專利名稱：氣浮式激光修補(bǔ)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是與激光修補(bǔ)機(jī)有關(guān)，特別是有關(guān)于一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有激光修補(bǔ)機(jī)主要包含有二長形的氣浮承臺(tái)、二夾爪、 一檢測(cè)裝 置以及一激光裝置；該二氣浮承臺(tái)用以承載一基板，該二夾爪夾持該基 板兩側(cè)且沿一 X軸方向同步位移，該檢測(cè)裝置位于該二氣浮承臺(tái)之間且 沿一 Y軸方向位移，該激光裝置與該檢測(cè)裝置同步位移；當(dāng)該基板通過 該激光裝置時(shí)，該激光裝置會(huì)往復(fù)位移并發(fā)出激光以消除該基板表面的 瑕疵點(diǎn)藉以達(dá)到修補(bǔ)該基板的目的。然而，由于該基板成水平置放時(shí)，該基板中央部位會(huì)因?yàn)樵摶灞?身重力的作用產(chǎn)生彎曲；當(dāng)現(xiàn)有激光修補(bǔ)機(jī)的檢測(cè)裝置進(jìn)行檢測(cè)作業(yè)時(shí)， 該檢測(cè)裝置會(huì)因相對(duì)該基板的距離不斷改變而失焦，使該檢測(cè)裝置需要 持續(xù)性調(diào)整焦距；換言之，對(duì)焦時(shí)間的增加將會(huì)延長檢測(cè)作業(yè)的時(shí)間。 再者，氣浮承臺(tái)的尺寸通常都是固定且不可調(diào)整的，但是基板卻具有多 種不同的尺寸，進(jìn)而衍生不同尺寸的基板需要不同尺寸的氣浮承臺(tái)的問 題；如此一來，廠商為因應(yīng)各種基板尺寸而需要準(zhǔn)備多個(gè)不同尺寸的氣 浮承臺(tái)，進(jìn)而增加基板在制造過程中的成本。綜上所述，現(xiàn)有激光修補(bǔ)機(jī)在檢測(cè)作業(yè)具有上述的缺失而有待改進(jìn)。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明的主要目的在于提供一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置， 其能夠在氣浮式激光修補(bǔ)裝置及基板之間利用環(huán)狀氣流形成浮力，以使 檢測(cè)裝置相對(duì)基板持續(xù)保持適當(dāng)?shù)慕咕?，具有縮短對(duì)焦時(shí)間的特色。本發(fā)明的次一 目的在于提供一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其相較于常用承載基板一側(cè)整體表面者，本發(fā)明能夠藉由承載基板局部面積即達(dá)到 承載基板的目的，進(jìn)而能夠適用于不同尺寸的基板。為達(dá)成上述目的，本發(fā)明所提供一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置，包含有 一位移裝置是可沿一 X軸以及一 Y軸所定義的一作業(yè)面位移；該位移裝 置具有一氣浮板，該氣浮板具有一鏤空區(qū)以及多個(gè)布設(shè)該氣浮板頂部的 出氣口； 一檢測(cè)裝置是設(shè)于該位移裝置且位于該位移裝置的鏤空區(qū)；一氣壓源(air source)是連通該氣浮板的出氣口，使氣體經(jīng)由該多個(gè)出氣 口輸出而形成一環(huán)狀氣流。藉此，本發(fā)明所提供氣浮式激光修補(bǔ)裝置透過上述結(jié)構(gòu)，其能夠在 該氣浮式激光修補(bǔ)裝置的氣浮板以及一基板之間利用該環(huán)狀氣流形成浮 力，使該位移裝置相對(duì)該基板保持固定間距而持續(xù)保持適當(dāng)?shù)慕咕啵?有縮短對(duì)焦時(shí)間的特色。再者，常用的是為承載基板的一側(cè)整體表面， 本發(fā)明能夠藉由承載該基板局部面積即達(dá)到承載該基板的目的，進(jìn)而能 夠適用于不同尺寸的基板。


圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的立體圖。 圖2為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的頂側(cè)視圖。圖3為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，主要揭示氣浮板、檢測(cè) 裝置及基板之間的結(jié)構(gòu)。圖4為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，主要以另一角度揭示氣 浮板、檢測(cè)裝置及基板之間的結(jié)構(gòu)。主要元件符號(hào)該1 基板 10修補(bǔ)裝置32 X軸36 作業(yè)面 381鏤空區(qū) 383 緩沖槽32 框架 30位移裝置34 Y軸38 氣浮板 382 出氣口 39微調(diào)裝置40檢測(cè)裝置 50氣體連結(jié)管路具體實(shí)施方式
為了詳細(xì)說明本發(fā)明的結(jié)構(gòu)、特征及功效所在，茲舉以下較佳實(shí)施 例并配合圖式說明如后，其中圖1為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的立體圖。 圖2為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的頂側(cè)視圖。圖3為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，主要揭示氣浮板、檢測(cè) 裝置及基板之間的結(jié)構(gòu)。圖4為本發(fā)明一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，主要以另一角度揭示氣浮板、檢測(cè)裝置及基板之間的結(jié)構(gòu)。請(qǐng)參閱圖1至圖4，本發(fā)明一較佳實(shí)施例所提供氣浮式激光修補(bǔ)裝置 10，其是可對(duì)一基板1進(jìn)行檢測(cè)作業(yè)；其中， 一框架2是承載該基板1 外緣部份，該基板1中央部份是直接暴露于外界；該修補(bǔ)裝置10包含有 一位移裝置30、 一檢測(cè)裝置40以及一氣壓源(圖中未示)。該位移裝置30是位于該基板1底側(cè)，該位移裝置30可沿一 X軸32 以及一 Y軸34所定義的一作業(yè)面36往復(fù)位移，該作業(yè)面36平行該基板 1。該位移裝置30具有一氣浮板38以及一微調(diào)裝置39;該氣浮板38具 有一鏤空區(qū)381以及多個(gè)布設(shè)該氣浮板38頂部的出氣口 382，該多個(gè)出 氣口 382是環(huán)繞該鏤空區(qū)；該氣浮板38分別于各該出氣口 382周圍形成 一緩沖槽383，各該緩沖槽383是概呈長形。該微調(diào)裝置39是選自以帶 狀齒條以及導(dǎo)螺桿其中一種方式達(dá)成位移功能；本實(shí)施例中，該微調(diào)裝 置39是以帶狀齒條方式達(dá)成位移功能為例，在此僅為舉例說明，并非作 為限制要件。該檢測(cè)裝置40是設(shè)于該位移裝置30的微調(diào)裝置39;當(dāng)該位移裝置 30沿該作業(yè)面36位移，該檢測(cè)裝置40可隨該位移裝置30同步位移，用 以掃瞄偵測(cè)該基板1上的瑕疵點(diǎn)(圖中未示)；當(dāng)該微調(diào)裝置39沿垂直 方向位移，該檢測(cè)裝置40受該微調(diào)裝置39帶動(dòng)而調(diào)節(jié)相對(duì)于該基板1 的距離。其中，該檢測(cè)裝置40是選自激光發(fā)射器、CCD攝影機(jī)(charged coupled device camera) 以及CMOS攝影機(jī)(complementary metal oxidesilicon camera)其中一種；本實(shí)施例中，該檢測(cè)裝置40是以CCD攝影 機(jī)為例，在此僅為舉例說明，并非作為限制要件。該氣壓源是經(jīng)由一氣體連結(jié)管路50連通該氣浮板38的出氣口 3S2， 使氣體經(jīng)由該多個(gè)出氣口 382輸出而形成一往該基板20方向噴出的環(huán)狀 氣流(圖中未示)；該環(huán)狀氣流圍合環(huán)繞該檢測(cè)裝置40頂部且形成介于 該氣壓源與該基板1之間的浮力；該環(huán)狀氣流的目的在于承托該基板20， 使該位移裝置30不會(huì)相對(duì)該基板1過度靠近，進(jìn)一步確保該檢測(cè)裝置40 與該基板1之間形成足夠間隙而不相互接觸。