒(如SiC、SiO2、Al2O3或ZrO)。用堿水溶液(通常使用無機(jī)或有機(jī)堿溶液)溶解除去基片上殘留的固化樹脂層9，如圖2(e)所示在基片表面上形成蝕刻的圖案。下面將參照實(shí)施例更詳細(xì)地描述本發(fā)明，但應(yīng)理解本發(fā)明不受這些實(shí)施例的限制。除非另有說明，所有的百分?jǐn)?shù)和份均是以重量計(jì)算的。實(shí)施例1將20份具有丙烯酸(acrylic)端基的含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(UV-9532EA,NipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd制，重均分子量(Mw)24,000；酸值27；含30％乙酸乙酯作為溶劑)、30份含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(SR-6138AE,DaicelChemicalIndustries,Ltd.；Mw:10,000；含20％乙酸乙酯作為溶劑)和60份鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素(HPMCAP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd制)的25％甲乙酮溶液混合在一起。在該混合物中進(jìn)一步混入1份2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、0.005份N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽、0.1份孔雀綠(HodogayaChemicalCo.,Ltd制)和20份甲乙酮并攪拌，制得用于砂磨的光敏組合物。使用涂布機(jī)將生成的光敏組合物涂覆在20微米厚的PRT膜上，干燥后形成干厚度為30微米的光敏層。使用橡膠輥將20微米厚的聚乙烯膜粘合在所述光敏層上，注意避免留下氣泡，形成光敏膜。將聚乙烯膜從光敏膜上剝?nèi)ィ孟鹉z輥將露出的光敏層層壓在預(yù)熱至80℃的玻璃基片上。剝?nèi)ET膜，將線條寬度為50、45、40、35、30、25、20、15和10微米的試驗(yàn)圖案掩模與該露出的光敏層緊密接觸。將光敏層置于超高壓汞燈發(fā)出的能量為200mJ/cm2的紫外光下。將溫度保持在30℃的0.2％碳酸鈉水溶液以1.5kg/cm2的噴射壓力噴射30秒以形成圖案。如此形成的最小線條寬度為30微米，這表示圖案層與基片的粘性。用Stouffer21-級片劑(21-steptablet)(StoufferGraphicArtsEquipmentCo.)測得的感光度為6-級。如下評價(jià)圖案的耐砂磨性從光敏膜上剝?nèi)ゾ垡蚁┠?，用橡膠滾筒將露出的光敏層層壓在預(yù)熱至80℃的玻璃基片上。除去PET膜，將露出的光敏層的整個(gè)表面置于照射能量為200mJ/cm2的光線下進(jìn)行照射，并用距其80mm噴砂壓力為2kg/cm2的噴砂嘴噴出的玻璃小球#800(S4#800,FuiiSeisakusyo制)對其進(jìn)行砂磨。磨料研磨而使固化樹脂層消失所需的時(shí)間為100秒。實(shí)施例2用相同于實(shí)施例1的方法制得砂磨用光敏膜，但是用鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素(HPMCP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制)的25％甲乙酮溶液代替鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的25％甲乙酮溶液。用實(shí)施例1相同方法測得的粘性、感光度和耐砂磨性分別為30微米、5.5-級和100秒。比較例1用相同于實(shí)施例1的方法制得砂磨用光敏膜，但是用鄰苯二甲酸乙酸纖維素(KC-71,WakoPureChemicalIndustries,Ltd制)的25％甲乙酮溶液代替鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的25％甲乙酮溶液。用實(shí)施例1相同方法測得的粘性、感光度和耐砂磨性分別為45微米、4-級和70秒。本發(fā)明砂磨用光敏組合物顯示出優(yōu)良的感光度、與基片的粘性和耐砂磨性以及高的彈性、柔軟性和足夠的堿顯影性。另外，含層壓的光敏組合物的光敏膜容易定位，適用于電子部件的精密加工。盡管結(jié)合具體的實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)描述，但是顯然本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可對它們進(jìn)行各種變化和改進(jìn)而不偏離本發(fā)明的精神和范圍。權(quán)利要求1．一種砂磨用的光敏組合物，它包括(A)至少具有兩個(gè)丙烯?；鶊F(tuán)和/或甲基丙烯?；鶊F(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發(fā)劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。2．如權(quán)利要求1所述的光敏組合物，其特征在于所述纖維素衍生物選自鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素中的至少一種。3．如權(quán)利要求1所述的光敏組合物，其特征在于按100重量份至少具有兩個(gè)丙烯?；鶊F(tuán)和/或甲基丙烯?；鶊F(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物計(jì)，所述至少一種纖維素衍生物的含量為10-100重量份。4．如權(quán)利要求1所述的光敏組合物，其特征在于所述纖維素衍生物的酸值為50-250mg/KOH。5．一種砂磨用的光敏膜，它包括上面依次為砂磨用的光敏層和剝離膜的撓性膜，其中所述光敏層包括(A)至少具有兩個(gè)丙烯酰基團(tuán)和/或甲基丙烯?；鶊F(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引發(fā)劑，和(C)至少一種纖維素衍生物，它選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素。全文摘要公開了一種砂磨用的光敏組合物和具有包括該組合物的光敏層的光敏膜。所述光敏組合物包括至少具有兩個(gè)丙烯?；鶊F(tuán)和/或甲基丙烯?；鶊F(tuán)的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,光致聚合引發(fā)劑,和選自羥丙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、鄰苯二甲酸羥丙基甲基纖維素以及鄰苯二甲酸乙酸羥丙基甲基纖維素的至少一種纖維素衍生物。該組合物顯示出優(yōu)良的與基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。文檔編號H01J11/34GK1220415SQ9812340公開日1999年6月23日申請日期1998年10月14日優(yōu)先權(quán)日1997年10月14日發(fā)明者水澤龍馬,中里俊二,帶谷洋之申請人:東京応化工業(yè)株式會社