專利名稱：用于移動噴射元件的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于移動噴射元件的方法和設(shè)備，該噴射元件具 有根據(jù)所附方法和設(shè)備的獨立權(quán)利要求的前序部分所述的噴嘴。
背景技術(shù)：
首先，材料層的這種處理被確定為材料去除處理。雖然該材料層 可包括其它的材料，但是其中優(yōu)選地含有混凝土層。該處理主要是想
將疲勞材料(weakened material)從該層中去除。于是，它會成為一 個難題，即將該疲勞的混凝土從公路、橋梁和多種建筑物結(jié)構(gòu)上的混 凝土層中去除，由此利用新的混凝土替換掉去除的混凝土。關(guān)于這一 點尤其優(yōu)選的是，處理元件由噴射元件構(gòu)成，從而將流體對準(zhǔn)該材料 層進(jìn)行高壓噴射。因此，正是該流體的高壓噴射完成了材料去除處理。 優(yōu)選地，該高壓流體由水構(gòu)成。
為了改變沖角而樞轉(zhuǎn)所述噴射元件的主要原因之一是由于所述混 凝土層由通常呈格形結(jié)構(gòu)的加強(qiáng)筋進(jìn)行加固這一事實。通過利用小的 沖角，即大致垂直于待處理層的噴射角度，該材料可被快速去除，但 該處理的結(jié)果并不均勻。然而，通過選擇較大的噴射沖角，該噴射將 更易于達(dá)到加強(qiáng)筋的下方，以致其下方將更為干凈，處理結(jié)果將更均 勻，且經(jīng)過處理的表面很光滑。
所述噴射元件的樞轉(zhuǎn)通常在所述支架的樞轉(zhuǎn)區(qū)域中，即在位于支 架靠近所述直線路徑的各端部位置的該路徑的終點和起點中，也就是 支架的樞轉(zhuǎn)點中進(jìn)行，在該樞轉(zhuǎn)點中，支架停止并改變方向。重要的 是，在這些轉(zhuǎn)動區(qū)域中同樣實現(xiàn)盡可能均勻地對所述層進(jìn)行的處理， 在那里，通常改變沖角，并同樣改變所述支架的移動速度和方向。
在上文中說明的此類設(shè)備已經(jīng)通過例如申請人的申請文獻(xiàn)EP 1 029 127 Bl而公知。于此說明的設(shè)備設(shè)有一種裝置，當(dāng)噴射元件在所 述轉(zhuǎn)動區(qū)域中樞轉(zhuǎn)時，該裝置確保噴射元件噴嘴的口部也在通常與待 處理表面平行的平面中移動。
當(dāng)該支架在所述直線路徑中移動時，該設(shè)備和此類其它公知的設(shè) 備通常在該層上具有一個確定的噴射沖角，并且在到達(dá)轉(zhuǎn)動區(qū)域時， 在該支架達(dá)到端部位置并處于沿相反方向往回運(yùn)動的起點上以前，通 過樞轉(zhuǎn)該噴射元件來改變沖角，以便獲得大小相同但具有相對于垂直 方向相反標(biāo)記的沖角，或者獲得用于噴射元件的下一行程的另一沖角。 還可能，在下一行程開始前，設(shè)有該設(shè)備的車輛關(guān)于所述轉(zhuǎn)向向前移 動一步。
人們已經(jīng)知道，改變所述支架的速度來補(bǔ)償所述樞轉(zhuǎn)，以便在噴 射元件樞轉(zhuǎn)時，該支架就在所迷轉(zhuǎn)動區(qū)域中更快速地移動。然而，在 這種已經(jīng)公知的設(shè)備中的噴射元件在所迷轉(zhuǎn)動區(qū)域中以恒定的角速度 樞轉(zhuǎn)，這導(dǎo)致在該轉(zhuǎn)動區(qū)域中會出現(xiàn)不均勻的處理和不規(guī)則的已處理 的表面。
需要指出的是，這種噴射元件可在沿著該支架的所述直線路徑的 任何地方進(jìn)行樞轉(zhuǎn)，但通常在所述轉(zhuǎn)動區(qū)域中實現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是，提供一種在前言中所限定的此類設(shè)備和方法， 這減少了已經(jīng)公知的這類設(shè)備的上述問題。
根據(jù)本發(fā)明的目的是，通過設(shè)計所述設(shè)備的裝置以調(diào)整對于所述 第一和第二驅(qū)動裝置的控制，以便以大致恒定的速度遍及所述層移動
所述噴射沖擊點。通過調(diào)整對于支架運(yùn)動的控制以及對于噴射元件樞 轉(zhuǎn)運(yùn)動的控制，在所述噴射元件樞轉(zhuǎn)的過程中，同樣可實現(xiàn)對于所述 層的均勻處理，這是由于它確保了沖擊點總是以大致恒定的速度遍及 所述層移動。
