專利名稱：使用粉末冶金制造齒式環(huán)齒輪的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在傳動裝置中使用的類型的燒結(jié)齒式離合器環(huán)，以及該燒結(jié)齒式離合器環(huán)的制造方法。
背景技術(shù)：
傳動裝置包括許多部件，這些部件在換檔中改變它們的位置使得傳動裝置的輸出軸線具有適合運動阻力的扭矩。這樣的傳動裝置尤其被提供用于汽車領(lǐng)域。傳統(tǒng)傳動裝置尤其包括齒式離合器環(huán)，該齒式離合器環(huán)牢固附接到惰輪(焊接或縮套在這些齒輪上)并且用于與滑動套筒或通過傳動裝置的桿驅(qū)動成旋轉(zhuǎn)的星形聯(lián)合器配合。通過包括在齒式環(huán)的齒和滑動套筒的齒之間的鎖定步驟，在桿和惰輪之間的速度相等的步驟之后實現(xiàn)了該配合。圖IA到圖ID分別不出傳統(tǒng)齒式環(huán)的前視圖、截面圖、局部放大截面圖和局部簡化透視圖。齒式環(huán)包括環(huán)10，環(huán)10具有沿環(huán)10的周向規(guī)律地分布的爪或齒12。如圖IB示出，齒12由該環(huán)的薄區(qū)14支承。應(yīng)該注意，這些齒還可以在該環(huán)的周邊成組地分布。從圖ID中可以較好地看出，每個齒12由與環(huán)10接觸的基表面16、與該基表面相對的上表面18、兩個前表面20和形成倒錐的兩個側(cè)向后表面22限定，兩個前表面20的相交處限定前棱?；砻?6和上表面18具有類似的形狀，由大致三角形的前部形成并由大致梯形的后部形成。每個齒12在其上表面18和其基表面16之間變寬，可以是線性變寬，但并非必須線性變寬。很多時候，對于表面22變寬的輪廓是圓心漸開線。由基表面16限定的直徑Clmin被稱為小直徑，以及由上表面18限定的直徑dmaj被稱為大直徑。還定義了節(jié)徑&^和因此的節(jié)平面、齒的特征和在小直徑和大直徑之間的位置(dmin〈dpHni, <d_)。齒的幾何特征通常被限定在節(jié)平面中。由前表面20以及形成基表面16和上表面18的前部的三角形限定的齒的前部或頭部稱為F,該F部分為接觸齒式離合器的第一部分。由側(cè)向后表面22和形成基表面16和上表面18的后部的梯形限定的齒的后部或根部稱為B。在齒的頭部和根部之間的相交線因此對應(yīng)于由表面20和表面22之間的邊緣23以及將邊緣23與表面18和表面16的相交處分別連接的直線限定的梯形。齒的后部B提供倒錐特征。在圖ID中所示的齒相對于齒的中心縱向平面為對稱的。應(yīng)該注意，還可以提供不對稱的齒，對于該不對稱的齒，在該齒的中心縱向平面的兩側(cè)的形狀20和形狀22是不同的。圖2A到圖2D為在齒的節(jié)平面中的簡化的縱向截面圖，圖2A到圖2D示出在兩個相對的齒24和齒26之間齒離合的四個步驟，齒例如齒式環(huán)和滑動套筒的齒。 齒24和齒26分別包括前部Fa和后部Ba與前部Fb和后部Bb，前部Fa和前部Fb分別由前表面20a和前表面20b限定；后部Ba和后部Bb分別由側(cè)向后表面22a和側(cè)向后表面22b限定。應(yīng)該注意，在齒的節(jié)平面中，角度a (在圖2A中示出)通常被限定在前表面20a和前表面20b與齒的中心縱向軸線之間；角度P (在圖2A中示出)通常被限定在后表面22a和后表面22b與齒的中心縱向軸線之間。在不對稱齒的情況下，不同的角度Ci1與a 2和/或P i與P 2從而被限定在中心縱向軸線的兩側(cè)。在初始狀態(tài)(圖2A)中，在齒24和齒26之間的聯(lián)接沒有被接合。齒的前部？3和前部Fb基本定位成(但并非必須)彼此面對。這些齒靠近彼此直到這些齒的前表面20a和前表面20b接觸為止(圖2B)。持續(xù)滑動，直到在齒的前表面和后表面之間的相交線23a和相交線23b彼此面對為止(圖2C)。隨后定義了在靠近和鎖定之間的過渡階段。最后，當(dāng)齒
