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整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置的制作方法

文檔序號:3180147閱讀:702來源:國知局
專利名稱:整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置的制作方法
技術領域
整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置
發(fā)明領域本發(fā)明屬于壓力容器領域,尤其是一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置。
背景技術
以二次電池為代表的一類受壓容器,雖然容積相當小,工作壓力也較小,理論上說 因超壓造成的容器爆裂危害不會太大。但由于和使用者的日常生活接觸程度高,以及超壓 過程劇烈等原因,實際上的超壓爆裂常常造成較大的經濟和人身傷害。因此,也需要設置超 壓安全保護裝置。使用于工業(yè)壓力容器的各種超壓安全保護裝置,都經歷了長時間的理論研究和工 程實踐,使用已經相當成熟。但是對于上述這一類超小受壓容器,因為安裝空間受限和制造 成本的原因,目前被廣泛應用的多是整體式爆破片超壓安全保護裝置。通過檢索,發(fā)現了幾篇已經公開的專利文獻,下面給予簡單描述,以利于本專利申 請的審查1、一種刻槽型爆破片的制造方法(CN1635292),包括領料、落料、制坯、成型并刻 槽、熱處理消除應力等工藝步驟,所述的成型壓力為2.0 25. OMPa,所述的刻槽壓力為 4. 0 50MPa,且刻槽為帶壓刻槽,所述的熱處理溫度為120 400°C。2、一種反拱環(huán)向拱面刻槽爆破片安全裝置(CN201255301),包括強度膜,還包括加 強環(huán),所述的強度膜為預拱成型的膜片,該膜片的拱面上設有環(huán)向減弱槽,該環(huán)向減弱槽上 設有一缺口,所述的加強環(huán)設置在強度膜上,該加強環(huán)上設有齒狀槽和舌狀片。與現有技術 相比,不僅適用于氣相介質的設備與管道,也適用于全液相介質的設備與管道,而且爆破壓 力分布范圍廣,所以其適用的場合范圍更大。3、全開無碎片拱形雙面刻槽金屬爆破片裝置(CN2182318),由夾持器的上頁(2) 和下頁(4)以及被夾持在其中間的帶有雙面刻槽(10)結構的爆破片(1)所組成的全開無 碎片拱形雙面刻槽爆破片裝置,其主要特點是,在其夾持器的上頁與爆破片接觸面(8)上 設計有微型凸肩(3),在爆破片(1)的環(huán)形邊緣(12)上加工有凹槽(6)。這種形式的爆破 片裝置,克服了現有技術中的同類裝置中常發(fā)生爆破片工作時出現抽邊現象,而且,緊固時 可以用螺栓,也可以用焊接和鉚接,擴大了原有裝置的使用范圍。上述三篇專利文獻,與本專利申請的技術方案有較大不同。
發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于克服現有技術的不足之處,提供可有效保證爆破片泄放能力的 最大化且爆破片受壓面積小、爆破壓力低的一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置。本發(fā)明實現目的的技術方案是一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,在密封外殼的端板上直接制出整體 式刻槽型爆破片,其特征在于在爆破片的上平面直接沖壓成型爆破片的第一加工凹部,在 第一加工凹部的近外緣部位與第一加工凹部輪廓形狀相同或者相近似沖壓制出分級上刻槽;在對應第一加工凹部的端板的另一面也沖壓制有第二加工凹部,在對應第一加工凹部 的分級上刻槽的第二加工凹部上沖壓制有封閉的分級下刻槽,在端板的第一加工凹部所制 的爆破片通過沖壓形成中間拱頂。而且,在爆破片上平面的第一加工凹部的分級上刻槽中部徑向對稱向心制有一與 分級上刻槽垂直交叉且截面形狀相同的上徑向橫刻槽。而且,在對應爆破片上平面的另一面的第二加工凹部的分級下刻槽中部徑向對稱 制有一與上徑向橫刻槽相對應且截面形狀與分級下刻槽相同的下徑向橫刻槽。而且,所述整體式刻槽型爆破片的基礎輪廓為橢圓形,或者是圓形及其他封閉的 弧面形狀。而且,所述分級上刻槽的截面形狀均為四邊形,所述分級下刻槽的截面形狀為大 銳角V形槽而且,所述中間拱頂為拱頂向外的正拱,或拱頂向內的反拱。本發(fā)明的優(yōu)點和積極效果是1、本發(fā)明提出一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置的構造,在這種構造 中,直接沖壓成型于受壓容器殼體的爆破片超壓安保裝置,除延續(xù)了整體式爆破片特有的 安裝空間小和低成本的特性外,因為采用了斷裂應力產生更為集中的二級刻槽方式以及邊 緣交叉的徑向橫槽方式,爆破片受壓面積可以更小,爆破壓力可以更低,能夠更好的滿足上 述以二次電池為代表的這一類容積超小工作壓力較小的受壓容器的實際需要。2、本發(fā)明在爆破片的中心部位形成了或拱頂向外(正拱)或拱頂向內(反拱)的 彎曲部,當受壓容器內壓高于爆破片設計爆破壓力時,爆破片的中心彎曲部沿刻槽最薄的 凹部發(fā)生斷裂,內部壓力被釋放,整體式刻槽型爆破片發(fā)揮作用構成了受壓容器的超壓安 全保護系統;因為是整個中心彎曲部的斷裂分離,爆破片在爆破后形成的泄放面積幾乎等 于爆破片的總面積,相對于安裝空間來說,本爆破片的泄放能力保證達到穩(wěn)定的最大。3、本發(fā)明所涉及的這種刻槽方式使爆破片在爆破后形成的泄放面積,相對于安裝 空間達到最大,從而保證了本爆破片安保裝置的泄放能力最大化;當高于設計爆破壓力以 上的內壓產生時,這種構造能充分釋放內部壓力,確確實實作為超壓安全保護裝置發(fā)揮作 用,甚至不會有受壓容器殼體的巨大膨脹變形產生。

