專(zhuān)利名稱(chēng)：制造涂層切削工具的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造PVD涂層切削工具的方法，包括以下步驟沉積PVD涂 層，其中，在沉積期間，所述涂層經(jīng)受多于一個(gè)的離子蝕刻步驟。由于PVD涂層的光滑 度增加，根據(jù)本發(fā)明制造出來(lái)的切削工具將展示出提高的工具壽命，光滑度增加本身則 是由于表面缺陷數(shù)目降低而引起的。
背景技術(shù)：
當(dāng)今大多數(shù)切削工具都涂覆有PVD或者CVD涂層，例如Ti(C， N)、 TiN、 (Ti， A1)N、 (Ti， Si)N、 (Al， Cr)N或者Al203。 PVD涂層通常比CVD涂層更薄并且經(jīng)常在 韌度是關(guān)鍵的應(yīng)用中使用，例如銑削。與CVD涂層相比較，PVD涂層具有幾種吸引人 的性能，例如，壓應(yīng)力、更為精細(xì)的顆粒的涂層和更好的容忍載荷變化的能力。不幸的 是，大多數(shù)電弧沉積PVD涂層遭受存在金屬大粒子的影響，該金屬大粒子也被稱(chēng)為大粒 子或者小滴，它們以小球體形式存在于涂層表面上或者被埋在涂層內(nèi)部。在涂層沉積期 間，這些大粒子能夠減弱帶電金屬離子的進(jìn)入通量，因此在緊鄰大粒子的周?chē)械耐繉?中產(chǎn)生空隙。由于隨后在大粒子和涂層之間的粘著性降低，因此大粒子會(huì)在沉積過(guò)程期 間或緊接著沉積過(guò)程之后或者甚至在加工期間脫落。這可導(dǎo)致涂層質(zhì)量不良，而且涂層 具有空隙、氣孔，或者在極端情形中甚至導(dǎo)致直達(dá)至基片的孔。 當(dāng)具有大粒子的涂層被例如用于銑削操作時(shí)，存在碎屑將機(jī)械地和/或化學(xué)地與 凸出的大粒子相互作用的風(fēng)險(xiǎn)。當(dāng)碎屑在切削工具表面之上流動(dòng)時(shí)，小部分的涂層可以 被剝離，從而在涂層中形成孔或者氣孔。這種孔或者空隙可能是裂紋的起始點(diǎn)。在切削 刃上存在裂紋將最終導(dǎo)致切削刃碎裂或者切削工具破裂。 離子蝕刻是各種沉積工藝開(kāi)始時(shí)的一個(gè)共同步驟?；ǔＴ诔练e之前被離子 蝕刻以去除表面污染物和本身的氧化物與氮化物。 US6033734描述了在沉積PVD涂層之前在金屬基片表面上執(zhí)行的不同的蝕刻工 藝。所述蝕刻工藝是一種通過(guò)使用Cr和/或Mo離子執(zhí)行的金屬蝕刻工藝。
然而，已經(jīng)作出一點(diǎn)嘗試，以使用離子蝕刻作為中間步驟。 EP0756019描述了一種制造用于在沖孔操作中使用的材料變形工具的PVD涂層 的方法。由(Ti， A1)N、 (Ti， Al， Y)N或者(Ti， Al， Cr)N或者上述的任何多層所構(gòu)成 的PVD層被沉積。然后，例如利用噴砂或者金屬離子蝕刻對(duì)表面進(jìn)行機(jī)械處理，以去除 任何小滴并且實(shí)現(xiàn)光滑表面。然后，在頂部上沉積由MoS2構(gòu)成的第二、低摩擦的PVD涂層。 EP1533210A描述了一種用于沉積PVDa-Al2O3的方法?；紫缺煌扛灿心軌?經(jīng)受利用氬或者利用金屬離子的離子轟擊的第一硬質(zhì)涂層。被轟擊表面然后經(jīng)受氧化過(guò) 程，由此形成氧化物表面層。在該氧化物表面層上沉積"203層，這層將是a-Al203。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種制造涂層切削工具的方法，該涂層切削工具減 少了涂層內(nèi)部及其表面上的大粒子數(shù)量，由此導(dǎo)致涂層中的孔、空隙和氣孔的數(shù)量降低。 本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種制造涂層切削工具的方法，該涂層切削工具 具有更少的月牙洼磨損、更少的后刀面磨損、更少的熔結(jié)(fritting)、以及延長(zhǎng)的工具壽 命。 本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種制造涂層切削工具的方法，該方法使得能夠 沉積更厚PVD涂層而不存在熔結(jié)和裂開(kāi)的風(fēng)險(xiǎn)。
