專利名稱：由激光成絲作用進(jìn)行材料處理的方法
由激光成絲作用進(jìn)行材料處理的方法相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求于2010年7月12號(hào)提交的題為“Method of Material Processing byLaser Filamentation (由激光成絲作用進(jìn)行材料處理的方法)”的第61/363，568號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，該美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用并入本文，并且本申請(qǐng)要求于2010年 8 月 12 號(hào)提交的題為“Method of Material Processing by Laser Filamentation (由激光成絲作用進(jìn)行材料處理的方法)”的第61/372，967號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，該美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)弓I用并入本文。
背景技術(shù)：
本公開涉及材料的激光處理的方法。更具體地，本公開涉及分離和/或切割晶片、襯底、以及板的方法。在當(dāng)前的制造過(guò)程中，晶片或玻璃板的分離、切塊、刻劃、切、以及切割面處理是通常依賴于金剛石切削的關(guān)鍵的處理步驟，例如對(duì)于平板顯示器以30cm/秒的速度。在金剛石切削以后，機(jī)械輥施加應(yīng)力以傳播切割樣品的裂縫。該過(guò)程產(chǎn)生劣質(zhì)的邊緣、微裂縫、寬的切口寬度、以及大量的碎片，而這些是在產(chǎn)品的使用壽命、品質(zhì)、以及可靠性方面的主要的缺點(diǎn)，而且還會(huì)招致額外的清潔和拋光步驟。運(yùn)行金剛石刻劃器的去離子水的費(fèi)用要大于購(gòu)買刻劃器的費(fèi)用，并且這種技術(shù)并不是環(huán)境友好的，因?yàn)樗艿轿廴静⑶倚枰獌艋?，這也增加了費(fèi)用。通過(guò)提高技術(shù)，晶片上的芯片變得更小且相互更加靠近，這限制了金剛石刻劃。30um是好的刻劃寬度，但是15um就是挑戰(zhàn)了。因?yàn)榻饎偸虅澥抢脵C(jī)械力對(duì)襯底進(jìn)行刻劃的，所以薄的樣品是很難進(jìn)行刻劃。FPD行業(yè)正尋求將玻璃厚度從目前使用的傳統(tǒng)厚度400-700um減少至150_300um，而刻劃板是主要問(wèn)題。實(shí)際上為了耐久性，F(xiàn)TO行業(yè)期待使用薄的鋼化玻璃代替普通的玻璃。激光燒蝕加工是關(guān)于分離、切塊、刻劃、切割、切、以及切割面處理的活躍的發(fā)展領(lǐng)域，但是其具有缺點(diǎn)、特別是在透明材料中，例如緩慢的處理速度、產(chǎn)生裂縫、燒蝕屑污染、以及中型的切口寬度。此外，在激光相互作用的過(guò)程中的熱傳遞會(huì)導(dǎo)致大區(qū)域的附加熱損壞(即熱影響區(qū))。通過(guò)選擇具有強(qiáng)烈地為介質(zhì)所吸收的波長(zhǎng)的激光可以顯著地改進(jìn)激光燒蝕處理(例如深UV準(zhǔn)分子激光器或遠(yuǎn)紅外C02激光器)。然而，由于這種物理燒蝕處理固有的強(qiáng)烈的相互作用，上述缺點(diǎn)不能被消除?？商娲兀ㄟ^(guò)減少激光脈沖的持續(xù)時(shí)間，激光燒蝕作用也可以在透明介質(zhì)的表面被改進(jìn)。這對(duì)于在處理介質(zhì)的內(nèi)部是透明的激光是特別地有益的。當(dāng)被聚焦到透明材料上或透明材料內(nèi)部時(shí)，高的激光強(qiáng)度導(dǎo)致非線性吸收作用從而提供動(dòng)態(tài)的不透明性，該動(dòng)態(tài)的不透明性可以被控制以精確地將適當(dāng)?shù)募す饽芰看鎯?chǔ)在由焦體所限定的小體積的材料內(nèi)。與更長(zhǎng)的激光脈沖持續(xù)時(shí)間相比，脈沖的短持續(xù)時(shí)間提供數(shù)個(gè)進(jìn)一步的優(yōu)點(diǎn)，例如消除等離子反射和在這樣的激光脈沖的短得多的時(shí)間尺度過(guò)程中減少通過(guò)熱擴(kuò)散的小分量及其它熱傳輸作用產(chǎn)生的附帶損害。因此在不透明的和透明材料的機(jī)械加工中飛秒和皮秒激光燒蝕都提供顯著的益處。然而，使用甚至短至數(shù)十或數(shù)百飛秒的脈沖的透明材料的機(jī)械加工還與粗糙表面的形成和在激光形成的孔或溝附近的微裂縫相關(guān)聯(lián)，這些對(duì)于易碎的材料像玻璃和光學(xué)晶體就特別地成問(wèn)題。進(jìn)一步，燒蝕屑將污染附近的樣品和周圍表面。一種切削或刻劃玻璃和相關(guān)材料的無(wú)切口方法依賴于激光加熱和冷卻的組合，例如利用C02激光器和噴水器[第5，609，284號(hào)美國(guó)專利(Kondratenko);第6787732號(hào)美國(guó)專利UV激光器(Xuan)]。在緊密接近地加熱和冷卻的適當(dāng)?shù)那闆r下，產(chǎn)生高的應(yīng)力，導(dǎo)致裂縫深入材料內(nèi)，通過(guò)簡(jiǎn)單地穿過(guò)表面掃描激光冷卻源，這些裂縫可以沿靈活的曲線軌跡傳播。這樣，熱應(yīng)力導(dǎo)致的刻劃提供材料的干凈分割且沒(méi)有機(jī)械刻劃或金剛石鋸的缺點(diǎn)，并且沒(méi)有產(chǎn)生碎片的激光燒蝕分量。然而，該方法依賴于應(yīng)力導(dǎo)致的裂縫形成來(lái)引導(dǎo)刻劃并需要[W0/2001/032571LASERDRIVEN GLASS CUT-1NITIATION (激光驅(qū)動(dòng)玻璃切削啟動(dòng))]啟動(dòng)裂縫形成的機(jī)械的或激光裝置。短持續(xù)時(shí)間激光脈沖通常提供以下益處:能夠在透明材料內(nèi)部有效地傳播，并且在透鏡的焦點(diǎn)位置通過(guò)非線性吸收過(guò)程在塊體內(nèi)部局部地導(dǎo)致修改。