24的后表面22a和齒26的后表面22b變得接觸時，聯(lián)接被鎖定(圖2D)。應(yīng)該注意，由于這些齒具有大體漸開線形狀，故在齒24和齒26之間的接觸通常為線性或點形并且位于這些齒的節(jié)平面內(nèi)。在圖2D (鎖定的齒離合)的步驟中將在節(jié)平面中齒24和齒26之間的接觸 的長度稱作重疊長度Lk。一旦該裝置鎖定該長度限定該裝置的魯棒性，這由于該長度限定用于聯(lián)鎖兩個部件的有效面積和在這兩個齒之間的扭矩的傳輸?shù)拿娣e。因此，長度Lk限定由齒式環(huán)和滑動套筒組件提供的抗脫落(anti-jump-out)功能的魯棒性。一旦齒已經(jīng)達到圖2D的狀態(tài)，那么齒不繼續(xù)它們的相對位移，當(dāng)前在這些齒的后部形成有止擋件。圖3為齒式環(huán)的一部分的透視圖，其中，這樣的止擋件28被提供在這些齒的后部的表面處。還可以通過在薄區(qū)14的表面或環(huán)10的表面之一上的接觸獲得止擋效果。應(yīng)該注意，在提供止擋件28的情況下，節(jié)圓直徑和大直徑的定義不變，大直徑為由上表面18 (不考慮止擋件)限定的直徑。為了形成齒式環(huán)的齒的前表面和側(cè)向后表面，可以切削加工由環(huán)形成的預(yù)成型體，該環(huán)包括在其周邊的齒。然而，該切削加工一個部件接一個部件地執(zhí)行，隨后一個齒接一個齒地執(zhí)行，并且不總是提供足夠的準(zhǔn)確性和表面20、表面22的形狀和相交棱23的位置的可再現(xiàn)性(從一個部件到另一個部件是波動的，或甚至是從一個齒到另一個齒是波動的)，該可再現(xiàn)性用于大規(guī)模應(yīng)用。此外，在前部和后部之間通過切削加工獲得的棱通常為鋒利的，這可導(dǎo)致在齒式離合器的圖2C的步驟期間的顫動和金屬毛刺的產(chǎn)生。為了克服與獲取帶有切削的齒的齒式環(huán)有關(guān)的問題，已經(jīng)提供了通過粉末冶金法(即，通過壓縮、燒結(jié)和校準(zhǔn))形成齒式環(huán)。該燒結(jié)包括加熱通過冷壓粉末混合物形成的坯件，以使其具有機械內(nèi)聚力。該校準(zhǔn)或通過材料的變形的成型包括使燒結(jié)部件通過模具以獲得更精確的尺寸和功能性幾何形狀。因此，具有所需尺寸的部件被直接獲得并且待執(zhí)行的步驟的數(shù)量和部件制造成本下降。有利地，單個模具被用于部件的大規(guī)模生產(chǎn)，這提供了部件之間的非常好的可再現(xiàn)性。每個齒的幾何形狀和尺寸質(zhì)量隨后直接關(guān)系到工具的質(zhì)量。在校準(zhǔn)期間，兩個半模在通過燒結(jié)獲取的預(yù)成型體上彼此被壓靠。這樣的成型操作的缺點可以為在兩個半模之間的接合處(即，齒的前部和后部之間的接合處)形成有害的毛刺。該毛刺的出現(xiàn)不能實現(xiàn)高質(zhì)量的齒式離合器。為了避免形成毛刺，US專利6680024提供了使用一種模具，該模具的前半模在與后半模的接合處具有比后半模稍寬的開口。因此形成的齒的前表面在與后表面的接合處具有提供無顫動的齒式離合器的圓形肩部。然而，在后部(倒錐區(qū)域)的開始處仍然有收縮(set-back)。因此,滑動套筒的倒錐和齒式環(huán)的倒錐的疊置僅在齒的后部部分地延伸，一旦齒式離合器被鎖定時這不提供相對于齒尺寸優(yōu)化的最大疊置長度。因此，需要一種使用粉末冶金制造齒式環(huán)的方法，該方法克服了上述缺點以提供最佳的功能性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施方式的目的提供了使用粉末冶金以制造齒式環(huán)的方法。本發(fā)明的實施方式的另一目的提供了齒式環(huán)校準(zhǔn)模具，該模具的尺寸適合地設(shè)計成優(yōu)化齒疊置長度和提供一種優(yōu)化的齒式離合器。 因此，本發(fā)明的實施方式提供了用于制造齒式環(huán)的方法，各個齒由前部和后部形成，該方法包括以下步驟通過壓縮和燒結(jié)成型環(huán)，該環(huán)具有在該環(huán)上的全部周邊或部分周邊上延伸的齒預(yù)成型體；以及在模具中校準(zhǔn)燒結(jié)的環(huán)，該模具包括前半模和后半模，前半模和后半模在齒的前部和后部之間的接合處保持接觸，在齒的節(jié)平面中，各個預(yù)成型體的后部的厚度大于形成在后半模中的溝槽的最薄截面并且小于溝槽的最厚截面。