圖1為本發(fā)明密封外殼的立體結構示意圖;圖2為圖1密封外殼的上蓋結構示意圖;圖3為圖2的A-A向截面剖視放大圖。
具體實施方式
下面結合實施例,對本發(fā)明進一步說明,下述實施例是說明性的,不是限定性的, 不能以下述實施例來限定本發(fā)明的保護范圍。一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,在密封外殼3的端板2上,直接制出 為了防爆的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置。從圖1上可以看到此超壓保護裝置在 殼體上占用的安裝空間很小,甚至不占用任何額外的安裝空間。具體結構是[0026](1)參見圖3,在端板上平面直接沖壓成型爆破片的第一加工凹部1,首先形成了 整體式爆破片的基礎輪廓,本實施例附圖所示的基礎輪廓為橢圓形,也可以是圓形或其他 封閉的弧面形狀;然后在第一加工凹部的近外緣部位與第一加工凹部輪廓形狀相同或者相 近似沖壓制出分級上刻槽9,該分級上刻槽的截面形狀為四邊形,如矩形、方形或者梯形等。(2)參見圖2,在爆破片上平面的第一加工凹部的分級上刻槽中部徑向對稱向心 制有一與分級上刻槽垂直交叉且截面形狀相同的上徑向橫刻槽4,該徑向橫刻槽與分級上 刻槽的截面形狀相同。(3)在對應第一加工凹部的端板的另一面也沖壓制有第二加工凹部5,在對應第 一加工凹部的分級上刻槽的第二加工凹部上沖壓制有封閉的分級下刻槽8,該分級下刻槽 的截面形狀為V形槽;在第二加工凹部的分級下刻槽中部徑向向心對稱制有一與上徑向橫 刻槽相對應且截面形狀與分級下刻槽相同的下徑向橫刻槽7,該V形槽以大銳角V形槽為最佳。(4)在端板所制的爆破片通過沖壓形成中間拱頂6,該中間拱頂為拱頂向外(正 拱)或拱頂向內(反拱),本實施例附圖3為拱頂向外的正拱結構。本發(fā)明所涉及的刻槽圖形使爆破片斷裂應力與受壓容器(如二次電池)內壓的相 關性增強,再加上中間拱頂的作用,使本裝置在安全的內壓范圍內形成較強的抗壓力疲勞 能力,并且在設計爆破壓力范圍內能夠及時啟動,而且即便因不小心讓電池跌落等原因造 成沖擊,本裝置也不會被輕易破壞。
權利要求一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,在密封外殼的端板上直接制出整體式刻槽型爆破片,其特征在于在爆破片的上平面直接沖壓成型爆破片的第一加工凹部,在第一加工凹部的近外緣部位與第一加工凹部輪廓形狀相同或者相近似沖壓制出分級上刻槽;在對應第一加工凹部的端板的另一面也沖壓制有第二加工凹部,在對應第一加工凹部的分級上刻槽的第二加工凹部上沖壓制有封閉的分級下刻槽,在端板的第一加工凹部所制的爆破片通過沖壓形成中間拱頂。
2.根據權利要求1所述的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,其特征在于在爆 破片上平面的第一加工凹部的分級上刻槽中部徑向對稱向心制有一與分級上刻槽垂直交 叉且截面形狀相同的上徑向橫刻槽。
3.根據權利要求1所述的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,其特征在于在對 應爆破片上平面的另一面的第二加工凹部的分級下刻槽中部徑向對稱制有一與上徑向橫 刻槽相對應且截面形狀與分級下刻槽相同的下徑向橫刻槽。
4.根據權利要求1所述的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,其特征在于所述 整體式刻槽型爆破片的基礎輪廓為橢圓形,或者是圓形及其他封閉的弧面形狀。
5.根據權利要求1所述的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,其特征在于所述 分級上刻槽的截面形狀均為四邊形,所述分級下刻槽的截面形狀為大銳角V形槽。
6.根據權利要求1所述的整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,其特征在于所述 中間拱頂為拱頂向外的正拱,或拱頂向內的反拱。
專利摘要本實用新型涉及一種整體式刻槽型爆破片超壓安全保護裝置,在密封外殼的端板上,直接制出為了防爆的整體式刻槽型爆破片,在端板上平面直接沖壓成型爆破片的第一加工凹部,在第一加工凹部的近外緣部位與第一加工凹部輪廓形狀相同或者相近似沖壓制出分級上刻槽,在對應第一加工凹部的端板的另一面也沖壓制有第二加工凹部,在對應第一加工凹部的分級上刻槽的第二加工凹部上沖壓制有封閉的分級下刻槽,在端板的第一加工凹部所制的爆破片通過沖壓形成中間拱頂。本實用新型使爆破片在爆破后形成的泄放面積相對于安裝空間達到最大,從而保證了本爆破片安保裝置的泄放能力最大化;當高于設計爆破壓力以上的內壓產生時,這種構造能充分釋放內部壓力,作為超壓安全保護裝置發(fā)揮作用,甚至不會有受壓容器殼體的巨大膨脹變形產生。
文檔編號B21D22/02GK201636401SQ20102015499
公開日2010年11月17日 申請日期2010年4月12日 優(yōu)先權日2010年4月12日
發(fā)明者劉心巖 申請人:天津錦泰勤業(yè)精密電子有限公司;劉心巖
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