然而，通過(guò)線性和非線性效應(yīng)的共同作用的激光脈沖的空間的和時(shí)間的輪廓的強(qiáng)烈改造使得在透明光學(xué)介質(zhì)中超快激光脈沖(> 5MW峰值功率)的傳播復(fù)雜化，效應(yīng)例如群速度色散(GVD)、線性衍射、自相位調(diào)制(SPM)、自聚焦、從價(jià)帶到導(dǎo)帶的電子的多光子/隧道電離(MPI/TI)、等離子體散焦、以及自陡峭效應(yīng)[SL Chin等人發(fā)表于《加拿大物理學(xué)雜志》(Canadian Journal of Physics)第 83 卷第 863-905 頁(yè)(2005 年)]。這些效應(yīng)放出的不同程度取決于激光參數(shù)、材料非線性性質(zhì)、以及進(jìn)入材料內(nèi)的聚焦條件。Kamata 等人[SPIE Proceedings6881_46, High-speed scribing of flat-paneldisplay glasses by use of alOO-kHz, 10-ff femtosecond laser (使用 100-kHz、IOW 飛秒激光高速對(duì)平板顯示器進(jìn)行高速刻劃)，M.Kamata> T.1mahoko> N.1noue、T.Sumiyoshi>
H.Sekita,電子激光股份有限公司(Cyber Laser Inc.)(日本);M.0bara,慶應(yīng)大學(xué)(日本)]描述了用于平板顯示器(FPD)玻璃的高速刻劃技術(shù)。具有倍頻780nm，300fs, 100 μ J輸出的IOOkHz鈦寶石啁啾脈沖放大激光器，，被聚焦在玻璃襯底的后表面的附近，超過(guò)玻璃損傷閾值，從而通過(guò)材料的光學(xué)破環(huán)產(chǎn)生空隙。由于激光器的高重復(fù)率，空隙到達(dá)背表面。被連接的空穴產(chǎn)生內(nèi)部應(yīng)力和損壞以及表面燒蝕，便于由機(jī)械應(yīng)力或熱沖擊沿激光刻劃線的方向切塊。在該方法可能地提供快速的300mm/s的亥找Ij速度的同時(shí)，存在有限的切口寬度、表面損壞、切割面粗糙、以及由于內(nèi)部形成的空隙到達(dá)表面而產(chǎn)生的燒蝕屑。

發(fā)明內(nèi)容
在第一實(shí)施方式，提供了制備用于切割的襯底的方法，該方法的步驟包括:用聚焦的激光束的一個(gè)或多個(gè)脈沖照射襯底，其中襯底對(duì)激光束是透明的，并且其中該一個(gè)或多個(gè)脈沖具有被選擇以在襯底內(nèi)產(chǎn)生絲的能量和脈沖持續(xù)時(shí)間；相對(duì)于聚焦的激光束平移襯底以照射襯底并在一個(gè)或多個(gè)額外的位置產(chǎn)生額外的絲；其中絲包括限定用于切割襯底的內(nèi)部刻劃路徑的陣列。本方法優(yōu)選地包括切割襯底的步驟。襯底相對(duì)于聚焦的激光束被優(yōu)選地平移，平移的速率被選擇以產(chǎn)生在微米尺度上隔開的絲。該一個(gè)或多個(gè)激光脈沖的性質(zhì)被優(yōu)選地選擇以在襯底內(nèi)提供足夠的光束強(qiáng)度以導(dǎo)致激光束的自聚焦。該一個(gè)或多個(gè)脈沖可以指定的頻率提供兩倍或更多倍，并且襯底可相對(duì)于聚焦的激光束以大體上恒定的速率平移，因此提供陣列中的絲的固定的間隔。
該一個(gè)或多個(gè)脈沖包括單個(gè)脈沖或具有兩個(gè)或更多脈沖的脈沖列。優(yōu)選地，脈沖列中連續(xù)的脈沖之間的時(shí)間延遲小于一個(gè)或多個(gè)材料修改動(dòng)力學(xué)的衰減發(fā)生的持續(xù)時(shí)間。該一個(gè)或多個(gè)脈沖中的每個(gè)的脈沖持續(xù)時(shí)間優(yōu)選地小于大約lOOps，更優(yōu)選地小于大約IOps0聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置可被選擇以在襯底內(nèi)產(chǎn)生絲，其中襯底的至少一個(gè)表面基本上沒(méi)有燒蝕。聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置可被選擇以在襯底的至少一個(gè)表面內(nèi)產(chǎn)生V型溝槽。襯底可以是玻璃或半導(dǎo)體并可選自透明陶瓷、聚合物、透明導(dǎo)體、寬帶隙玻璃、晶體、結(jié)晶石英、金剛石、以及藍(lán)寶石。襯底可包括兩個(gè)或更多個(gè)層，并且其中聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置被選擇以在兩個(gè)或更多個(gè)層的至少一個(gè)內(nèi)產(chǎn)生絲。多層襯底可包括多層平板顯示器玻璃、例如液晶顯示器(IXD)、平板顯示器(FPD)、以及有機(jī)發(fā)光顯示器(0LED)。襯底還可選自汽車玻璃、管、窗、生物芯片、光學(xué)傳感器、平面光波電路、光學(xué)纖維、飲用玻璃器皿、藝術(shù)玻璃、硅、II1- V族半導(dǎo)體、微電子芯片、存儲(chǔ)芯片、傳感器芯片、發(fā)光二極管(LED)、激光二極管(LD)、以及垂直空腔表面發(fā)射激光器(VCSEL)。聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置可被選擇以在該兩個(gè)或更多個(gè)層的兩個(gè)或更多個(gè)層內(nèi)產(chǎn)生絲，其中聚焦的激光束在一層內(nèi)產(chǎn)生絲，傳播進(jìn)入至少一個(gè)附加層，并在至少一個(gè)附加層內(nèi)產(chǎn)生絲?？商娲兀劢沟募す馐墓馐裹c(diǎn)的位置可首先被選擇以在該兩個(gè)或更多個(gè)層的第一層內(nèi)產(chǎn)生絲，并且該方法可進(jìn)一步包括以下步驟將光束焦點(diǎn)定位在該兩個(gè)或更多個(gè)層的第二層內(nèi)；照射第二層并平移襯底以產(chǎn)生第二陣列，該第二陣列限定用于切割襯底的第二內(nèi)部刻劃路徑?？蓮南鄬?duì)于當(dāng)照射第一層時(shí)相對(duì)側(cè)照射襯底。此外，在照射第二層之前，第二光束焦點(diǎn)的位置可相對(duì)于照射第一層時(shí)光束焦點(diǎn)的位置橫向地平移。第二聚焦的激光束可用來(lái)照射第二層。通過(guò)參考以下的詳細(xì)說(shuō)明和附圖可以實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步理解本公開的功能和有益的方面。