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，沿環(huán)的外周邊分布齒，齒預(yù)成型體的大直徑小于前半模和后半模的大直徑。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，沿環(huán)的內(nèi)周邊分布齒，齒預(yù)成型體的小直徑大于前半模和后半模的小直徑。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，在齒的節(jié)平面中，各個預(yù)成型體的后部的厚度的范圍在溝槽的最薄截面的八分之七和溝槽的最厚截面的八分之一的總和與溝槽的最厚截面的八分之七和溝槽的最薄截面的八分之一的總和之間。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，在由范圍在Clniin和d_之間的直徑限定的各個平面中，其中Clniin指環(huán)的小直徑以及d_指環(huán)的大直徑，各個預(yù)成型體的后部的厚度的范圍溝槽的在齒的節(jié)平面中的最薄截面和最厚截面之間。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，在由范圍在Clniin和d_之間的直徑限定的各個平面中，各個預(yù)成型體的后部的厚度的范圍在溝槽的在所述平面中的最薄截面的八分之七和最厚截面的八分之一的總和與所述溝槽的在所述平面中的最厚截面的八分之七和最薄截面的八分之一的總和之間。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，半模的底部為磨圓的。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，在前半模和后半模中的模腔延伸以在齒的后部的表面形成止擋件。根據(jù)本發(fā)明的實施方式，齒相對于齒的中心縱向平面為不對稱的。本發(fā)明的實施方式還提供由上述方法形成的齒式環(huán)。本發(fā)明的實施方式還提供了能夠通過上述方法形成齒式環(huán)的模具和工具的組件。本發(fā)明的實施方式還提供了包括通過上述方法形成的齒式環(huán)的機械裝置。


在下文結(jié)合附圖對具體實施方式
的非限制性描述中詳細描述本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點，以及其他目的、特征和優(yōu)點，其中上文描述的圖IA到圖ID分別示出傳統(tǒng)齒式環(huán)的前視圖、截面圖、局部放大截面圖和簡化的局部透視圖；上文描述的圖2A到圖2D示出齒式離合器的不同階段；圖3為齒式環(huán)的備用齒的透視圖；圖4為根據(jù)本發(fā)明的實施方式的齒式環(huán)的局部透視圖；圖5為根據(jù)本發(fā)明的實施方式的齒式環(huán)的預(yù)成型體的局部簡化透視圖；圖6A到圖6D以該齒的基準(zhǔn)面處的齒和模具的透視圖和縱向截面圖示出根據(jù)本發(fā)明的實施方式的用于校準(zhǔn)齒式環(huán)的方法。應(yīng)該注意，在以下描述中，不同附圖中的相同的附圖標(biāo)記表示相同的部件以及此外不同的附圖比例是不同的。
具體實施例方式為清楚起見，僅示出和描述有助于理解本發(fā)明的那些部件。具體而言，沒有詳細描述支承齒的環(huán)的制造，本發(fā)明兼容用于制造這樣的環(huán)的常用方法。此外，除非另有說明，術(shù)語側(cè)向、縱向、中心等在附圖中的方向為隨意描述的。本發(fā)明提供了通過壓縮、燒結(jié)和校準(zhǔn)形成具有齒的環(huán)，這些齒在其前部和后部之 間具有稍圓的相交部分(以抑制角度)，從而在齒離合期間提供最小的過渡區(qū)。提供的待形成的齒具有最大可能的重疊長度。圖4為齒式環(huán)30的實施方式的局部透視圖。在示例中，齒相對于中心縱向平面為對稱的并且被形成在環(huán)31的全部周邊或部分周邊上(僅示出局部)。每個齒32包括前部F。和后部B。。齒32由與環(huán)31接觸的基表面34(在小直徑處)和上表面36 (在大直徑處)限定，上表面36可具有比該基表面34小的面積。