需要指出的是，所述噴射元件還可沿大致垂直于所述直線路線的 方向發(fā)生擺動，但是這種擺動于此被認(rèn)為是微不足道的，并且它們不
沒有被考慮在控制中，從而獲得所述噴射沖擊點遍及所述層的所述大 致恒定的速度。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，所述裝置包括第一元件，第二元件以 及兩種裝置，該第一元件適于在支架運(yùn)動的過程中進(jìn)行基本連續(xù)的檢 測，該檢測能夠確定該支架的速度，該第二元件適于在樞轉(zhuǎn)該噴射元 件的過程中進(jìn)行基本連續(xù)的檢測，該檢測能夠確定該噴射元件的樞轉(zhuǎn) 運(yùn)動對于所述噴射的所述沖擊點遍及所述層的速度的影響， 一種裝置 適于通過來自所述第一和第二元件的信息來計算所迷噴射沖擊點遍及 所述層的全速度，另一種裝置適于將這樣計算出的所述全速度值與預(yù) 設(shè)速度值相比較，以確定速度差，并且該裝置適于控制所述驅(qū)動裝置 以消除所述差值。這意味著，它將確保總是獲得所述大致恒定的速度， 這是由于該驅(qū)動裝置并不是簡單地以預(yù)定的方式加以控制，從而獲得 預(yù)設(shè)的速度，而是大致連續(xù)確定瞬時的實際速度，將其與所述設(shè)定速 度相比較，并對該驅(qū)動裝置進(jìn)行控制從而使這兩種速度相一致。這意 味著，當(dāng)條件變化時，例如在使用液壓驅(qū)動裝置的情況下，不同的溫 度和流體的液壓發(fā)生變化時，對驅(qū)動裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)特性的改變進(jìn)行的補(bǔ) 償將自動發(fā)生。通過噴射影響噴射元件的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動承受的反作用力同 樣將以這種方式自動進(jìn)行補(bǔ)償。當(dāng)對非水平表面，例如垂直墻壁進(jìn)行 處理時，這對于重力在支架和噴射元件上的影響是同樣有效的。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，所述第一元件適于檢測所述支架的瞬 時位置，并將該位置的信息傳送到所述計算裝置。支架的速度可以這 種方式通過簡單的裝置確實獲得。
根據(jù)本發(fā)明的另 一優(yōu)選實施例，所述第二元件適于檢測所述噴射 元件的縱向相對于其預(yù)定方向，例如垂直于待處理層的方向所成的瞬 時角度，并將該角度的信息傳送到所述計算裝置。通過利用這種角度 傳感器可以確實地確定所述噴射元件的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對于噴射沖擊點遍及 層的速度的影響。
根據(jù)本發(fā)明的另 一優(yōu)選實施例，所述計算裝置適于在計算所述樞 轉(zhuǎn)運(yùn)動對所述沖擊點的所述全速度的所述影響時，考慮所述噴射元件
的樞轉(zhuǎn)點與其噴嘴的口部之間的距離。這意味著，在所述距離出于某 種原因加以改變時，所述計算結(jié)果可同樣保持非常精確。
根據(jù)本發(fā)明的另 一優(yōu)選實施例，作為剛提及過的實施例的進(jìn)一步 發(fā)展，所述噴射元件可拆卸地設(shè)置在所述底部上，以便被在所述樞轉(zhuǎn) 點和噴射元件的噴嘴口部之間具有不同距離的另 一噴射元件所替代， 并且所述計算裝置適于在計算噴射元件的樞轉(zhuǎn)對所述沖擊點的全速度 的影響時，考慮這種改變的距離。這意味著，當(dāng)想要用具有另一長度 的噴射元件替換該噴射元件時，同樣可確實獲得所述恒定的預(yù)設(shè)速度。