現(xiàn)在將僅以示例的方式，參考附圖描述本公開的實(shí)施方式，其中圖1示出用于刻劃透明材料的激光成絲刻劃布置的(a)前視圖和(b)側(cè)視圖。圖2示出(a) V型溝槽刻劃透明襯底的激光成絲的前視圖和(b)具有被抑制絲形成的V型溝槽刻劃。圖3示出應(yīng)用具有聚焦布置的反射部件的透明材料的激光刻劃，其中透明材料具有內(nèi)部的成絲并具有在上表面和底表面形成的V型溝槽。圖4示出使用從上表面和底表面應(yīng)用的兩個(gè)聚焦裝置的激光刻劃。圖5示出刻劃的襯底的側(cè)視圖，其中頂、底或兩個(gè)邊緣可以是斜切的。圖6示出輸送多個(gè)會(huì)聚激光束的聚焦布置，用于在透明襯底中在不同的物理位置、不同的方向、不同的角度和不同的深度，同時(shí)地產(chǎn)生多個(gè)絲，使得絲是重疊的以使得能夠單步切割斜角切割面或其它的切割面形狀。
圖7示出三個(gè)不同的聚焦布置，用于激光成絲刻劃(a)激光成絲刻劃上透明襯底而不損壞下襯底的上表面，(b)從頂位置激光成絲刻劃下襯底，以及(C)激光成絲刻劃雙層板組件，該雙層板組件可被刻劃分離，或同時(shí)地被激光刻劃，在兩個(gè)襯底中形成絲且在板之間的介質(zhì)中沒(méi)有光學(xué)破環(huán)使得該雙層板組件可以沿相似的曲線或直線分離。圖8示出使用兩個(gè)聚焦光束的雙層裝置的激光刻劃，該雙層裝置包括兩個(gè)透明襯底。每個(gè)焦點(diǎn)可以被調(diào)節(jié)以形成絲、V型溝槽或兩者的組合。圖9提供刻劃后雙層玻璃的俯視圖和側(cè)視圖，其中(a)僅形成內(nèi)部絲，(b)形成內(nèi)部絲和上表面V型溝槽，以及(C)僅在兩個(gè)板的上表面形成V型溝槽。圖10示出從頂側(cè)和底側(cè)，錯(cuò)開和不錯(cuò)開刻劃層疊玻璃。圖11示出激光脈沖絲刻劃非常薄襯底的堆的方法。圖12是在機(jī)械切割之前通過(guò)拋光的切割面觀察到的玻璃板的光學(xué)顯微鏡圖像，示出在相同的激光曝光下形成的激光絲軌跡，透鏡激光焦點(diǎn)被定位在接近玻璃板的下部區(qū)域(a)，中央?yún)^(qū)域(b)和頂部區(qū)域(C).圖13示出在機(jī)械切割之前玻璃的上表面的顯微鏡圖像(a)和底表面的顯微鏡圖像(b)，具有寫在塊體玻璃內(nèi)部的激光絲的軌跡。圖14示出在機(jī)械切割之后的玻璃板的刻面邊緣視圖，其中在激光曝光過(guò)程中激光絲的軌跡是以中等的(a)和快速的(b)掃描速率形成的。圖15示出刻面邊緣顯微鏡視圖，比較相同的數(shù)量的等能的激光脈沖在Imm厚的玻璃中形成的激光修改，其中相同的數(shù)量的等能的激光脈沖是(a)以低重復(fù)速率應(yīng)用的，(b)以單脈沖高能量低重復(fù)速率的脈沖列應(yīng)用的。單脈沖具有一個(gè)脈沖群列中所有的脈沖的能量。圖16提供用高重復(fù)速率激光應(yīng)用V型溝槽和絲的刻劃的玻璃的顯微鏡圖像，示出(a)側(cè)視圖，(b)頂視圖和(C)前視圖。圖17是使用高重復(fù)速率激光的三個(gè)不同的V型溝槽形成的前視圖。圖18示出刻劃平板顯示器玻璃。同時(shí)地刻劃兩個(gè)厚度為400um的層壓玻璃；aM則視圖和b)如視圖。
具體實(shí)施例方式本公開的各個(gè)實(shí)施方式和方面將參考下面的詳細(xì)描述進(jìn)行描述。下面的描述和附圖是說(shuō)明本公開的而不應(yīng)看作是限制本公開的。描述了許多的具體的細(xì)節(jié)以提供對(duì)本公開的各個(gè)實(shí)施方式的徹底的理解。然而，在某些情況中，未描述公知的或傳統(tǒng)的細(xì)節(jié)是為了提供對(duì)本公開的實(shí)施方式的簡(jiǎn)明論述。如在本文中使用的,術(shù)語(yǔ)包括(comprises)”和“包括(comprising) ”應(yīng)被理解為是開放性的包括而不是排它性的。具體地，當(dāng)被用在說(shuō)明書和權(quán)利要求書中時(shí)，術(shù)語(yǔ)，“包括(comprises)”和“包括(comprising) ”及其變型指的是包括特定的特征、步驟或部件。這些術(shù)語(yǔ)不應(yīng)被理解為排除其它的特征，步驟或部件的存在。如在本文中使用的，術(shù)語(yǔ)“示例性的”指的是“作為實(shí)施例、實(shí)例、或者說(shuō)明”，而不應(yīng)理解為優(yōu)選的或優(yōu)于本文中公開的其它配置。如本文中使用的，當(dāng)被用于連接粒子、混合物的成分或其它的物理特性或特征的尺寸范圍時(shí)，術(shù)語(yǔ)“大約(about)”和“大約(approximately)”是用來(lái)覆蓋可能存在于尺寸范圍的上下限中的微小的變化從而不排除平均起來(lái)尺寸的大部分滿足但是統(tǒng)計(jì)上尺寸可存在這個(gè)區(qū)域之外的實(shí)施方式。不應(yīng)從本公開排除例如這些的實(shí)施方式。如本文中使用的，術(shù)語(yǔ)“透明”指的是對(duì)于入射的光束至少是半透明的材料。更優(yōu)選地，透明襯底的特點(diǎn)在于吸收深度，該吸收深度足夠地大以支持根據(jù)如下所述的實(shí)施方式的由入射光束產(chǎn)生的內(nèi)部的絲。圖1示出用于在透明襯底中形成激光絲的示意性的布置，Ca)以前視圖示出，(b)以側(cè)視圖示出。短持續(xù)時(shí)間激光脈沖10是用物鏡12聚焦在透明襯底14內(nèi)部。以適當(dāng)?shù)募す饷}沖能量、激光脈沖、或脈沖序列、或脈沖群列，在襯底內(nèi)產(chǎn)生激光絲18，產(chǎn)生具有由激光絲體積限定的形狀的內(nèi)部顯微結(jié)構(gòu)的修改。在脈沖激光曝光過(guò)程中通過(guò)相對(duì)于激光束移動(dòng)樣品，絲軌跡20的連續(xù)的跡線被持續(xù)地刻劃到玻璃體積內(nèi)，如激光在樣品中所遵循的曲線或直線路徑所限定的。并非意在受理論限制，據(jù)信絲是通過(guò)弱聚焦、高強(qiáng)度短持續(xù)時(shí)間激光產(chǎn)生的，該激光可以通過(guò)非線性的克爾效應(yīng)而自聚焦，因此形成所謂的絲。光場(chǎng)的該高時(shí)空局部化可以將激光能量存儲(chǔ)在狹長(zhǎng)通道中，同時(shí)還與其它的復(fù)雜非線性傳播作用有關(guān)，例如產(chǎn)生白光和形成圍繞該局部化的輻射的動(dòng)態(tài)環(huán)型輻射結(jié)構(gòu)。在最簡(jiǎn)單的層面上，成絲過(guò)程被認(rèn)為主要取決于兩個(gè)競(jìng)爭(zhēng)過(guò)程。首先，由于非線性的光克爾效應(yīng)，激光脈沖的空間的強(qiáng)度輪廓起類似聚焦透鏡的作用。這導(dǎo)致光束自聚焦，結(jié)果導(dǎo)致峰值強(qiáng)度的增加。