根據(jù)本發(fā)明，提供一種制造涂層切削工具的方法，包括以下步驟提供基片； 并且利用陰極電弧蒸鍍PVD沉積工藝在所述基片上沉積涂層，所述涂層為氮化物、氧化 物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的組合，并且其中所述沉積工藝還 包括使得所述涂層經(jīng)歷多于一個(gè)的單獨(dú)中間離子蝕刻步驟。能夠?qū)崿F(xiàn)具有降低的大粒子 數(shù)量的更加光滑的PVD涂層并且因此能夠達(dá)到在上面披露的目的。


圖1示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)沉積的PVD沉積(Ti， A1)N涂層的拋光截面。
圖2示出根據(jù)本發(fā)明沉積的涂層的拋光截面。
圖3是圖2中的涂層的特寫(xiě)視圖。 圖4和圖5分別示出圖1和圖2中的涂層的頂視FEGSEM圖像。 圖6示出大粒子如何被嵌入涂層中并且因此被新的涂層覆蓋的TEM明場(chǎng)圖像。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明涉及一種制造涂層切削工具的方法，包括以下步驟提供基片；并且利 用陰極電弧蒸鍍PVD沉積工藝在所述基片上沉積涂層，所述涂層為氮化物、氧化物、硼 化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的組合，并且其中所述沉積工藝還包括使 得所述涂層經(jīng)歷多于一個(gè)的單獨(dú)中間離子蝕刻步驟。通過(guò)利用沉積腔室執(zhí)行離子蝕刻步 驟。 通過(guò)離子轟擊實(shí)現(xiàn)離子蝕刻步驟，以若干單獨(dú)中間步驟的形式，這意指實(shí)際沉 積在蝕刻步驟期間停止并且然后在蝕刻步驟之后繼續(xù)，即，離子蝕刻步驟與沉積步驟交 替進(jìn)行。所使用的離子能夠是氬離子或者金屬離子。離子蝕刻將去除涂層的凸出部分以 及不良粘附到涂層其余部分的涂層材料，例如大粒子。該方法使得能夠?qū)崿F(xiàn)具有降低的 所謂大粒子的表面缺陷數(shù)量的光滑的PVD涂層。 離子蝕刻能夠在適合于沉積PVD涂層的任何溫度下執(zhí)行，但是優(yōu)選地在 450-600°C的溫度下。在蝕刻步驟期間的壓力優(yōu)選地為1-5 ii bar，更加優(yōu)選地1-3 y bar。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，使用氬離子。通過(guò)點(diǎn)燃填充有氬氣的沉積腔室中的 等離子體而獲得氬離子。氬離子朝向被保持在負(fù)電勢(shì)下的基片加速，該負(fù)電勢(shì)優(yōu)選在 80-250V之間，更優(yōu)選在100-200V之間。 在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，使用金屬離子。金屬離子被如下實(shí)現(xiàn)在被抽真 空的沉積腔室中的特殊蝕刻靶材處產(chǎn)生等離子體，并且因此形成朝向被保持在高負(fù)電勢(shì) 下的基片加速的金屬離子的稠密蒸汽，所述高負(fù)電勢(shì)優(yōu)選在150-1500V之間，更優(yōu)選在 200-1000V之間。金屬離子優(yōu)選是Ti、 Zr、 Cr、 Nb、 V、 Mo中的一種或者多種，更優(yōu)選為Cr或者M(jìn)o。 在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，離子蝕刻步驟是中間步驟，這意指離子蝕刻步驟將 與沉積步驟交替進(jìn)行。在蝕刻期間，沒(méi)有沉積發(fā)生。當(dāng)離子蝕刻步驟是中間步驟并且這 種操作被重復(fù)多次時(shí)，大粒子被部分地或者完全地去除，并且當(dāng)它們脫落時(shí)余留的空隙 將在下次沉積階段期間被新的涂層材料填充。