導(dǎo)光體、導(dǎo)光體的制造方法、光學(xué)快門以及面光源裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及導(dǎo)光體、導(dǎo)光體的制造方法、光學(xué)快口W及面光源裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于增強(qiáng)玻璃板、甲基丙締酸樹脂板等透明板材的透明性優(yōu)異，因此作為導(dǎo)光體 用于例如光學(xué)快口用途W(wǎng)及逆光、照明裝置等的面光源用途。
[0003] 在專利文獻(xiàn)1中，作為光學(xué)快口用導(dǎo)光體，記載了在表面實(shí)施了磨砂玻璃處理等 粗面加工得到的增強(qiáng)玻璃板、甲基丙締酸樹脂板等。在該光學(xué)快口中使用快口區(qū)域整面被 粗面化的導(dǎo)光體，在該導(dǎo)光體的端面配置有LED(發(fā)光二極管）光源。該光學(xué)快口在LED光 源焰滅時(shí)能夠從正面辨認(rèn)背側(cè)，在LED光源點(diǎn)亮?xí)r，由于在粗面化部擴(kuò)散的光從導(dǎo)光體的 主面射出而成為不能辨認(rèn)背側(cè)的隱蔽狀態(tài)。目P、該光學(xué)快口在光源焰滅時(shí)成為快口打開的 狀態(tài)，在光源點(diǎn)亮?xí)r成為快口關(guān)閉的狀態(tài)。
[0004] 另外，在專利文獻(xiàn)2中，記載了作為邊緣光（edgeli曲t)型的逆光用導(dǎo)光體，而在 表面形成有凹部的甲基丙締酸樹脂板。此處使用的導(dǎo)光體具有通過激光加工形成的直徑 260~450ym左右的凹部，適合于液晶顯示裝置的面光源用途。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 ;日本特開2003 - 149410號(hào)公報(bào)
[0008] 專利文獻(xiàn)2 ;日本特開2010 - 103068號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明所要解決的課題
[0010] 專利文獻(xiàn)1所記載的導(dǎo)光體由于快口區(qū)域整面被粗面化，因此在快口打開的狀態(tài) 下，盡管能夠從快口的正面辨認(rèn)背側(cè)，但是不能說快口的透明性充分。另外，在快口關(guān)閉的 狀態(tài)下，粗面化引起的光射出方向的控制非常困難，快口的正面方向的光量下降，因此不能 說明隱蔽功能充分。
[0011] 另一方面，近年來，從節(jié)能的觀點(diǎn)出發(fā)，使用了LED光源的面光源裝置作為照明裝 置來使用。并且，在外觀設(shè)計(jì)性方面，期望在焰滅時(shí)透明且存在感較低的面光源裝置。但是， 專利文獻(xiàn)2所記載的面光源裝置由于光源焰滅時(shí)的導(dǎo)光體的透明性不充分，因此不能充分 應(yīng)對(duì)該期望。
[0012] 本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種在快口打開的狀態(tài)下透明性較高，且在快口關(guān)閉的 狀態(tài)下具有較高的隱蔽功能的光學(xué)快口W及使用了該光學(xué)快口的導(dǎo)光體。
[0013] 另外，本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光源焰滅時(shí)透明性較高、且外觀設(shè)計(jì)性優(yōu) 異的面光源裝置W及使用于該面光源裝置的導(dǎo)光體。
[0014] 用于解決課題的方案
[0015] 上述課題通過W下的本發(fā)明[1]~[6]來解決。即、上述目的任一個(gè)均通過W下 的本發(fā)明山~[6]來實(shí)現(xiàn)。