通過(guò)當(dāng)直徑減小時(shí)增加衍射，這種作用被限制和平衡，直到到達(dá)穩(wěn)定的束腰直徑，其可以傳播比從光斑尺寸簡(jiǎn)單的計(jì)算共焦束參量(或焦深)所期望的距離長(zhǎng)多倍的距離。在高峰值強(qiáng)度，介質(zhì)的多光子電離、場(chǎng)電離、以及電子碰撞電離開始在激光束的高強(qiáng)度部分中產(chǎn)生低密度的等離子體。該等離子體暫時(shí)地降低光束路徑中心的折射率，導(dǎo)致光束散焦并使絲破碎。在克爾效應(yīng)自聚焦和等離子體散焦之間的動(dòng)態(tài)平衡可以導(dǎo)致多個(gè)再聚焦激光相互作用絲，直到形成穩(wěn)定的絲，有時(shí)稱為等離子體通道。如下面的實(shí)施例所示，使用皮秒脈沖，發(fā)明者已經(jīng)發(fā)現(xiàn)當(dāng)脈沖聚焦時(shí)，等離子體通道保持限制為大約500至1000 μ m (取決于使用的聚焦透鏡)，然后當(dāng)不再有用于再聚焦和形成下一絲的材料時(shí)，或當(dāng)脈沖沒(méi)有足夠能量再聚焦以形成另一個(gè)等離子體通道時(shí)，等離子體通道空間地發(fā)散。另一方面，光學(xué)擊穿是形成圍繞幾何焦點(diǎn)的局部化稠密等離子體的透明介質(zhì)內(nèi)部的緊聚焦的激光束的結(jié)果。等離子體產(chǎn)生機(jī)理基于最初的電子的多光子激發(fā)，然后是逆韌致輻射、碰撞電離、以及電子雪崩過(guò)程。這樣的過(guò)程加強(qiáng)折射率和如上所述的空隙形成過(guò)程[US6154593 ；SPIE Proceedings6881-46，]，并且形成用于材料處理的大多數(shù)短脈沖激光器應(yīng)用的基礎(chǔ)。在這種光學(xué)擊穿區(qū)域中，透明材料的分離、切塊、刻劃、切割、切削、以及刻面處理具有缺點(diǎn)，例如緩慢的處理速度、產(chǎn)生裂縫、燒蝕屑污染、以及大切口寬度。相反，激光成絲提供用于透明材料的內(nèi)部激光處理的新的方向，可以避免燒蝕或表面損壞，顯著地減小切口寬度，避免裂縫產(chǎn)生，以及加快用于這樣的刻劃應(yīng)用的處理時(shí)間。進(jìn)一步，高重復(fù)率激光限定新的方向以提高激光束絲的形成，熱積聚及材料的其它瞬態(tài)響應(yīng)在時(shí)標(biāo)上比從焦體外的熱擴(kuò)散更快(通常〈10微秒)。因此，本文中公開的實(shí)施方式利用短持續(xù)時(shí)間激光脈沖(優(yōu)選地具有的脈沖持續(xù)時(shí)間小于大約lOOps)在透明介質(zhì)內(nèi)部產(chǎn)生絲。本方法避免產(chǎn)生稠密等離子體例如通過(guò)光學(xué)擊穿，在緊光聚焦情況中可以容易地產(chǎn)生光學(xué)擊穿，如通常被應(yīng)用和使用于飛秒激光加工。在弱聚焦(優(yōu)選的)中，非線性的克爾效應(yīng)被認(rèn)為產(chǎn)生延伸的激光相互作用焦域體積，其大大地超過(guò)常規(guī)的焦深，克服了通常使光束從小的自聚焦光束腰發(fā)散的光衍射。一旦在透明襯底中形成成絲陣列，僅需要小的機(jī)械壓力將襯底切割成兩個(gè)部分，這兩部分的表面形狀由內(nèi)部的激光成絲幕(curtain)精確地限定。激光刻劃刻面通常不示出或示出很少的裂縫和微孔，或通道沿刻劃區(qū)域是不明顯的。因?yàn)橥ㄟ^(guò)將激光絲限制為僅在塊體玻璃內(nèi)部，表面上的激光燒蝕可以被避免，所以在上表面或底表面上就大體上沒(méi)有碎片產(chǎn)生。另一方面，對(duì)激光曝光或樣品聚焦條件進(jìn)行簡(jiǎn)單的改變就可以將絲移動(dòng)至表面，因此導(dǎo)致激光燒蝕加工(如果需要的話)，如下面進(jìn)一步描述的那樣。這樣有助于在襯底的表面上產(chǎn)生很尖銳的V型溝槽?？虅澐浅１〉囊r底(小于400um厚)產(chǎn)生尖銳的V型溝槽是需要的。其它的普通的燒蝕技術(shù)通常產(chǎn)生U形溝槽或圓形的V型溝槽。V型溝槽還可以在樣品的上表面和底表面上形成，使得刻劃的邊緣是斜切的。沿這樣的絲存儲(chǔ)的激光能量導(dǎo)致內(nèi)部的材料修改，內(nèi)部的材料修改的形式可以是缺損、色心、應(yīng)力、微通道、微空隙、和/或微裂縫。本方法需要橫移聚焦的激光束以形成緊密地定位的絲導(dǎo)致的修改軌跡的陣列。這種絲陣列限定透明介質(zhì)內(nèi)部的修改的偽連續(xù)幕，而不在上表面或底表面上產(chǎn)生激光燒蝕損壞。該幕致使當(dāng)施加僅很輕微壓力(力)時(shí)玻璃板對(duì)切割非常地敏感，或可自發(fā)地由于內(nèi)部應(yīng)力而裂解。切割的刻面沒(méi)有燒蝕屑，示出最小的或沒(méi)有微裂縫和微孔(micixwents)，并精確地遵循由激光在內(nèi)部標(biāo)記的靈活的曲線或直線路徑，具有如自聚焦束腰所限定的僅非常小的切口寬度。短脈沖激光的高重復(fù)率脈沖群的應(yīng)用提供熱積聚及其它瞬態(tài)效應(yīng)的優(yōu)點(diǎn)，使得熱傳遞及其它相關(guān)的機(jī)理在隨后的激光脈沖到達(dá)之前不是完全地衰減[US6, 552, 301B2Burst-UF laser Machining (群 UF 激光加工)]。這樣，例如熱積聚可以為隨后的激光脈沖表現(xiàn)出延展性玻璃的薄的加熱的鞘，其防止微裂縫的產(chǎn)生，同時(shí)還保持在另外的脆性材料中短脈沖燒蝕的加工的優(yōu)點(diǎn)(即非線性吸收、減少的附帶損壞)。在所有的上述激光燒蝕方法中，透明材料的切、刻劃、或切塊將產(chǎn)生燒蝕屑污染并且耗損切口寬度至容納去除的材料，同時(shí)還產(chǎn)生附加的激光損壞。因此，激光處理的非燒蝕的方法將是需要的。因此高重復(fù)率短脈沖激光器的應(yīng)用提供用于顯著地增加用于這樣的成絲切割的處理(掃描)速度的方法。然而，以足夠高重復(fù)率(轉(zhuǎn)換大約IOOMHz至IMHz)，通過(guò)瞬態(tài)效應(yīng)組合絲的修改動(dòng)力學(xué)被顯著地提高，瞬態(tài)效應(yīng)包括一個(gè)或多個(gè)熱積聚、等離子體動(dòng)力學(xué)、暫時(shí)的和永久的缺損、色心、應(yīng)力、以及材料缺陷，這些瞬態(tài)效應(yīng)積聚并且沒(méi)有在脈沖列的過(guò)程中完全地衰減從而改變連續(xù)的脈沖-脈沖相互作用。由這樣的脈沖群列形成的激光絲在降低成絲的能量閾值方面提供顯著的優(yōu)點(diǎn):將絲長(zhǎng)度增加至數(shù)百微米或數(shù)毫米、對(duì)絲修改區(qū)域進(jìn)行熱退火以使附帶損害最小化、改進(jìn)處理可重復(fù)性、以及與使用低重復(fù)率激光相比增加處理速度。