因此，有效地避免了深且大的氣孔，從而 產(chǎn)生具有最少的表面缺陷的稠密、均質(zhì)涂層。 在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，在完成PVD涂層沉積之后執(zhí)行另外的離子蝕刻步 驟，作為最后步驟。這將使得PVD涂層具有光滑表面。 所沉積的PVD涂層能夠具有適用于切削工具的任何組分，例如氮化物、氧化 物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或者上述的組合。優(yōu)選地是，涂層包括 (Al， Ti)N、 TiN、 Ti(C， N)、 (Al， Cr)N、 CrN、 AIO、 (Ti， Si)N、 TiBN、 TiB、 (Ti， Al， X)N中的一種或者多種構(gòu)成的一層或者多層，其中X能夠是Si、 B、 C、 Ta、 V、 Y、 Cr、 Hf、 Zr中的一種或者多種，更優(yōu)選地，涂層是(Al， Ti)N、 (Ti， Si)N、 TiBN、 (Ti， Al， X)N中的一種或者多種構(gòu)成的一層或者多層，其中X如上所限定，并且最優(yōu)選 地，涂層為(A1， Ti)N。 根據(jù)本發(fā)明使用的PVD涂層能夠是均質(zhì)或者是多層涂層。能夠在均質(zhì)組分的 層中或在均為均質(zhì)但具有不同組分的層之間以多于一個(gè)的中間步驟的形式而執(zhí)行離子蝕 刻，或者在多層涂層中以多于一個(gè)的中間步驟的形式而執(zhí)行離子蝕刻，或上述的任何組 合。多層涂層在這里意指包括至少5個(gè)，優(yōu)選地至少I(mǎi)O個(gè)的單獨(dú)層的涂層。然而，它 能夠包括多達(dá)幾千個(gè)單獨(dú)層。 在本發(fā)明的方法中包括的離子蝕刻步驟能夠被應(yīng)用于大多數(shù)的PVD技術(shù)，但是 在其中大粒子更加顯著的陰極電弧沉積中特別令人感興趣。 PVD涂層的厚度能夠在較寬范圍中，因?yàn)楦鶕?jù)本發(fā)明的方法使得能夠沉積比傳 統(tǒng)的PVD涂層更厚的涂層。涂層厚度能夠是0.1-10 iim，優(yōu)選地0.5-6 ii m并且最優(yōu)選地 1-5 ii m。 適用于本發(fā)明的基片優(yōu)選地為切削工具刀片，或者圓形工具，例如鉆、端銑刀 等?；瑑?yōu)選地由硬質(zhì)合金、金屬陶瓷、陶瓷、立方氮化硼或者高速鋼中的任何一種制 成。 本發(fā)明還涉及一種根據(jù)上述過(guò)程制造的切削工具。 已經(jīng)發(fā)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明制造的切削工具將由于大粒子數(shù)量降低而獲得更加光滑的 涂層。光滑涂層將引起多個(gè)改進(jìn)。例如，在刀具表面上，碎屑將更容易流動(dòng)，僅與涂層 較輕地相互作用，因此降低涂層裂開(kāi)的風(fēng)險(xiǎn)。光滑涂層還將由于較低溫度而給出增加的 抗月牙洼磨損性，并降低切削刃積屑、坑口磨損、刃線熔結(jié)和裂紋的風(fēng)險(xiǎn)，并且還最大 程度降低了圓形工具的碎屑堵塞以及隨后工具斷裂的風(fēng)險(xiǎn)。具有較輕摩擦磨損的更加光 滑的涂層還將允許更厚的涂層而不存在粘著問(wèn)題。 在進(jìn)入和離開(kāi)工作材料期間引起沖擊載荷的車(chē)削中的間斷切削中，光滑涂層也
是有益的。在此情形中光滑涂層將顯著地降低嚴(yán)重?cái)嗔训娘L(fēng)險(xiǎn)。
實(shí)例1 利用標(biāo)準(zhǔn)Ti。.33Al。.67N涂層涂覆根據(jù)操作類(lèi)型(車(chē)削、銑削等)而具有不同幾何
