專利名稱：一種模仁潛伏式澆口的定位加工裝置及定位加工結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型公開一種模仁的加工結(jié)構(gòu)，特別是一種模仁潛伏式澆口的定位加工裝置及定位加工結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在模具的加工，尤其是帶有潛伏式澆口的模仁的加工過程中，通常遇到的技術(shù)問題是基準(zhǔn)的設(shè)定，常規(guī)的帶有潛伏式澆口的模仁的加工過程中，基準(zhǔn)設(shè)定方法一般是根據(jù)潛伏式澆口的斜度在模仁上用其它工序(例如CNC)加工兩個(gè)相互垂直的設(shè)定基準(zhǔn)面，然后再根據(jù)基準(zhǔn)面對(duì)帶有潛伏式澆口的模仁進(jìn)行加工。這種方法的缺陷是增加了加工時(shí)的工作量，而且柔性化較差，特別是當(dāng)模仁上多個(gè)潛伏式澆口的斜度不一致的情況下就會(huì)出現(xiàn)需要加工很多輔助設(shè)定面的狀況。
發(fā)明內(nèi)容針對(duì)上述提到的現(xiàn)有技術(shù)中的帶有潛伏式澆口的模仁的加工過程工作量大的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型提供一種新的模仁潛伏式澆口的定位加工裝置及定位加工結(jié)構(gòu)，其將基準(zhǔn)面改為基準(zhǔn)點(diǎn)，設(shè)置一個(gè)基準(zhǔn)塊，對(duì)加工時(shí)的模仁進(jìn)行基準(zhǔn)定位，精度比較容易保證，且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題采用的技術(shù)方案是一種模仁潛伏式澆口的定位加工裝置，定位加工裝置包括基準(zhǔn)塊、正弦磁力臺(tái)和靠塊，靠塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，基準(zhǔn)塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，且對(duì)應(yīng)于靠塊安裝。本實(shí)用新型同時(shí)保護(hù)一種利用上述的模仁潛伏式澆口的定位加工裝置的定位加工結(jié)構(gòu)，定位加工結(jié)構(gòu)為將模仁放置在正弦磁力臺(tái)上，且緊靠靠塊設(shè)置，模仁的基準(zhǔn)點(diǎn)緊靠基準(zhǔn)塊的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置，模仁上的潛伏式澆口處插裝有潛伏式澆口電極。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題采用的技術(shù)方案進(jìn)一步還包括所述的基準(zhǔn)塊上的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置在基準(zhǔn)塊的一個(gè)角上。所述的基準(zhǔn)塊上的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置在基準(zhǔn)塊上基準(zhǔn)塊與靠塊和正弦磁力臺(tái)相交的角上。所述的基準(zhǔn)塊為長方體。所述的基準(zhǔn)塊為50X50X50mm的正方體。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型利用基準(zhǔn)轉(zhuǎn)移的原理和理念，將原來比較難設(shè)定到的模仁基準(zhǔn)面轉(zhuǎn)移到比較容易設(shè)定到的基準(zhǔn)塊的尖點(diǎn)上，此外，由于基準(zhǔn)塊的形狀比較簡(jiǎn)單(50 X 50 X 50mm的6面直角塊)，加工基準(zhǔn)塊時(shí)的精度比較容易保證，這樣，利用這種設(shè)定方式最終加工出來的潛伏式澆口的精度也能得以很好地保證。下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

、[0013]圖I為本實(shí)用新型模仁部分立體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型模仁部分另ー視角的立體結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，I-正弦磁力臺(tái)，2-靠塊，3-模仁，4-基準(zhǔn)塊，5-潛伏式澆ロ電極。
具體實(shí)施方式