在以這樣的高重復(fù)率的一個(gè)非限制表現(xiàn)中，在激光脈沖之間的時(shí)間(即，IOns至I μ s)不足以熱擴(kuò)散去掉吸收的激光能量，從而熱量以每個(gè)激光脈沖局部地積聚。這樣，在隨后的激光脈沖的過(guò)程中在相互作用體積中的溫度上升，導(dǎo)致具有更有效的加熱以及更少的熱循環(huán)的激光相互作用。在該區(qū)域里，脆性材料變成更具延展性以緩和裂縫的形成。其它的瞬態(tài)效應(yīng)包括暫時(shí)的缺損和等離子體，從之前的激光脈沖相互作用中繼續(xù)存在。然后這些瞬態(tài)效應(yīng)用來(lái)將成絲處理延伸至長(zhǎng)相互作用長(zhǎng)度，和/或改進(jìn)吸收隨后的脈沖中的激光能量。如下面所示，可以通過(guò)各種方法調(diào)整激光成絲方法以通過(guò)重復(fù)循環(huán)克爾透鏡聚焦和等離子體散焦產(chǎn)生與非絲區(qū)域脫離的多絲軌跡。在厚的透明樣品中可以形成這樣的多級(jí)軌跡，穿過(guò)由透明的氣體或其它的透明材料分離的數(shù)個(gè)玻璃層，或在不同的透明材料的多個(gè)層中。通過(guò)控制激光曝光以僅在固態(tài)的透明層中形成絲，可以避免在單個(gè)或多層板中的每個(gè)表面上燒蝕和碎片產(chǎn)生。這樣在制造中提供顯著的優(yōu)點(diǎn)，例如在制造中厚玻璃或脆弱的多層透明的板必須被切割成具有平滑和無(wú)裂縫的刻面。成絲方法適用于對(duì)于入射的激光束是透明的大范圍的材料，包括玻璃、晶體、選擇的陶瓷、聚合物、液體封裝器件、多層材料或器件、以及復(fù)合材料的組件。在本公開中，應(yīng)該進(jìn)一步地理解入射的激光束的光譜范圍并不限于可見(jiàn)光譜，而是代表對(duì)于還在真空紫外、紫外、可見(jiàn)、近紅外、或紅外的光譜中的激光波長(zhǎng)是透明的任意材料。例如，硅對(duì)1500nm的光是透明的但對(duì)可見(jiàn)光是不透明的。因此，用直接(即摻鉺玻璃激光器)或通過(guò)在晶體或者其它的非線性媒質(zhì)中的非線性混合(即光參量放大)產(chǎn)生的波長(zhǎng)為1500nm的短脈沖激光可在硅中形成激光絲。在在可見(jiàn)光譜內(nèi)是透明襯底中，激光絲可導(dǎo)致白光的產(chǎn)生，不受理論的限制，白光被認(rèn)為是通過(guò)在基質(zhì)內(nèi)的自相位調(diào)制作用產(chǎn)生的并且被觀察到由于例如減少激光脈沖能量或等離子體散焦的因素對(duì)于在絲端部后的寬圓錐角16內(nèi)的激光成絲區(qū)域出現(xiàn)。通過(guò)透鏡聚焦位置、物鏡的數(shù)值孔徑、激光脈沖能量、波長(zhǎng)、持續(xù)時(shí)間和重復(fù)率、形成每個(gè)絲軌跡所施加的激光脈沖的數(shù)目、以及透明介質(zhì)的光學(xué)和熱物理特性而容易地控制絲的長(zhǎng)度和位置?？傮w來(lái)說(shuō)，可以操作這些曝光條件來(lái)產(chǎn)生足夠長(zhǎng)的和強(qiáng)的絲以幾乎延伸跨過(guò)樣品的完全的厚度并且結(jié)束而不進(jìn)入上表面或底表面。這樣，表面燒蝕和碎片在兩個(gè)表面可以被避免并且因此僅透明襯底的內(nèi)部被修改。用適當(dāng)?shù)墓馐劢?，激光絲可以終止并導(dǎo)致激光束以高發(fā)散角16離開玻璃底表面，使得避免在透明的板的底表面有激光加工或損壞。圖2示出以側(cè)視圖示出的示意性的布置，用于(a)形成激光絲20并形成表面V型溝槽22 (b)形成V型溝槽和抑制成絲的。為了得到具有邊緣斜切性質(zhì)的更高品質(zhì)的刻劃，激光加工可以被布置為使得絲在透明材料內(nèi)部形成并形成因在表面上的燒蝕導(dǎo)致的很尖銳的V型溝槽。對(duì)于一些需要整齊的刻面或考慮更高的刻劃速度的應(yīng)用，絲可以被抑制或完全地去除。在一個(gè)實(shí)施方式中，方法用于刻劃和切割光學(xué)顯不玻璃襯底，例如平板顯不器。平板顯示器是兩個(gè)玻璃襯底的夾層。底玻璃襯底可被印有電路、像素、連接器、和/或晶體管、以及其它的電氣元件。襯底之間的間隙充滿液晶材料。LCD的左上邊可以在沒(méi)有任何偏移的情況下刻劃，但是右底邊通常具有大約5_的偏移，該偏移被稱為焊盤區(qū)域，并且所有的電子元件通過(guò)該區(qū)域連接至IXD元件。這個(gè)區(qū)域是限制對(duì)于平板顯示器激光刻劃使用大功率激光器的主要瓶頸的來(lái)源，因?yàn)樵陧攲涌虅澋倪^(guò)程中在底層上的所有的電路可能被損壞。為了模擬平板設(shè)備，發(fā)明者將頂玻璃襯底放置在有覆層的鏡子的表面上。在雙層玻璃板的頂玻璃的激光絲刻劃的過(guò)程中，優(yōu)選地調(diào)整形成在頂玻璃板內(nèi)的絲的位置，從而防止通常包含金屬覆層(如上所述)的底層上的損壞。這個(gè)實(shí)驗(yàn)的結(jié)果突出了兩個(gè)要點(diǎn)。第一，可以實(shí)現(xiàn)激光刻劃而不損壞底襯底焊盤區(qū)域的覆層，第二，當(dāng)絲位于靠近的底表面的特定位置時(shí)，來(lái)自底金屬表面的反射可加工或處理頂層的底表面，在底上產(chǎn)生V型溝槽。進(jìn)一步的研究導(dǎo)致圖3所示的方法，其中利用適當(dāng)?shù)陌肩R24或鏡子和透鏡的組合將衍射光束16會(huì)聚回以加工目標(biāo)的底表面，以便產(chǎn)生第二 V型溝槽26。該裝置具有使得V型溝槽在底邊形成且不使用從底側(cè)的第二激光加工的益處。對(duì)于需要整齊的或發(fā)亮的刻面的一些應(yīng)用，可使用圖4的布置以在玻璃的頂層和底層上產(chǎn)生尖銳的V型溝槽。在這種運(yùn)行方式中，通過(guò)增加第二光束28和物鏡30通過(guò)激光刻劃兩個(gè)邊都是斜切的，并且不需要進(jìn)一步斜切或磨削，而斜切或磨削將需要另外的清洗和干燥過(guò)程。圖5示出了切割的樣品的側(cè)視和前視圖，其中示出了切割后的V型溝槽32的表面。圖6示出用于將多個(gè)會(huì)聚激光束輸送進(jìn)入透明的板用于同時(shí)產(chǎn)生多個(gè)絲的聚焦布置的實(shí)施例。光束10和34可利用公知的分束器設(shè)備從單個(gè)激光源分離開并如圖所示用不同的透鏡12和36聚焦。