根據(jù)本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例，所述設(shè)備還包括這樣的裝置，該 裝置在所述沖擊點遍及層的區(qū)域被移動到材料已被去除所述深度的情 況下，為所述計算裝置提供有關(guān)深度信息，以便在計算所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動 對于所述沖擊點的全速度的影響時，考慮該關(guān)于通過所述噴射元件的 噴射從所述層上去除掉的材料深度的信息。這種一定深度的去除大致 與這種替換相對應(yīng)，該替換指的是利用另一噴射元件替換該噴射元件， 該另一噴射元件明顯長于原噴射元件，并將以這種方式確保所述沖擊 點的所述全速度同樣在噴射元件可能的第二或第三或......行程中大致恒定。
所述用于為計算裝置提供所述深度信息的所述裝置可與用于使計 算裝置考慮噴射元件的變化長度的裝置相同，并且它可由鍵盤或另一 組按鈕構(gòu)成，以由操作者將數(shù)據(jù)輸入到所述控制裝置中。
根據(jù)本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例，所述驅(qū)動裝置為液壓馬達(dá)，并且 所述裝置適于控制連接在所述馬達(dá)上的控制閥門，以便將所述沖擊點 的所述速度控制成大致恒定。
根據(jù)本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例，該設(shè)備還包括這樣的裝置，該裝 置適于在相對于所述底部樞轉(zhuǎn)噴射元件的過程中引導(dǎo)噴射元件，以及 其樞轉(zhuǎn)軸相對于所述底部移動，從而使噴射元件的噴嘴口部在大致同 一個平面中作運(yùn)動，該平面大致垂直于噴射元件樞轉(zhuǎn)的平面。無論噴 射沖角為多大，這種結(jié)合，即有待通過噴射處理的層與噴嘴口部之間 的距離恒定的特性，與控制裝置控制所述噴射沖擊點以大致恒定的速
度遍及所述層移動的所述特征的結(jié)合，能夠獲得處理所述層的最佳效 果。
本發(fā)明還包括一種根據(jù)所附的方法的獨立權(quán)利要求及其從屬權(quán)利 要求所述的實施例所述的方法。其優(yōu)點通過對于根據(jù)本發(fā)明所述的設(shè) 備進(jìn)行的上述說明而變得明顯。
根據(jù)本發(fā)明的方法完全適于通過計算機(jī)程序加以執(zhí)行，該計算機(jī)
程序使得計算機(jī)或處理器控制所述方法的步驟，并且本發(fā)明還包括這 種計算機(jī)程序。
此外，本發(fā)明還包括根據(jù)本發(fā)明所述設(shè)備的用途，用于材料層特 別是混凝土層的材料去除處理。
本發(fā)明的其它優(yōu)點及有利特征將通過如下說明及其它所附權(quán)利要 求而變得明白。


參照附圖，將對根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例所述的設(shè)備和方法進(jìn)行 具體說明。
附圖中
圖1是移動單元的立體示意圖，其中安裝了根據(jù)本發(fā)明的該設(shè)備，
圖2是根據(jù)本發(fā)明所述設(shè)備的噴射元件的示意圖，其中該噴射元 件沿著通過其噴射處理的層移動，并從垂直于引導(dǎo)元件的方向看去， 該支架可沿著該引導(dǎo)元件移動，
圖3和4是處于不同功能位置的帶有根據(jù)本發(fā)明所述設(shè)備底部的 支架的更詳細(xì)的視圖，
圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例所述設(shè)備的功能方式的非常 簡單的視圖，和
圖6是與根據(jù)圖2所示視圖相似的簡圖，示出了根據(jù)本發(fā)明所述 設(shè)備的操作方法的一個方面。
具體實施例方式
如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明所述的設(shè)備可設(shè)在移動單元1上。它具 有可在待處理基層，例如混凝土層上移動的車輛的特性。該車輛被示
為具有兩個驅(qū)動導(dǎo)軌2的履帶式車輛。
在該車輛1上設(shè)有拉長的引導(dǎo)元件3和支架4，該支架4可在大 致呈直線的路徑中沿所述引導(dǎo)元件前后移動，用于實現(xiàn)所謂的橫向運(yùn) 動。底部5構(gòu)成支架4的一部分。管形噴射元件6或噴槍設(shè)置在底部 5上，用于將流體的高壓噴射對準(zhǔn)該基層。操作中的引導(dǎo)元件3與車 輛的運(yùn)動方向形成一個角度，優(yōu)選地大致為直角。噴射元件6通過導(dǎo) 管7與用于將高壓流體，尤其是水傳送到噴射元件的源頭相連。該高 壓源可設(shè)置在車輛l上，或者位于單獨的支架上等。