[0016] [1] -種導(dǎo)光體，是對(duì)置的兩個(gè)主面為光射出面、至少一個(gè)側(cè)端面為光入射面的板 狀的導(dǎo)光體，其中，在至少一方的主面的至少一部分區(qū)域形成有光射出機(jī)構(gòu)，在形成有光射 出機(jī)構(gòu)的區(qū)域的霧度值為3%W下且完全擴(kuò)散光從至少一個(gè)光入射面入射時(shí)，來自主面的 形成有光射出機(jī)構(gòu)的區(qū)域的射出光的光度為極大的角度（W下稱為"射出極大角度"）處于 W主面的法線為中屯、的一60。W上+60°W下的范圍內(nèi)，射出光效率為15%W上。
[0017] [2]根據(jù)[1]所述的導(dǎo)光體，在完全擴(kuò)散光從至少一個(gè)光入射面入射時(shí)，一方的主 面的射出極大角度處于W主面的法線為中屯、的一30°W上+30°W下的范圍內(nèi)，另一方的 主面的射出極大角度處于一60°W上一30°W下的范圍內(nèi)、+30°W上+60°W下的范圍 內(nèi)、W及從一60°W上一30°W下和+30°W上+60°W下的范圍內(nèi)選擇的至少一種范圍 內(nèi)。
[001引 [3] -種導(dǎo)光體，是對(duì)置的兩個(gè)主面為光射出面、至少一個(gè)側(cè)端面為光入射面的 板狀的導(dǎo)光體，其中，在至少一方的主面的至少一部分的區(qū)域，形成有微小的凹部或凸部作 為光射出機(jī)構(gòu)，凹部的深度或凸部的高度為30ymW上70ymW下，凹部或凸部的直徑為 40ymW上150ymW下，凹部或凸部的面密度為每1平方英寸450光點(diǎn)W上5000光點(diǎn)W 下。在此，"光點(diǎn)"是個(gè)數(shù)單位，1光點(diǎn)表示1個(gè)。
[0019][句根據(jù)山~閒任一項(xiàng)中所述的導(dǎo)光體的制造方法，其中，向?qū)Ч怏w原板的至 少一方的主面的至少一部分區(qū)域照射激光而形成光射出機(jī)構(gòu)。
[0020] 閒一種光學(xué)快n，其中，與山~閒任一項(xiàng)中所述的導(dǎo)光體的光入射面對(duì)置地 配置有光源。
[0021] [6] -種面光源裝置，其中，與[1]~[3]任一項(xiàng)中所述的導(dǎo)光體的光入射面對(duì)置 地配置有光源。
[00巧發(fā)明的效果
[0023] 根據(jù)本發(fā)明的導(dǎo)光體，能夠得到在快口打開的狀態(tài)下透明性較高、且在快口關(guān)閉 的狀態(tài)下具有較高的隱蔽功能的光學(xué)快口。
[0024]另外，根據(jù)本發(fā)明的導(dǎo)光體，能夠得到在光源焰滅時(shí)透明性較高、且外觀設(shè)計(jì)性優(yōu) 異的面光源裝置。
【附圖說明】
[0025] 圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體中的光射出機(jī)構(gòu)的凹部的剖視圖W及從 上方觀察凹部的圖。
[0026] 圖2是表示光從本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體的一個(gè)側(cè)端面入射時(shí)的來自主 面的射出光的狀態(tài)的示意性側(cè)視圖W及示意性俯視圖。
[0027] 圖3是表示來自本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體的主面的射出光圖形a的圖。 [002引圖4是表示來自本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體的主面的射出光圖形b的圖。
[0029] 圖5是表示來自本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體的主面的射出光圖形C的圖。
[0030] 圖6是表示來自本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體的主面的射出光圖形d的圖。
[0031] 圖7是使用了本發(fā)明的導(dǎo)光體的光學(xué)快口或面光源裝置的一個(gè)實(shí)施方式的示意 性側(cè)視圖。
[0032] 圖8是使用了本發(fā)明的導(dǎo)光體的光學(xué)快口或面光源裝置的一個(gè)實(shí)施方式的示意 性側(cè)視圖。