或者，衍射光學(xué)器件、多透鏡系統(tǒng)以及混合光束分離和聚焦系統(tǒng)可在對(duì)光學(xué)專業(yè)人員是公知的布置中使用，以產(chǎn)生在不同的物理位置、方向、角、以及深度進(jìn)入板的多個(gè)會(huì)聚波束。這樣，成絲修改軌跡18沿直線或曲線路徑并行產(chǎn)生，使得為了更高的總處理速度，板的多個(gè)部分可以同時(shí)被激光書寫并隨后沿多個(gè)修改軌跡刻劃。圖7示出用于激光成絲書寫的兩個(gè)不同的聚焦條件的示意性的布置，將修改軌跡40的陣列38僅限制在上面的透明襯底42 (圖7 (a))中(為第一激光曝光步驟)，順序地隨后是成絲書寫，在第二激光經(jīng)過(guò)中將修改軌跡46的陣列44僅限制在下面的透明的板48內(nèi)部(圖7 (b))。激光曝光被調(diào)整為避免在每次激光經(jīng)過(guò)的過(guò)程中燒蝕或其它的激光損壞和在四個(gè)表面的任何表面上產(chǎn)生燒蝕屑。在刻劃上面的板的過(guò)程中，在下面的層中不發(fā)生任何損壞，反之亦然。這種單側(cè)處理的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是由于對(duì)于會(huì)聚激光束50的第一板的透明性，透明的板的組件不需要被翻轉(zhuǎn)以接近第二板48。例如，通過(guò)在第二經(jīng)過(guò)中將12透鏡定位靠近上面的玻璃板42 (圖7b)，在第一板中成絲沒(méi)有被引發(fā)并且接近完全的激光能量進(jìn)入第二板，然后在第二板中引發(fā)成絲。這種方法的第二優(yōu)點(diǎn)是在相同刻劃步驟的過(guò)程中兩個(gè)板可以沿相似的線分離，這對(duì)于在平板顯示器中組裝的透明的板是特別有吸引力的。這種方法是可擴(kuò)展至多個(gè)透明的板。圖7 (C)示出用于同時(shí)地在兩個(gè)或更多個(gè)透明的板42和48中導(dǎo)致激光成絲的布置。這種方法使兩個(gè)透明的板的單次曝光能形成成絲修改軌跡38和44的接近相同的形狀或路徑。在這種情況下，將激光參數(shù)調(diào)整為在上面的板42內(nèi)產(chǎn)生第一絲38或絲軌跡40的陣列，使得在到達(dá)上面的板的底表面之前成絲終止，例如通過(guò)等離子體散焦。在形成第一絲軌跡之后發(fā)散的激光束被充分地展開以防止燒蝕、光學(xué)擊穿、或其它的對(duì)上面的板的底表面、兩個(gè)板之間的介質(zhì)、以及下面的板48的上表面的破壞。然而，在這個(gè)區(qū)域中傳播的過(guò)程中，自聚焦持續(xù)并導(dǎo)致被限制僅僅在下面層透明的板48中形成第二絲44。照這樣，單個(gè)激光束同時(shí)地形成兩個(gè)或更多個(gè)分隔的絲38和44，絲38和44在兩個(gè)或更多個(gè)堆積的板中同時(shí)產(chǎn)生平行的修改軌跡40和46。這樣，在一個(gè)切割步驟中可以沿接近平行的成絲軌跡刻劃或分隔兩個(gè)或更多個(gè)透明的板的組件并穿過(guò)所有的透明的板。在透明的板之間的介質(zhì)必須具有好的透明度并可由空氣、氣體真空、液體、固體或其組合組成?；蛘撸该鞯陌蹇梢允俏锢斫佑|的或接近-物理接觸的而沒(méi)有任何間隔。這種方法可擴(kuò)展至在多重堆積的透明的板中的絲處理。圖8提供用于處理兩重或更多重堆積或?qū)油该靼搴徒M件的多光束成絲刻劃方法的另一個(gè)實(shí)施方式(最初在圖4中示出)。向板組件42和48提供兩個(gè)會(huì)聚激光束用于在物理上分隔或接觸的透明板中產(chǎn)生獨(dú)立和隔離的絲38和44。激光曝光條件對(duì)于每個(gè)激光束10和28被調(diào)整(即通過(guò)透鏡12和30的垂直位移)以在每個(gè)板中局部化絲。然后絲軌跡在相似的或偏置位置中以相似的或不同的角和深度形成?？赏瑫r(shí)地切割成絲軌跡使得在批處理中將光學(xué)板的堆或組件作為一個(gè)單元分離。利用常規(guī)的分束器可從普通的光源或可原始的從兩個(gè)不同的激光源提供上面和下面的光束。上面和下面光束可沿公共軸線對(duì)準(zhǔn)，或空間地偏移。優(yōu)選地，兩個(gè)光束的相對(duì)的空間位置是可配置的。圖9 Ca)示出處理雙層玻璃(由板42和48形成)的方法，其中每個(gè)層是在兩個(gè)位置處理的，但是其中一對(duì)絲52和54是對(duì)準(zhǔn)的而另一對(duì)絲56和58是相互橫向地錯(cuò)開。通過(guò)使用圖8中示出的方法可以獲得這樣的布置，其中每個(gè)板是由分開的激光束處理的?；蛘?，絲可使用圖7中示出的方法中的一個(gè)處理。圖9 (b)示出相似的布置，其中絲形成在上面的42和48板中，并且溝槽形成在每個(gè)玻璃的頂上(60，62，64和66)，優(yōu)選地使用在圖7中示出的方法。類似地，圖9 (c)示出僅V型溝槽68、70、72以及74在每個(gè)板42和48的表面上形成的情況。注意使用如圖4和圖8所示的相似的裝置可以在底表面中形成底玻璃的V型溝槽或絲。在平板顯示器的情況下，應(yīng)當(dāng)注意在底層的上表面上提供V型溝槽需要在焊盤區(qū)域中加工額外的連接。此外，由于連接的屏蔽效應(yīng)，絲沒(méi)有在所有的地方形成。盡管如此，襯底可被切割成具有相對(duì)容易的刻面視圖而沒(méi)有完美的刻面視圖。在一些情況中，邊緣通過(guò)磨削而改善。圖10示出在使用如圖8所示的方法刻劃后在雙層玻璃中導(dǎo)致絲和V型溝槽的形成。如上所述，上板是從頂刻劃的而下板是從形成V型溝槽76和78底刻劃的?？尚纬蒝型溝槽、絲、或其組合(如圖所示)。如圖所示，上部和下部的絲可以是錯(cuò)開的，圖中上板中的絲56和V型溝槽64相對(duì)于下板中的絲58和V型溝槽78是空間地錯(cuò)開的?；蛘?，上部和下部的絲可能是對(duì)齊的，圖中上板中的絲52和V型溝槽60與下板中的絲54和V型溝槽76對(duì)齊。在這樣的配置中，在該配置中形成絲和V型溝槽是容易地可完成的，并且在切割過(guò)程中刻劃的區(qū)域被有效地分隔。一般而言，頂層的切割相對(duì)容易發(fā)生，但是發(fā)明者已經(jīng)確定在一些情況中，底層需要小心的注意并且在切割步驟之前適當(dāng)?shù)卣{(diào)整切割輥可能是必需的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將容易地理解調(diào)整可以通過(guò)選擇產(chǎn)生所需的切割品質(zhì)的輥配置來(lái)進(jìn)行。光電行業(yè)中的新方法包括形成堆的多層透明的板的組件。