噴射元件6可圍繞軸8(簡明地見圖2)相對于底部5樞轉(zhuǎn)，用于 改變在待處理層上的所述噴射沖角。例如，該軸8大致橫向延伸到引 導(dǎo)元件3的縱向，并且更精確地說，大致與一個平面呈直角延伸，該 引導(dǎo)元件3位于該平面中，并且該平面垂直延伸到待處理的材料層。
設(shè)置呈液壓馬達(dá)形式的第一驅(qū)動裝置9，用于沿所述引導(dǎo)元件3 如箭頭A所示移動所述支架，而設(shè)置呈液壓馬達(dá)形的第二驅(qū)動裝置 10,用于相對于底部樞轉(zhuǎn)噴射元件6來改變待處理層上的噴射沖角。 該樞轉(zhuǎn)大致在位于支架4的各端部位置附近的轉(zhuǎn)動區(qū)域中沿著所述直 線路徑進(jìn)行，這將在下文中進(jìn)行更為詳細(xì)的說明。
諸如膠輥的裝置11對基層施加壓力，這樣限定了一個在其內(nèi)部進(jìn) 行所述處理的空間，用于保護(hù)車輛1的環(huán)境不受通過噴射元件6噴射 而除去并丟棄的材料的影響。如圖2所示，噴射元件6在從基層12 中除去材料，此處為混凝土的同時，是如何在橫向運(yùn)動中向左移動的。 該混凝土層由加強(qiáng)筋13形成的格形網(wǎng)并通過將噴射元件6保持傾斜得 以加固，該噴射將達(dá)到這些加強(qiáng)筋的下方。噴射元件的傾斜方向是根 據(jù)所需要的處理結(jié)果和材料的特性進(jìn)行選擇的。在圖2所示的情況中， 噴射元件的噴嘴14指向支架的運(yùn)動方向，并在支架改變移動方向時， 它同樣這樣做。
當(dāng)支架4沿引導(dǎo)元件3到達(dá)位于端部位置附近的轉(zhuǎn)動區(qū)域時，適
于控制驅(qū)動裝置9， IO的控制裝置，例如適用的計算機(jī)適于控制驅(qū)動 裝置10樞轉(zhuǎn)該噴射元件6，以^t在支架沿雙向運(yùn)動方向的運(yùn)動過程中， 其噴嘴將指向這些運(yùn)動方向。支架4的端部位置可通過連接到該控制 裝置的傳感元件加以限定。在所述驅(qū)動導(dǎo)軌2受控移動全部車輛并由 此將帶有噴射元件6的支架4前移一步，即所謂的變址(indexing), 用于處理待處理層的新區(qū)域以前，液壓馬達(dá)9可受控一次或多次，即 在一個或多個橫向運(yùn)動中在所述端部位置之間前后移動該支架4。
圖3和4示意性示出了在相對于所述底部5樞轉(zhuǎn)該噴射元件的過 程中，如何設(shè)置引導(dǎo)裝置15來引導(dǎo)噴射元件，以使其樞轉(zhuǎn)軸相對于支 架的所述底部5移動，從而使噴射元件噴嘴的口部16在大致同一個平 面17中作運(yùn)動，該平面大致垂直于噴射元件樞轉(zhuǎn)的平面。如所見，在 操作過程中，該平面17直接位于受處理的層12的上方。在平面17 中用于實現(xiàn)所述口部16的該運(yùn)動的引導(dǎo)裝置的結(jié)構(gòu)可與文獻(xiàn)EP 1 029 127 Bl中參照圖8-10說明的裝置相同，并于此將不再更為詳細(xì) 地對其進(jìn)行說明。該噴射元件還可沿著支架的移動路徑的橫向擺動， 但在計算遍及所述層的所述沖擊點的全速度時，或者當(dāng)確保所述口部
在同一個平面中移動時，該擺動不予考慮。
根據(jù)本發(fā)明所述設(shè)備的功能現(xiàn)將參照圖5和6加以描述。該設(shè)備 包括第一元件18和笫二元件20，該第一元件18適于檢測支架4的瞬 時位置，并將該位置的信息傳送到計算裝置19,該第二元件20適于 檢測噴射元件6的縱向相對于其預(yù)定方向、諸如垂直于待處理層的方 向的瞬時角度，并在該角度將信息傳送到所述計算裝置19。該計算裝 置19適于通過來自所述第一和第二元件的信息計算遍及待處理層的 噴射沖擊點的全速度。適于控制液壓馬達(dá)9， IO的裝置21包括這樣的 裝置，該裝置適于將通過計算裝置計算出的全速度值與預(yù)設(shè)速度值相 比較以確定差值，并通過控制液壓閥門22， 23來控制液壓馬達(dá)9， 10 以^便抵消所述差值，從而使所述沖擊點以大致恒定的速度遍及所述層 進(jìn)行移動。為了能夠做到這一點，所述控制裝置不得不察覺到噴射元 件的樞轉(zhuǎn)點和其噴嘴的口部之間的距離，當(dāng)基礎(chǔ)噴射元件在遍及一部