本實(shí)施例為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方式，其他凡其原理和基本結(jié)構(gòu)與本實(shí)施例相同或近似的，均在本實(shí)用新型保護(hù)范圍之內(nèi)。請(qǐng)參看附圖I至附圖3，本實(shí)用新型主要包括正弦磁力臺(tái)I、靠塊2和基準(zhǔn)塊4，靠塊2固定安裝在正弦磁力臺(tái)I上，基準(zhǔn)塊4也固定安裝在正弦磁力臺(tái)I上，且緊靠這靠塊2 設(shè)置。本實(shí)施例中，正弦磁力臺(tái)I用于對(duì)模仁3的支撐作用，到定位加工時(shí)，模仁3放置在正弦磁力臺(tái)I上，且緊靠這靠塊2，由靠塊2和正弦磁力臺(tái)I共同支撐模仁3，模仁3上的定位點(diǎn)基準(zhǔn)點(diǎn)緊靠基準(zhǔn)塊4設(shè)置。本實(shí)施例中，基準(zhǔn)塊4為六面直角體，即長方體，優(yōu)選為50 X 50 X 50mm的正方體，基準(zhǔn)塊4形狀比較簡(jiǎn)単，加工時(shí)的精度比較容易保證，這樣，最終加工出來的潛伏式澆ロ的精度也能得以很好地保證。本實(shí)施例中的基準(zhǔn)塊4上的基準(zhǔn)點(diǎn)置在基準(zhǔn)塊4上基準(zhǔn)塊4與靠塊2和正弦磁力臺(tái)I相交的尖角上。定位時(shí)，模仁3上的基準(zhǔn)點(diǎn)與基準(zhǔn)塊4上的基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)應(yīng)，以實(shí)現(xiàn)加工定位。加工時(shí)，模仁3上的潛伏式澆ロ處插裝有潛伏式澆ロ電極5。本實(shí)用新型利用基準(zhǔn)轉(zhuǎn)移的原理和理念，將原來比較難設(shè)定到的模仁基準(zhǔn)面轉(zhuǎn)移到比較容易設(shè)定到的基準(zhǔn)塊的尖點(diǎn)上，此外，由于基準(zhǔn)塊的形狀比較簡(jiǎn)單(50X 50X 50mm的6面直角塊)，加工基準(zhǔn)塊時(shí)的精度比較容易保證，這樣，利用這種設(shè)定方式最終加工出來的潛伏式澆ロ的精度也能得以很好地保證。
權(quán)利要求1.一種模仁潛伏式澆ロ的定位加工裝置，其特征是所述的定位加工裝置包括基準(zhǔn)塊、正弦磁力臺(tái)和靠塊，靠塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，基準(zhǔn)塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，且對(duì)應(yīng)于靠塊安裝。
2.ー種利用如權(quán)利要求I所述的模仁潛伏式澆ロ的定位加工裝置的定位加工結(jié)構(gòu)，其特征是所述的定位加工結(jié)構(gòu)為將模仁放置在正弦磁力臺(tái)上，且緊靠靠塊設(shè)置，模仁的基準(zhǔn)點(diǎn)緊靠基準(zhǔn)塊的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置，模仁上的潛伏式澆ロ處插裝有潛伏式澆ロ電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位加工結(jié)構(gòu)，其特征是所述的基準(zhǔn)塊上的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置在基準(zhǔn)塊的ー個(gè)角上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位加工結(jié)構(gòu)，其特征是所述的基準(zhǔn)塊上的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置在基準(zhǔn)塊上基準(zhǔn)塊與靠塊和正弦磁力臺(tái)相交的角上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的定位加工結(jié)構(gòu)，其特征是所述的基準(zhǔn)塊為長方體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的定位加工結(jié)構(gòu)，其特征是所述的基準(zhǔn)塊為50X50X50mm的·正方體。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種模仁潛伏式澆口的定位加工裝置及定位加工結(jié)構(gòu)，定位加工裝置包括基準(zhǔn)塊、正弦磁力臺(tái)和靠塊，靠塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，基準(zhǔn)塊固定安裝在正弦磁力臺(tái)上，且對(duì)應(yīng)于靠塊安裝，定位加工結(jié)構(gòu)為將模仁放置在正弦磁力臺(tái)上，且緊靠靠塊設(shè)置，模仁的基準(zhǔn)點(diǎn)緊靠基準(zhǔn)塊的基準(zhǔn)點(diǎn)設(shè)置，模仁上的潛伏式澆口處插裝有潛伏式澆口電極。本實(shí)用新型利用基準(zhǔn)轉(zhuǎn)移的原理和理念，將原來比較難設(shè)定到的模仁基準(zhǔn)面轉(zhuǎn)移到比較容易設(shè)定到的基準(zhǔn)塊的尖點(diǎn)上，此外，由于基準(zhǔn)塊的形狀比較簡(jiǎn)單(50×50×50的6面直角塊)，加工基準(zhǔn)塊時(shí)的精度比較容易保證，這樣，利用這種設(shè)定方式最終加工出來的潛伏式澆口的精度也能得以很好地保證。
文檔編號(hào)B23Q3/18GK202411928SQ20112047027
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月23日
發(fā)明者劉鳴源 申請(qǐng)人:深圳市東方亮彩精密技術(shù)有限公司