例如，觸屏IXD和3DLCD使用三層玻璃。圖11示出這樣的多層堆80的并行處理，其中劃線82示出為提供給堆中的每個(gè)板。如圖7 (a)和7 (b)所示，可通過(guò)改變物鏡12的工作距離處理在這樣的堆中的多個(gè)板，這使得在該堆內(nèi)的多個(gè)板能被分別地刻劃。可以從兩個(gè)表面進(jìn)行刻劃(類似于圖7所示的方法)。這里提供的特定的情況僅示出了頂聚焦裝置。提供以下實(shí)施例使本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠理解并實(shí)踐本公開。這些實(shí)施例不應(yīng)認(rèn)為是對(duì)本文提供的實(shí)施方式的范圍的限制，而僅僅是其示例性和代表性的。實(shí)施例為了說(shuō)明所選實(shí)施方式，使用有效波長(zhǎng)為大約800納米，以38MHz的重復(fù)率產(chǎn)生IOOfs脈沖的脈沖激光系統(tǒng)對(duì)玻璃板進(jìn)行激光處理。所選的激光波長(zhǎng)在紅外線光譜范圍內(nèi)，在該范圍內(nèi)玻璃板是透明的。所選的聚焦光學(xué)器件提供大約IOym的光束焦點(diǎn)。最初，激光系統(tǒng)被配置為使用8個(gè)脈沖的脈沖列，其中形成脈沖列的脈沖群在500Hz的重復(fù)率出現(xiàn)。如下文的進(jìn)一步所述，使用了上述的實(shí)施方式的各種配置。圖12 (a)- (c)示出在激光曝光后立即通過(guò)拋光邊緣刻面觀察的Imm厚玻璃板的側(cè)視圖的顯微鏡圖像。為了觀察內(nèi)部的絲結(jié)構(gòu)，對(duì)于這種情況板并沒(méi)有沿絲軌跡分隔。如上所述，以38MHz的重復(fù)率施加8個(gè)脈沖的單個(gè)脈沖群以形成每個(gè)絲軌跡。此外，在以5mm/s的中等速度掃描樣品時(shí)，以500Hz的重復(fù)率提供脈沖列，使得絲軌跡被分隔成周期為10 μ m的單獨(dú)的軌跡。觀察到的成絲修改軌跡具有小于3 μ m的直徑，小于這種聚焦布置的理論焦斑大小10 μ m,證明非線性自聚焦處理導(dǎo)致觀察到的成絲。通過(guò)透鏡-樣品位移改變樣品中激光束的幾何聚焦以說(shuō)明樣品內(nèi)絲形成的控制。在圖12 (a)中，光束焦點(diǎn)被定位在接近板的底，而在圖12 (b)和12 (c)中，光束焦點(diǎn)分別位于接近板的中央和頂。圖12 (a)和12 (b)示出穿過(guò)玻璃板內(nèi)部形成的多層絲軌跡(84、86,88和90)。尤其是，由于如上所述的散焦和再聚焦效應(yīng)，在多個(gè)深度產(chǎn)生了絲。因此圖12示出成絲軌跡相對(duì)于板表面的受控定位。在圖12 Ca)中，光束焦點(diǎn)位于接近板的底，絲在板的上半部分中形成而沒(méi)有延伸穿過(guò)板的全部厚度。在中圖12(c)，光束焦點(diǎn)被定位在接近板的頂，在板的中心形成大約200 μ m的相對(duì)短的絲92，并且上表面燒蝕和燒蝕屑是明顯的。圖12 (b)中示出刻劃的優(yōu)選的形狀，其中絲的大約750微米長(zhǎng)的帶延伸穿過(guò)透明板厚度的大部分但不到達(dá)表面。在該區(qū)域里，在這兩個(gè)表面均不產(chǎn)生燒蝕加工或其它的損壞。當(dāng)圖12中的絲軌跡的間隔足夠切割I(lǐng)mm厚的玻璃板時(shí)，發(fā)現(xiàn)沿絲陣列限定的需要路徑切割板需要中等高的機(jī)械力。在數(shù)個(gè)試驗(yàn)中，觀察到玻璃偶而被切割到激光修改軌跡夕卜。因此，對(duì)于切割這樣的厚(Imm)的板，絲軌跡更近的間隔(即，更小的陣列間距)是優(yōu)選的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將容易地理解陣列間隔和絲深度的合適的值取決于給定板的材料類型和尺寸。例如，相等厚度但是不同的材料成分的兩個(gè)板可具有不同的合適的陣列間隔和絲深度值?？赏ㄟ^(guò)改變陣列間隔和絲深度實(shí)現(xiàn)給定板材料和厚度的合適值的選擇從而獲得需要的切割品質(zhì)和需要的切割力。再一次參考圖12，因?yàn)殛嚵虚g距是10 μ m且觀察到的絲直徑大約3 μ m，因此和10 μ m的理論激光光點(diǎn)大小相比僅狹窄的區(qū)域受熱影響。在其它的激光材料處理方法中，獲得小的熱影響區(qū)域是一種挑戰(zhàn)。本方法的一個(gè)特定的優(yōu)點(diǎn)(如圖12所示的結(jié)果所證明)是在上表面和底表面上的熱影響區(qū)域的寬度看起來(lái)大約相同。這是本方法的重要的特征，因?yàn)樵谛纬蛇^(guò)程中成絲性質(zhì)保持大體上受限制，這是對(duì)于精確地切割板是需要的。圖13 (a)和13 (b)示出分別地聚焦在玻璃樣品的上表面和底表面的光學(xué)顯微鏡圖像，如對(duì)于圖12(b)所示的樣品所記錄的那樣。在該表面之間，由于顯微鏡的有限焦深，當(dāng)修改區(qū)域從任一表面物理上超過(guò)100 μ m時(shí)，如所期望的，內(nèi)部的成絲修改呈現(xiàn)未聚焦。圖像揭示了在每個(gè)表面上均完全沒(méi)有激光燒蝕、物理?yè)p壞或其它的改變，而僅支持沿激光修改軌跡的內(nèi)部形成。當(dāng)顯微鏡聚焦在玻璃內(nèi)部時(shí)，觀察到的成絲修改區(qū)域?qū)挾葹榇蠹sΙΟμπι。該寬度超過(guò)圖12中看到的對(duì)于隔離的激光絲的3μπι的修改直徑并且歸因于狹窄的高對(duì)比絲軌跡(圖12中可以看見(jiàn))的不同區(qū)域，絲軌跡在更低的對(duì)比修改區(qū)域中已經(jīng)被遮蔽(圖12中不可看到)。并未意在受理論的限制，脈沖群中的多個(gè)脈沖導(dǎo)致了歸因于累積的修改處理(即熱影響區(qū)域)的該低對(duì)比區(qū)域。在本玻璃樣品中成絲修改區(qū)域在其為數(shù)百微米的全部深度范圍內(nèi)維持接近不變的IOym寬度，本玻璃樣品清楚地說(shuō)明了自聚焦現(xiàn)象。因此，成絲修改示出這樣處理的IOym的“內(nèi)部”切口寬度或熱影響區(qū)域。然而，在表面上沒(méi)有損壞或物理變化，表明在表面上更小或接近零的切口寬度事實(shí)上是可得到的，表面上通常僅發(fā)現(xiàn)安裝有其它的部件(涂料、電子設(shè)備、電極、包裝、電光設(shè)備、MEMS、傳感器、致動(dòng)器、微流體設(shè)備等)。因此，在透明襯底或晶片的表面上接近O的切口寬度是顯著的處理優(yōu)點(diǎn)，從而在激光處理的過(guò)程中防止損壞或修改這樣的部件。