分尚未處理的層進(jìn)行移動時，控制裝置可以獲知這一點，而其它不得
不由操作者通過控制終端等輸入到控制裝置21中。如圖6所示，如果 噴射元件被具有不同長度的噴射元件所替代，或者噴射元件被移動到 材料已經(jīng)被去除掉一定厚度的部分層上方時，新的這種距離值不得不 被輸入到控制裝置中。該深度D，例如可為約50mm，大致與將相對 于在第 一行程或橫向運(yùn)動中所使用的噴射元件改為具有增加了長度D 的噴射元件相對應(yīng)。
以這種方式可以確保，在待處理層上的噴射沖擊點I的速度總是 恒定的，并與預(yù)設(shè)的速度相同。然而，支架可很好地受控以在轉(zhuǎn)動區(qū) 域中相當(dāng)大程度地增加其速度，以便使得這些轉(zhuǎn)動區(qū)域變短，并由此 可提高該轉(zhuǎn)折點上的處理質(zhì)量。
沖擊點的所述速度可優(yōu)選地通過利用與用于輸入新的噴射元件長 度等相同的裝置設(shè)定為不同的值。同樣優(yōu)選的是，能夠通過輸入用于 支架移動的端部位置的新數(shù)值或者用于其寬度的新數(shù)值，以同樣的方 式改變處理區(qū)域的寬度。所述寬度典型地約為2000mm。同樣，用于 橫向移動的噴射沖角可以這樣的方式輸入。它可典型地設(shè)定為相對于
垂直于待處理的層在-45。到+45。之間。控制裝置還可設(shè)有多個可選擇 的"程序"。 一個程序可例如意味著一種帶有0。沖角的橫向運(yùn)動和兩 種分別帶有30°和-30°的橫向運(yùn)動。
圖5示出了驅(qū)動導(dǎo)軌2如何由單獨的液壓馬達(dá)24，25通過控制經(jīng) 由所述控制裝置21的液壓閥門26， 27單獨進(jìn)行控制的，這種控制是 根據(jù)經(jīng)由設(shè)置在每個驅(qū)動導(dǎo)軌上的傳感器28，29傳送到所述計算裝置 的信號進(jìn)行的，這些驅(qū)動導(dǎo)軌用于確保車輛1在變址時，沿著直線或 其它預(yù)定路線移動。
當(dāng)然，本發(fā)明并不以任何方式限定在上述優(yōu)選實施例中，而是具 有變型的可能性，這些變型對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是明顯的，而不 會背離由所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的基本思路。
雖然在上文中使用術(shù)語"沖擊點"，但是它實際上并不是一個點的 問題，而是噴嘴沖擊所述層的較小限定區(qū)域。
權(quán)利要求
1、一種用于移動具有噴嘴的噴射元件(6)的方法，所述噴射元件設(shè)置于支架(4)上，所述支架(4)可在大致呈直線的路線上移動并設(shè)有可樞轉(zhuǎn)連接所述噴射元件的底部(5)，移動所述支架，以便通過相對于所述底部樞轉(zhuǎn)噴嘴和噴射元件(6)來改變在待處理層上的噴射沖角，從而遍及所述層在所述直線路線中移動噴射元件的噴嘴(14)，其特征在于，在所述直線路線中的所述移動和所述樞轉(zhuǎn)是協(xié)同的，以便遍及所述層以大致恒定的速度在所述層上移動噴射沖擊點。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在支架(4)的移 動過程中進(jìn)行基本連續(xù)的檢測，以便能夠確定支架的速度，在樞轉(zhuǎn)噴 射元件(6)的過程中進(jìn)行基本連續(xù)的檢測，以便能夠確定所述噴射元 件的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對于遍及所述層的所述噴射沖擊點的速度的影響，遍及 所述層的所述噴射沖擊點的全速度通過有關(guān)所述兩個測量的信息進(jìn)行 計算，這樣計算出的所述全速度的數(shù)值與預(yù)設(shè)值相比較，以確定速度 差值，所述直線路線中的所述運(yùn)動和所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動是受控的，以抵消 所述差值。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所迷的方法，其特征在于，首次提及的檢測通 過檢測所述支架(4)的瞬時位置進(jìn)行，關(guān)于該位置的信息用于所述計算。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其特征在于，其次提及的所 述檢測通過檢測所述噴射元件(6)的縱向與其預(yù)定方向、諸如垂直于 待處理層的方向之間形成的瞬時角度進(jìn)行，并且有關(guān)所述角度的信息 用于所述計算。