經(jīng)由上述結(jié)構(gòu)，當(dāng)該位移裝置30帶動(dòng)該檢測(cè)裝置40同步位移；此 時(shí)，該氣壓源會(huì)持續(xù)往該基板噴出該環(huán)狀氣流，其主要目的在于經(jīng)由使 該檢測(cè)裝置40與該基板1之間保持固定間距，進(jìn)而使該檢測(cè)裝置40相 對(duì)該基板1持續(xù)保持適當(dāng)?shù)慕咕?；換言之，即使該檢測(cè)裝置40處于正在 位移的狀態(tài)下，其仍然能夠連續(xù)檢索清晰的影像而不需要持續(xù)性調(diào)整焦 距，具有減少對(duì)焦時(shí)間而縮短檢測(cè)作業(yè)時(shí)間的特色。同時(shí)，該環(huán)狀氣流 圍合環(huán)繞該檢測(cè)裝置40能夠確保該位移裝置30在位移時(shí)，該環(huán)狀氣流 所提供的相對(duì)浮力是呈平均分布的，藉以形成近似氣體靜壓軸承(aerostatic bearing)的效果，用以防止該檢測(cè)裝置40因偏移該作業(yè)面36而損壞該 基板l。再者，常用的是為承載基板的一側(cè)整體表面，本發(fā)明能夠藉由承 載該基板1局部面積即達(dá)到承載該基板1的目的，進(jìn)而能夠適用于不同 尺寸的基板，具有較佳的適用性。本發(fā)明于前揭實(shí)施例中所揭露的構(gòu)成元件，僅為舉例說明，并非用 來限制本發(fā)明的范圍，其它等效元件的替代或變化，亦應(yīng)為本發(fā)明的權(quán) 利要求范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1、一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，包含有一位移裝置，可沿一X軸以及一Y軸所定義的一作業(yè)面位移；該位移裝置具有一氣浮板，該氣浮板具有一鏤空區(qū)以及多個(gè)布設(shè)該氣浮板頂部的出氣口；一檢測(cè)裝置，設(shè)于該位移裝置且位于該位移裝置的鏤空區(qū)；以及一氣壓源，連通該氣浮板的出氣口，使氣體經(jīng)由該多個(gè)出氣口輸出而形成一環(huán)狀氣流。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，該多 個(gè)出氣口是環(huán)繞該鏤空區(qū)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，該氣 浮板分別于各該出氣口周圍形成一緩沖槽。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，各該 緩沖槽是概呈長形。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，該位 移裝置進(jìn)一步包含有一微調(diào)裝置，所述檢測(cè)裝置設(shè)于該微調(diào)裝置而可沿 垂直方向位移，以調(diào)節(jié)該檢測(cè)裝置的位置。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，該Z 軸微調(diào)裝置是選自以帶狀齒條以及導(dǎo)螺桿其中一種方式達(dá)成位移功能。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮式激光修補(bǔ)裝置，其特征在于，該檢 測(cè)裝置是選自激光發(fā)射器、CCD攝影機(jī)以及CMOS攝影機(jī)其中一種。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氣浮式激光修補(bǔ)裝置，包含有一位移裝置是可沿一X軸以及一Y軸所定義的一作業(yè)面位移；該位移裝置具有一氣浮板，該氣浮板具有一鏤空區(qū)以及多個(gè)布設(shè)該氣浮板頂部的出氣口；一檢測(cè)裝置是設(shè)于該位移裝置且位于該位移裝置的鏤空區(qū)；一氣壓源(air source)是連通該氣浮板的出氣口，使氣體經(jīng)由該多個(gè)出氣口輸出而形成一環(huán)狀氣流。
文檔編號(hào)B23K26/00GK101607346SQ20081013022
公開日2009年12月23日 申請(qǐng)日期2008年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月16日
發(fā)明者葉公旭, 蘇紀(jì)為 申請(qǐng)人:東捷科技股份有限公司