表面34和表面36具有類似的形狀，由三角形前部和梯形后部組成。前部F。由兩個前表面38限定以及后部B。通過形成倒錐的兩個側(cè)向后表面40限定。在齒32的前部F。和后部B。之間的相交部分42為磨圓的并且在兩個前表面38之間的相交部分處的前緣44也是磨圓的。可選地，在上表面36和各側(cè)向后表面40之間也可以提供半徑。應(yīng)該注意，在圖4中所示的結(jié)構(gòu)僅為實施例并且本文討論的方法適用于其他齒的形狀，尤其適用于具有與本文討論的那些半徑不同的半徑的齒(除了在表面38和表面40之間的那些半徑之外，在功能性表面之間連接的不同半徑)。為了通過粉末冶金形成例如在圖4中所示的齒式環(huán)，開始通過成型、壓縮和燒結(jié)，形成環(huán)，該環(huán)包括在環(huán)周邊的齒預(yù)成型體。圖5為包括在環(huán)52 (僅示出局部)周邊的齒預(yù)成型體50的這樣的結(jié)構(gòu)的簡化透視圖。在示例中，各預(yù)成型體50包括前部Fp和后部BP。預(yù)成型體50由與環(huán)52接觸的基表面54 (在小直徑處)和上表面56 (在大直徑處)限定，上表面56可具有比該基表面54小的面積?；砻?4和上表面56具有相同的形狀，由三角形前部和梯形后部組成。在示出的示例和下面的附圖中，基表面54和上表面56具有矩形后部。各預(yù)成型體50的前部Fp由兩個前表面58限定以及后部Bp由兩個側(cè)表面60限定，兩個前表面的相交部分限定前棱。因此，齒預(yù)成型體50的后部Bp的截面沿該部分的整個高度(在齒的前后方向上被限定)為恒定的。在預(yù)成型體50的前表面58之間的角度基本對應(yīng)于在齒32的前表面38之間的期望角度。應(yīng)該注意，預(yù)成型體還可以在這些功能性表面之間具有半徑，在圖5中沒有示出。一旦通過壓縮和燒結(jié)已經(jīng)形成齒式環(huán)的預(yù)成型體，在適用尺寸的模具中使其校準(zhǔn),換言之,通過施加機械應(yīng)力使材料塑性變形。圖6A到圖6D示出用于校準(zhǔn)根據(jù)實施方式的齒式環(huán)預(yù)成型體的方法，在該情況中為對稱齒。圖6A為在校準(zhǔn)期間的透視圖，圖6B、圖6C和圖6D為在圖6A的節(jié)平面A-A中的縱向截面圖，分別示出校準(zhǔn)的初始步驟，在所用的模具和待校準(zhǔn)的齒預(yù)成型體之間的疊置步驟和成型(校準(zhǔn))的最終步驟。模具包括用于在齒32的前部F。和后部B。之間的相交部分處關(guān)閉的兩個半模62和半模64。半模62用于形成齒的后部以及半模64用于形成齒的前部。對于各個齒，后半模62包括根據(jù)待實現(xiàn)的最終倒錐角度而向外展開的溝槽66，例如角度范圍在2°到8°之間，該溝槽66具有底部，該底部延續(xù)以形成恒定截面的槽道67。槽道67在后半模的背部 形成開口。在節(jié)平面A-A中，將溝槽66的最薄截面(在該槽道的底部)稱為S1以及將溝槽66的最厚截面(在半模62和半模64的接觸處)稱為S2。在前方，半模64包括倒圓模腔68。由模腔68的壁形成的角度等于最終的期望角度。由齒預(yù)成型體50的兩個前表面58形成的角度值與由模腔68的壁形成的角度值近似。在形成模腔68的兩個表面之間的相交部分例如為磨圓的。作為變型，可提供稍微平坦的所述相交部分。對于不對稱的齒，向外展開的溝槽66和倒圓模腔68相對于齒的中心縱向平面是不對稱的。如圖6C中所示的疊置，模具限定了自由空間70，自由空間70在預(yù)成型體50的兩側(cè)且在兩個半模62和半模64之間的界面處，并且該模具在溝槽66底部處比預(yù)成型體薄。因此，在校準(zhǔn)期間，形成預(yù)成型體的后部的物質(zhì)被壓縮或鍛造，并且趨向于以某種方式進入槽道67。當(dāng)鍛造和在槽道67中的運動是充分的時，它們被阻擋并且齒預(yù)成型體的后部Bp的物質(zhì)向前推在齒預(yù)成型體的前部Fp的物質(zhì)，這導(dǎo)致該物質(zhì)朝向自由空間70的移位。為了獲得所需的形狀，預(yù)成型體和模具的尺寸符合以下關(guān)系式S1<A<S2,其中，A表示在節(jié)平面中的齒預(yù)成型體的后部Bp的厚度(在梯形的情況下的平均厚