5、 根據(jù)權(quán)利要求2至4中的任一項所述的方法，其特征在于，當(dāng) 計算所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對于所述沖擊點的所述全速度的所述影響時，要考 慮所述噴射元件(6)的樞轉(zhuǎn)點(8)及其噴嘴的口部(16)之間的距 離。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述噴射元件(6) 可拆卸地設(shè)置在所述底部(5)上，以便用在所述樞轉(zhuǎn)點和所述噴射元件的噴嘴口部之間具有不同距離的另一噴射元件來替換，當(dāng)計算所迷 噴射元件的樞轉(zhuǎn)對所迷沖擊點的全速度的影響時，要考慮這個改變的距離。
7、 根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的方法，其特征在于，在直 線路線中的所述運(yùn)動和所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動通過利用液壓馬達(dá)(9， 10 )實現(xiàn)， 并且連接到所述馬達(dá)上的閥門(22， 23)是受控的，以便將所述沖擊 點的所述速度控制成大致恒定。
8、 根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的方法，其特征在于，在相 對于所述底部(5)樞轉(zhuǎn)所述噴射元件的過程中，相對于所述底部引導(dǎo) 所述噴射元件(6)，以使得所述噴射元件的噴嘴口部(16)在大致同 一個平面(17)中作運(yùn)動，所述平面(17)大致垂直于噴射元件樞轉(zhuǎn) 的平面。
9、 一種用于移動具有噴嘴(14)的噴射元件(6)的設(shè)備，所述 設(shè)備包括支架(4)、第一驅(qū)動裝置(9)、第二驅(qū)動裝置(10)和一個 適于控制所述第一和第二驅(qū)動裝置的控制裝置(21),所述支架(4) 可在大致直線路線中沿引導(dǎo)元件(3)運(yùn)動并設(shè)有底部(5)，所述噴射 元件可樞轉(zhuǎn)地連接到支架上的所述底部，所述第一驅(qū)動裝置(9)用于 沿著所述引導(dǎo)元件移動所述支架，從而在所述直線路線中遍及待處理 層移動所述噴射元件的噴嘴，所述笫二驅(qū)動裝置(10)用于相對所述 底部樞轉(zhuǎn)所述噴射元件，從而改變所述層上的噴射沖角，并由此控制所述噴嘴在所述層上的沖擊點的運(yùn)動，其特征在于，所述控制裝置適 于協(xié)調(diào)對于所述第一和第二驅(qū)動裝置(9, IO)的控制，以便遍及所述 層以大致恒定的速度移動所述噴射沖擊點。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，所述裝置(21) 包括第一元件(18)、第二元件(20)、計算裝置(19)和一個比較裝 置，所述第一元件(18)適于在所述支架運(yùn)動的過程中進(jìn)行基本連續(xù) 的檢測，所述檢測能夠確定所述支架(4)的速度，所述第二元件(20) 適于在樞轉(zhuǎn)所述噴射元件(6)的過程中進(jìn)行基本連續(xù)的檢測，所述檢 測能夠確定所述噴射元件(6 )的樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對于遍及所述層的所述沖擊 點的速度的影響，所述計算裝置(19)適于通過來自所述第一和第二 元件的信息來計算遍及所述層的所述噴射沖擊點的全速度，且所述比 較裝置適于將如此計算出的所述全速度值與預(yù)設(shè)速度值相比較，以確 定速度差值，并且所述控制裝置適于控制所述驅(qū)動裝置(9， 10)以便 消除所述差值。