5形狀的CNMG120408-MM、 R290-12T308M-KM和R390-11T0308M-PM的硬質(zhì)合金刀 片。在N2氣氛中通過(guò)陰極電弧蒸鍍沉積涂層并且刀片被安裝在3維旋轉(zhuǎn)基臺(tái)上。從兩 對(duì)Ti。.33Al。.67靶材沉積(Ti， A1)N涂層。 通過(guò)沉積4 ii m厚的層而根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)涂覆刀片A，該層厚是在后刀面那側(cè)的中 部中測(cè)得的。 根據(jù)本發(fā)明涂覆刀片B。應(yīng)用與刀片A相同的沉積條件，只是在已經(jīng)沉積 0.7-0.8 ym厚度的層之后，停止沉積，并且利用氬氣填充反應(yīng)腔室。向刀片施加負(fù)偏壓， 并且點(diǎn)燃等離子體，并且利用氬離子轟擊刀片。在離子轟擊之后，沉積重新開(kāi)始，并且 新的Ti。^Al,N層被沉積。這種過(guò)程被重復(fù)6次，直至實(shí)現(xiàn)4ym的總涂層厚度。作為 最后步驟，在沉積周期終止且腔室被打開(kāi)之前，執(zhí)行表面處理，其中刀片再次經(jīng)受離子轟擊。 在圖1中能夠看見(jiàn)刀片A的涂層的截面形式的SEM圖片。該圖片表明能夠看 見(jiàn)氣孔，在氣孔處小滴已經(jīng)落出，僅留下覆蓋基片的非常薄的涂層。在圖2和3中能夠 看見(jiàn)刀片B的涂層的SEM圖片。在圖2中，能夠看見(jiàn)頂表面更加光滑，具有較少的氣孔 和空隙。仍然能夠看見(jiàn)嵌入涂層中的一些大粒子，但是這些大粒子被牢固地附著住而并 沒(méi)有空隙圍繞它們。圖3是圖2的特寫(xiě)圖，在圖3中涂層中明顯可見(jiàn)幾條細(xì)線。這是由 于離子轟擊過(guò)程造成的。離子將優(yōu)先地蝕刻較輕的元素，如A1，留下富Ti的區(qū)域。圖 4和圖5分別示出圖1和圖2的涂層的頂視FEGSEM(場(chǎng)發(fā)射電子掃描顯微鏡)圖像。
實(shí)例2 根據(jù)實(shí)例l的刀片而涂覆立方氮化硼刀片，但是不同之處在于，在此情形中涂 層為從2對(duì)Ti靶材沉積的均質(zhì)TiN涂層。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)而沉積刀片C，達(dá)到4ym的涂層 厚度，該厚度是在后刀面那側(cè)的中部測(cè)得的。根據(jù)本發(fā)明，以相同方式沉積刀片D，不 同之處在于，在沉積之后利用氬填充腔室，等離子體被點(diǎn)燃并且利用氬離子轟擊刀片。
實(shí)例3 利用在N2氣氛中通過(guò)陰極電弧蒸鍍沉積的非周期性的多層(Ti， A1)N而涂覆具 有幾何形狀CNMG120408-MM的硬質(zhì)合金銑削刀片，并且該刀片被安裝在3維旋轉(zhuǎn)基臺(tái) 上，所述基臺(tái)被布置成用于獲得非周期性的結(jié)構(gòu)。從同時(shí)運(yùn)行的兩對(duì)Ti。^Al,靶材和一 對(duì)Ti靶材沉積多層。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)涂覆的刀片E達(dá)到4ym的涂層厚度，該厚度是在刀 片前刀面的中部測(cè)得的。 在沉積刀片F(xiàn)(本發(fā)明)期間，在已經(jīng)沉積具有1.5ym厚度的層之后，沉積停止 并且利用氬填充反應(yīng)腔室。負(fù)偏壓被施加到刀片。等離子體被點(diǎn)燃，并且利用氬離子轟 擊刀片。在離子轟擊之后，沉積重新開(kāi)始并且沉積另外的1.5ym厚度，刀片被離子蝕刻 并且沉積其余涂層。作為最后步驟，在沉積周期終止并且腔室被打開(kāi)之前，執(zhí)行表面處 理，其中刀片再次經(jīng)受離子轟擊?？偼繉雍穸葹?ym。
對(duì)實(shí)例4-8的解釋 下面的表達(dá)/術(shù)語(yǔ)通用于金屬切削中，并且在下面的表格中予以解釋
Vc(m/分鐘)切削速度，單位米每分鐘
fz(mm/齒)進(jìn)給速率，單位毫米每齒
z:(數(shù)量)刀具中的齒數(shù)ae(mm):切削徑向深度，單位毫米 ap(mm):切削軸向深度，單位毫米 D(mm):刀具直徑，單位毫米 實(shí)例4
在下面的切削條件期間，在車(chē)削操作中測(cè)試來(lái)自實(shí)例1的具有幾何形狀