一 _ ^ IS, S1 J S1 IS,
度)，并且優(yōu)選+ f+
oO55該關(guān)系式優(yōu)選在由范圍在dmin和之間的直徑限定的齒的任何橫截面平面中被校準(zhǔn)，(1_指齒式環(huán)的小直徑以及指齒式環(huán)的大直徑。圖6D示出校準(zhǔn)后獲得的結(jié)果。在校準(zhǔn)期間，由于厚度S1比厚度A小，形成齒預(yù)成型體50的后部Bp的物質(zhì)被壓縮或鍛造并且朝向自由空間70向前推齒預(yù)成型體以及其前部。此外，在通過模腔68的兩個表面限定的錐體的頂部處的半徑的存在壓緊預(yù)成型體50的前部Fp的尖端，以及預(yù)成型體50的前部的物質(zhì)朝向自由空間70移位。上述物質(zhì)的兩種運動的累積和控制使得形成齒32，該齒32具有在齒的前部F。和后部B。之間的圓形相交部分，而沒有標(biāo)記，因為該物質(zhì)保持稍微敞開的體積并且不嚴格遵循在上模具62和下模具64之間的接觸面積。此外，有利地，形成的齒具有一致的倒錐，不帶標(biāo)記，沿其整個長度完全為功能性的，并且因此提供了最大的疊置長度。因此，該校準(zhǔn)步驟能夠限定齒32的向外展開的側(cè)向后部40和它們的角度，以及這同樣適用于齒的前表面38之間的角度。在可以在冷或熱溫度執(zhí)行的校準(zhǔn)期間，預(yù)成型體50的物質(zhì)可稍遷入恒定截面的槽道67中。根據(jù)預(yù)成型體的物質(zhì)的量和校準(zhǔn)模具的體積，可以在槽道67中設(shè)置凸模80(圖6B到圖6D中的虛線示出)以控制該物質(zhì)的量以及可選地用來實現(xiàn)預(yù)成型體的最終壓縮。優(yōu)選地，在校準(zhǔn)期間，功能性間隙被提供在齒預(yù)成型體的大直徑和模具62、模具64的大直徑之間。因此，在外齒情況中，形成的齒的大直徑大于的預(yù)成型體的大直徑。因此，在單一的校準(zhǔn)步驟中，所述的方法能夠形成帶有齒的齒式環(huán)，該齒具有在前部和后部的側(cè)面之間的圓形相交棱，并且具有倒錐區(qū)域的最大疊置長度。已經(jīng)描述了本發(fā)明的具體實施方式
。對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以進行各種改動和 變型。具體而言，應(yīng)該注意，本文中描述的校準(zhǔn)方法還可以被用來形成環(huán)的內(nèi)齒。在內(nèi)齒的情況下，由齒的基表面限定的直徑稱為大直徑，以及由齒的上表面限定的直徑稱為小直徑(小直徑〈大直徑)。因此，對于內(nèi)齒，在預(yù)成型體和模具之間的間隙條件與小直徑有關(guān)。功能性間隙隨后優(yōu)選被提供在預(yù)成型體的小直徑和模具62、模具64的小直徑之間。因此，形成的齒的小直徑小于預(yù)成型體的小直徑。還應(yīng)該注意，在本文中描述的方法適用于通常(但非必須)具有漸開線形狀的齒。該方法還可適用于具有平坦表面的齒。該方法還適用于前表面和后表面的特征角度不是恒定(翹曲輪廓)的情況。此外，本文討論的方法適用于包括具有被形成有齒的元件的任何機械部件的成型。此外，本文討論的方法還適用于齒式環(huán)的成型，其中，例如參照圖3描述的止擋件的止擋件被提供到齒的上表面的后部。在該情況中，在校準(zhǔn)中所用的前半模和后半模將具有適用于形成這樣的止擋件的模腔。如上文所述，它們可以被提供成沿齒的前部和后部之間的邊界、在齒的基準(zhǔn)面處、在齒的前表面的輪廓的基準(zhǔn)面處、在止擋件上保持接觸。
權(quán)利要求