11、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其特征在于，所述第一元件(18) 適于檢測所述支架的瞬時位置，并將該位置的信息傳送到所述計算裝 置(19)。
12、 根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的設(shè)備，其特征在于，所述第二 元件(20)適于檢測所述噴射元件(6)的縱向相對于其預(yù)定方向，例 如垂直于待處理層的方向所成的瞬時角度，并將該角度的信息傳送到 所述計算裝置(19)。
13、 根據(jù)權(quán)利要求10至12中的任一項所述的設(shè)備，其特征在于， 所述計算裝置(19)適于在計算所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對所述沖擊點的所述全 速度的所述影響時，考慮所述噴射元件(6)的樞轉(zhuǎn)點(8)和其噴嘴 口部(16)之間的距離。
14、 根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，所述噴射元件(6 ) 可拆卸地設(shè)置在所述底部(5)上，以便被在所述樞轉(zhuǎn)點(8)和所述 噴射元件的噴嘴口部(16 )之間具有不同距離的另 一噴射元件所替代， 并且所述計算裝置(19)適于在計算所述噴射元件的樞轉(zhuǎn)對所述沖擊 點的全速度的影響時，考慮這種改變的距離。
15、 根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的設(shè)備，其特征在于，它還包括 在所述沖擊點被遍及所述層的區(qū)域移動到材料已經(jīng)被去除深度(D ) 的時候，為所述計算裝置(19)提供有關(guān)深度(D)信息的裝置，以 便在計算所述樞轉(zhuǎn)運(yùn)動對于所述沖擊點的全速度的影響時，考慮關(guān)于 通過所述噴射元件的噴射從所述層上去除掉的材料深度(D)的信息。
16、 根據(jù)權(quán)利要求9至15中的任一項所述的設(shè)備，其特征在于， 所述驅(qū)動裝置(9, 10)為液壓馬達(dá)，并且所述控制裝置(21)適于控 制連接在所述馬達(dá)上的控制閥門(22, 23),以便將所述沖擊點的所述 速度控制成大致恒定。
17、 根據(jù)權(quán)利要求9至16中的任一項所述的設(shè)備，其特征在于， 它還包括裝置(15)，所述裝置(15)適于在相對于所述底部(5)樞 轉(zhuǎn)所述噴射元件的過程中，相對于所述底部引導(dǎo)所述噴射元件(6)， 以使所述噴射元件的噴嘴口部(16)在大致同一個平面(17)中作運(yùn) 動，所述平面(17)大致垂直于所述噴射元件樞轉(zhuǎn)的平面。
18、 一種根據(jù)權(quán)利要求9至17中的任一項所述設(shè)備的用途，用于 材料層，特別是混凝土層的材料去除處理。
19、 一種計算機(jī)程序，包含計算機(jī)程序代碼裝置，用于使計算機(jī) 或處理器控制根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述方法的步驟。
全文摘要
一種用于移動具有噴嘴的噴射元件(6)的方法，包括支架(4)，該支架(4)可在大致呈直線的路線上移動并設(shè)有可樞轉(zhuǎn)連接該噴射元件的底部。設(shè)置第一驅(qū)動裝置(9)用于移動支架，從而在所述直線路線中遍及利用噴射進(jìn)行處理的待處理層移動該噴射元件的噴嘴，并且設(shè)置第二驅(qū)動裝置(10)用于相對于所述底部樞轉(zhuǎn)該噴射元件，從而改變在所述層上的噴射沖角?？刂蒲b置(21)適于調(diào)整對于所述第一和第二驅(qū)動裝置的控制，以便遍及所述層以大致恒定的速度在所述層上移動所述噴射沖擊點。
文檔編號B23Q15/007GK101099002SQ200580045937
公開日2008年1月2日 申請日期2005年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月5日
發(fā)明者R·希爾莫松 申請人:水噴射系統(tǒng)控股股份公司