工件材料硬質(zhì)鋼ovako 825B Vc = 110m/分鐘 fz = 0.3mm/轉(zhuǎn) a = 2mm
冷卻劑乳劑
工具壽命標(biāo)準(zhǔn)為超過(guò)0.3mm的后刀面磨損或者刀片失效。刀片A(現(xiàn)有技術(shù))在 用中持續(xù)14分鐘，而刀片B(本發(fā)明)則持續(xù)21分鐘。 實(shí)例5
在銑削操作中測(cè)試并且比較來(lái)自實(shí)例1的具有幾何形狀R290-12T308M-KM的刀 現(xiàn)有技術(shù))和B(本發(fā)明)。
工件材料CGI(蠕墨鑄鐵)Sintercast公司
Vc = 300m/分鐘，
fz = 0.15mm/齒
ae = 50mm
ap = 3mm
z = 3
D = 63mm
注干條件
刀片A(現(xiàn)有技術(shù))在該應(yīng)用中僅僅持續(xù)32分鐘，而刀片B(本發(fā)明)持續(xù)45分 用于延長(zhǎng)工具壽命的磨損類(lèi)型中的決定性差異在于更少的熔結(jié)。 實(shí)例6
在下面的切削條件期間，在銑削操作中測(cè)試具有幾何形狀R390-11T0308M-PM 據(jù)實(shí)例1涂覆的刀片A(現(xiàn)有技術(shù))和B(本發(fā)明) 工件材料低合金鋼，SS2244 Vc = 150m/分鐘 fz = 0.15mm/齒 ae = 25mm ap = 3mm z = 2 D = 25mm
注冷卻劑乳劑
工具壽命標(biāo)準(zhǔn)是大于0.2mm的后刀面磨損或者大于0.3mm的熔結(jié)。 刀片A(現(xiàn)有技術(shù))在該應(yīng)用中持續(xù)30分鐘而刀片B(本發(fā)明)持續(xù)37分鐘。
在增加的Vc = 200m/分鐘下，刀片A(現(xiàn)有技術(shù))持續(xù)20分鐘而刀片B(本發(fā) 明)持續(xù)25分鐘。 用于延長(zhǎng)工具壽命的磨損類(lèi)型中的決定性差異在于刀刃線中的碎裂更輕，以及 更輕的后刀面磨損。令人感興趣的是，刀片B(本發(fā)明)示出磨損是緩慢且穩(wěn)態(tài)加重的， 而刀片A(現(xiàn)有技術(shù))則遭受更為嚴(yán)重的失效。
實(shí)例7 在車(chē)削操作中測(cè)試具有幾何形狀CNGA120408T01030AWH的立方氮化硼刀片 C(現(xiàn)有技術(shù))和D(本發(fā)明)。測(cè)試本體具有環(huán)的形式，所述的環(huán)具有10mm的插孔，該 插孔帶有90度進(jìn)口和出口角度。進(jìn)給速率從0.20mm/轉(zhuǎn)逐步增加并且對(duì)于每一次切削增 加0.02mm/轉(zhuǎn)。 工件材料低合金鋼SS2258， HRC = 56。
刀架C5-DCLNL-35060-12
Vc = 120m/分鐘
Fn = Apap =起初0.20mm/轉(zhuǎn)，對(duì)于每一次切削以0.02mm/轉(zhuǎn)逐步增加 注干條件 工具壽命標(biāo)準(zhǔn)為刀片斷裂。 刀片C(現(xiàn)有技術(shù))在0.34mm/轉(zhuǎn)的進(jìn)給速率下遭受刀片斷裂，而刀片D(本發(fā)明) 則保持完好直至進(jìn)給速率達(dá)到0.50mm/轉(zhuǎn)。
實(shí)例8 在下面的切削條件期間，在車(chē)削操作中測(cè)試來(lái)自實(shí)例3的具有幾何形狀
CNMG120408-MM的刀片E(現(xiàn)有技術(shù))和F(本發(fā)明)工件材料硬質(zhì)鋼ovako 825B Vc = 160m/分鐘 fz = 0.3mm/轉(zhuǎn) a = 2mm 冷卻劑乳劑 工具壽命標(biāo)準(zhǔn)是超過(guò)0.45mm的后刀面磨損或者刀片失效。刀片E(現(xiàn)有技術(shù)) 在該應(yīng)用中持續(xù)17分鐘，而刀片F(xiàn)(本發(fā)明)則持續(xù)21分鐘。用于延長(zhǎng)工具壽命的磨損 類(lèi)型中的決定性差異是更好的抗月牙洼磨損性。
權(quán)利要求