[0033] 圖9是表示對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)光體的射出極大角度進(jìn)行測(cè)定的裝置的一個(gè)例子的示 意圖。
[0034] 圖10是表示對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)光體的射出光效率進(jìn)行測(cè)定的裝置的一個(gè)例子的示意 圖。
[0035] 圖11是使用了W對(duì)置的兩個(gè)側(cè)端面為光入射面的本發(fā)明的導(dǎo)光體的光學(xué)快口或 面光源裝置的一個(gè)實(shí)施方式的示意性側(cè)視圖W及示意性俯視圖。
[0036] 圖12是表示本發(fā)明的導(dǎo)光體的一個(gè)實(shí)施方式的示意性側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0037] <光射出面>
[003引光射出面由本發(fā)明的導(dǎo)光體中的對(duì)置的兩個(gè)主面分別構(gòu)成。
[0039] 而且，本說明書中，對(duì)于導(dǎo)光體的任何兩個(gè)面，"對(duì)置"是指朝向?qū)Ч怏w內(nèi)側(cè)相互面 對(duì)的意思。
[0040] <光入射面>
[0041] 光入射面由本發(fā)明的導(dǎo)光體中的至少一個(gè)側(cè)端面構(gòu)成。
[0042] 光入射面可W是一個(gè)側(cè)端面，也可W是兩個(gè)W上的多個(gè)側(cè)端面的各個(gè)。
[0043] 在光入射面具有兩個(gè)的情況下，可W是對(duì)置的兩個(gè)側(cè)端面的各個(gè)為光入射面，也 可W是正交的兩個(gè)側(cè)端面的各個(gè)為光入射面。根據(jù)從光射出面射出的光的均勻性方面，例 如圖7所示，優(yōu)選對(duì)置的兩個(gè)側(cè)端面的各個(gè)為光入射面。
[0044] <光射出機(jī)構(gòu)>
[0045] 光射出機(jī)構(gòu)是用于使入射到本發(fā)明的導(dǎo)光體的光向本發(fā)明的導(dǎo)光體的外部射出 的機(jī)構(gòu)。
[0046] 光射出機(jī)構(gòu)形成于本發(fā)明的導(dǎo)光體的至少一方的主面的至少一部分的區(qū)域。
[0047] 光射出機(jī)構(gòu)形成于導(dǎo)光體的兩個(gè)主面中的至少一個(gè)主面即可，也可W形成于雙方 的主面。
[0048] 光射出機(jī)構(gòu)形成于主面的至少一部分區(qū)域即可，也可W形成于主面的整個(gè)區(qū)域。 另外，光射出機(jī)構(gòu)也可W被主面的多個(gè)區(qū)域分割的狀態(tài)形成。
[0049] 作為光射出機(jī)構(gòu)，可列舉例如在主面的表面形成有微小的凹部或凸部的機(jī)構(gòu)、W 及在主面的表面形成有使二氧化鐵粒子等散射體分散到丙締系等粘合劑樹脂中而成的樹 脂層的機(jī)構(gòu)。其中，從光射出的效率的方面出發(fā)，優(yōu)選在主面的表面形成有微小的凹部或凸 部的機(jī)構(gòu)。
[0050] 在光射出機(jī)構(gòu)為在主面的表面形成有微小的凹部或凸部的機(jī)構(gòu)的情況下，優(yōu)選凹 部的深度或凸部的高度為30ymW上70ymW下，關(guān)于多個(gè)凹部或凸部，也可W在30ymW 上70ymW下的范圍內(nèi)具有偏差。
[0化1] 凹部的深度或凸部的高度表示從凹部或凸部的剖面的最底部或最頂部至主面 (在此是除了凹部或凸部的平坦面部分）的距離。W下，W凹部為例使用圖1進(jìn)行說明。
[0052] 圖1表不本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的導(dǎo)光體中的光射出機(jī)構(gòu)的凹部的剖面1W及從 上方觀察的凹部2。凹部的深度是從凹部剖面1的最底部至主面的距離Y。
[0化3]在凹部的深度或凸部的高度為30ymW上的情況下，存在能夠使關(guān)于具有光射出 機(jī)構(gòu)的一方的主面的射出極大角