1.一種用于制造齒式環(huán)的方法，各個齒(32)由前部(F。)和后部(B。)形成，所述方法包括步驟 通過壓縮和燒結(jié)成型環(huán)(52)，所述環(huán)(52)具有在所述環(huán)的全部周邊或部分周邊上延伸的齒預(yù)成型體(50);以及 在模具中校準(zhǔn)燒結(jié)的所述環(huán)，所述模具包括前半模(64)和后半模(62)，所述前半模和所述后半模用于在所述齒的所述前部和所述后部之間的接合處接觸， 在所述齒的節(jié)平面中，各個預(yù)成型體的后部(Bp)的厚度(A)大于形成在所述后半模中形成的溝槽(66)的最薄截面(S1)的厚度，并且小于所述溝槽的在所述平面中的最厚截面(S2)的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，沿所述環(huán)的外周邊分布所述齒，所述齒預(yù)成型體的大直徑小于所述前半模(64)和所述后半模(62)的大直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其中，沿所述環(huán)的內(nèi)周邊分布所述齒，所述齒預(yù)成型體的小直徑大于所述前半模(64)和所述后半模(62)的小直徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項所述的方法，其中，在所述齒的所述節(jié)平面中，各個預(yù)成型體的所述后部的所述厚度(A)的范圍在所述溝槽(66)的所述最薄截面(S1)的八分之七和所述溝槽(66)的所述最厚截面(S2)的八分之一的總和與所述溝槽的最厚截面的八分之七和所述溝槽的所述最薄截面的八分之ー的總和之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中任一項所述的方法，其中，在由范圍在Clniin和之間的直徑限定的各個平面中，各個預(yù)成型體的所述后部的厚度的范圍在所述溝槽(66)的在所述平面中的最薄截面和最厚截面之間，其中dmin指所述環(huán)的小直徑以及d_指所述環(huán)的大直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，在由范圍在dmin和之間的直徑限定的各個平面中，各個預(yù)成型體的所述后部的所述厚度的范圍在所述溝槽(66)的在所述平面中的所述最薄截面的八分之七和所述溝槽(66)的在所述平面中的所述最厚截面的八分之一的總和與所述溝槽的在所述平面中的所述最厚截面的八分之七和所述溝槽的在所述平面中的所述最薄截面的八分之一的總和之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求I至6中任一項所述的方法，其中，所述前半模(64)的底部為磨圓的。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中任一項所述的方法，其中，在所述前半模(64)和所述后半模(62)中的模腔延伸成，在所述齒的所述后部的所述表面處形成止擋件。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至8中任一項所述的方法，其中，所述齒相對于所述齒的中心縱向平面為不對稱的。
10.一種能夠用于實現(xiàn)權(quán)利要求I至9中任一項所述的方法的模具和工具的組件，所述組件包括前半模(64)和后半模(62)，其特征在于，所述后半模的所述底部連續(xù)以形成恒定截面的槽道(67)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于制造齒式環(huán)齒輪(30)的方法，每個齒(32)由前部和后部組成，所述方法包括以下步驟通過壓縮和燒結(jié)成型環(huán)齒輪，所述環(huán)齒輪具有在其全部周邊或部分周邊上延伸的齒預(yù)成型體(50)；以及在模具中校準(zhǔn)燒結(jié)的所述環(huán)，所述模具包括前半模(64)和后半模(62)，所述前半模和所述后半模用于在所述齒的所述前部和所述后部之間的接合處接合，在所述齒的原有平面中，各預(yù)成型體的后部(BP)的厚度(A)大于在所述后半模中的形成的溝槽(66)的最薄截面(S1)并且小于在所述平面中的所述溝槽的所述最厚截面(S2)。
文檔編號B21K1/30GK102695571SQ201080057704
公開日2012年9月26日 申請日期2010年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月16日
發(fā)明者文森特·博納富瓦, 讓-呂克·埃布魯薩爾 申請人:聯(lián)邦巨業(yè)燒結(jié)科技公司