一種制造涂層切削工具的方法，包括以下步驟提供基片；并且利用陰極電弧蒸鍍PVD沉積工藝在所述基片上沉積涂層，其中所述涂層為氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的組合，其特征在于，所述沉積工藝還包括使得所述涂層經(jīng)歷多于一個(gè)的單獨(dú)中間離子蝕刻步驟。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，利用氬離子執(zhí)行所述離子蝕刻步驟。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，利用金屬離子執(zhí)行所述離子蝕刻步驟。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其特征在于，利用離子Ti、 Zr、 Cr、 Nb、 V、 Mo中的一 種或者多種執(zhí)行所述離子蝕刻步驟。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其特征在于，利用離子Cr或者M(jìn)o中的一種或者多種執(zhí) 行所述離子蝕刻步驟。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l-5中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，在完成涂層的沉積之后執(zhí)行所述 涂層的最后的離子蝕刻步驟。
7. 根據(jù)前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，所述PVD涂層包括(A1， Ti)N、 TiN、 Ti(C， N)、 (Al， Cr)N、 CrN、 AIO、 (Ti， Si)N、 TiBN、 TiB、 (Ti， Al， X)N中的 一種或者多種構(gòu)成的一層或者多層，X可以是Si、 B、 C、 Ta、 V、 Y、 Cr、 Hf、 Zr中的 一種或者多種。
8. 根據(jù)前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，所述PVD涂層包括(A1， Ti)N、 (Ti， Si)N、 TiBN、 (Ti， Al， X)N中的一種或者多種構(gòu)成的一層或者多層，X可以是Si、 B、 C、 Ta、 V、 Y、 Cr、 Hf、 Zr中的一種或者多種。
9. 根據(jù)前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，所述PVD涂層包括(A1， Ti)N構(gòu)成的一層或者多層。
10. 根據(jù)前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其特征在于，所述基片由硬質(zhì)合金、金屬陶 瓷、陶瓷、立方氮化硼或者高速鋼制成。
11. 一種根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)制造的涂層切削工具。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制造涂層切削工具的方法，包括以下步驟提供基片；并且在所述基片上沉積陰極電弧蒸鍍PVD涂層，所述涂層為氮化物、氧化物、硼化物、碳化物、碳氮化物、碳氧氮化物或上述的組合，其中在所述沉積過(guò)程中所述涂層經(jīng)歷多于一個(gè)的離子蝕刻步驟。由于PVD涂層的光滑度增加，根據(jù)本發(fā)明制造出來(lái)的切削工具將展示出提高的工具壽命，光滑度增加則是由于表面缺陷的數(shù)目降低而引起的。
文檔編號(hào)B23B27/14GK101691654SQ200810161059
公開(kāi)日2010年4月7日 申請(qǐng)日期2008年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月26日
發(fā)明者托里爾·米爾特韋特 申請(qǐng)人:山特維克知識(shí)產(chǎn)權(quán)股份有限公司