這是用于激光成絲刻劃的本公開的重要的性質(zhì)之一，因?yàn)閷?shí)際的修改可被限制在塊狀透明介質(zhì)內(nèi)部并且遠(yuǎn)離敏感的部件或覆層。為了便于切割，如提供給圖12 (b)的激光曝光條件被用于類似的Imm厚玻璃樣品而使用減慢的掃描速率以更緊密地或稠密地間隔絲軌跡。單獨(dú)的絲軌跡不再是通過(guò)光學(xué)顯微法可分辨的。圖14(a)示出在樣品被沿接近連續(xù)的激光形成的成絲面機(jī)械地切割后的端刻面視圖。在這些條件下，僅需要非常微小的力或壓力來(lái)導(dǎo)致機(jī)械切割。切割精確地按照絲軌跡并容易地傳播軌跡的全長(zhǎng)以分離樣品。生成的刻面非常平并具有銳利限定的邊緣，該邊緣沒(méi)有碎片、片屑、以及開口。光學(xué)形態(tài)示出平滑切割表面與波紋結(jié)構(gòu)交錯(cuò)散布，波紋結(jié)構(gòu)具有數(shù)十微米的特征尺寸并是通常平滑的且沒(méi)有裂縫。平滑刻面區(qū)域?qū)?yīng)于幾乎沒(méi)有或沒(méi)有成絲軌跡是看得見(jiàn)的區(qū)域，如圖12所示。通過(guò)控制激光曝光以將成絲完全地限制在玻璃板內(nèi)并防止表面上的燒蝕可得到銳利限定的頂和底表面邊緣。這里激光成絲相互作用產(chǎn)生高應(yīng)力梯度，該高應(yīng)力梯度沿由激光曝光路徑限定的內(nèi)部平面或表面形狀形成。這種應(yīng)力場(chǎng)使得新的裝置能夠用于沿由激光曝光控制的路徑精確地刻劃透明介質(zhì)。圖14 (b)示出圖12 (b)所示的Imm厚的玻璃樣品在切割之后的側(cè)視光學(xué)圖像。由于在該激光曝光的過(guò)程中應(yīng)用更快的掃描速度，由于粗的絲間隔(10 μ m)，所以產(chǎn)生更少的過(guò)應(yīng)力。因此，需要更多的機(jī)械力分隔板?，F(xiàn)在切割的刻面包括微裂縫、開口、以及比使用減慢的掃描速率的圖14 (a)的情況中所看到的更鋸齒狀或粗糙的形態(tài)。在許多應(yīng)用中這樣的微裂縫不是所希望的，因?yàn)樵诎b或后續(xù)處理步驟時(shí)微裂縫可導(dǎo)致許多更大的裂縫，或通過(guò)能夠提前損壞設(shè)備的操作或使用壽命的應(yīng)用范圍內(nèi)的熱循環(huán)。用于玻璃的圖12-14中所示的激光成絲和刻劃實(shí)施例在形成絲的高重復(fù)率的方法中清楚地說(shuō)明上述的實(shí)施方式，其中使用短脈沖激光。每個(gè)絲都是用8個(gè)脈沖的單個(gè)脈沖群形成的，脈沖以26ns分隔并且每個(gè)脈沖具有40 μ J的能量。在這樣的脈沖群情況下，熱積聚及其它瞬態(tài)效應(yīng)沒(méi)有在脈沖之間的短時(shí)間內(nèi)消散，因此提高了在先前的脈沖的成絲列(等離子體通道)中的后續(xù)的激光脈沖的相互作用。因此，與以低重復(fù)率施加激光脈沖的情況相比，絲更加容易地、在更長(zhǎng)的長(zhǎng)度上、并且用更低的脈沖能量、更高的可重復(fù)性和改進(jìn)的控制而形成。圖15 (a)示出切割的Imm厚的玻璃板的顯微鏡圖像，其中絲是以500Hz的低重復(fù)率(激光脈沖之間間隔2ms)形成的。掃描速率被調(diào)整為每相互作用地點(diǎn)輸送8個(gè)脈沖，每個(gè)脈沖具有如在上述的脈沖群-列實(shí)施例使用的相同40 μ J的脈沖能量。因此在脈沖群(圖12-14)和非脈沖群(圖15)光束傳送情況中每單個(gè)絲的總曝光都是320 μ J。在非脈沖群(圖15)情況中脈沖之間的長(zhǎng)時(shí)間間隔確保所有的材料修改動(dòng)力學(xué)在下一個(gè)激光脈沖到達(dá)之前衰減。因?yàn)闊岱e聚及其它瞬態(tài)效應(yīng)在脈沖之間的長(zhǎng)間隔內(nèi)完全地衰減，這樣就排除任何成絲增強(qiáng)效應(yīng)。并非意在受理論的限制，據(jù)信材料修改動(dòng)力學(xué)的衰減在產(chǎn)生絲和在本玻璃襯底內(nèi)導(dǎo)致內(nèi)部修改中導(dǎo)致弱得多的總的激光-材料相互作用。因此，非脈沖激光相互作用發(fā)生在接近頂玻璃表面的非常小的體積中，如圖15 (a)所示。進(jìn)一步，激光相互作用在玻璃內(nèi)部產(chǎn)生小體積空腔，在圖15 (a)中可以看到這些小體積空腔，像刻面的頂IOOym中的粗糙表面。為了能夠沿這樣的激光軌跡進(jìn)行可靠的刻劃，必須使激光慢得多地(與圖15 (a)的情況相比)通過(guò)樣品和/或在相同軌跡上施加數(shù)個(gè)反復(fù)通過(guò)的激光以形成足夠地強(qiáng)的內(nèi)部修改。為了與脈沖群-列絲書寫直接比較，圖15(b)示出相似的玻璃板的邊緣刻面圖像，其中每個(gè)絲是以500Hz的低重復(fù)率，320 μ J能量每脈沖形成的(即脈沖群-列320 μ J:在脈沖列中單個(gè)的脈沖)。比圖15 (a)的低重復(fù)率、8個(gè)脈沖曝光的情況長(zhǎng)得多的絲被觀察到。絲是深埋在塊體玻璃內(nèi)從而避免表面燒蝕或其它的激光損壞。盡管如此，觀察到的絲長(zhǎng)度小于觀察到的以相似的平均能流脈沖群成絲的絲長(zhǎng)度。在圖15 (a)和15 (b)的兩種情況中，為了觀察的目的，施加普通的快速的掃描速度以提供絲陣列的寬間隔。因此，這些結(jié)果說(shuō)明了通過(guò)改變激光曝光的脈沖特性可以容易地控制絲的特性。換句話說(shuō)，除能量的參數(shù)之外，波長(zhǎng)、以及光束聚焦情況(即數(shù)值孔徑、樣品中焦點(diǎn)位置)、脈沖參數(shù)可以被改變以獲得需要的絲輪廓。特別是，可以改變脈沖群中的脈沖數(shù)和連續(xù)的脈沖之間的延遲時(shí)間以控制產(chǎn)生的絲的形式。如上所述，在一個(gè)實(shí)施方式中，絲是通過(guò)提供用于產(chǎn)生每個(gè)絲的脈沖群而產(chǎn)生的，其中每個(gè)脈沖群包括具有相對(duì)延遲的一系列脈沖，該相對(duì)延遲小于所有的材料修改動(dòng)力學(xué)的衰減的時(shí)間。在單層玻璃刻劃、平板玻璃刻劃、硅和/或藍(lán)寶石晶片刻劃的工業(yè)應(yīng)用中，存在對(duì)使用具有被證實(shí)的可靠性的激光系統(tǒng)的更高的刻劃速度的需要。為了說(shuō)明這樣的實(shí)施方式，使用高重復(fù)率商用的超快的激光系統(tǒng)執(zhí)行實(shí)驗(yàn)，該激光系統(tǒng)的脈沖持續(xù)時(shí)間在皮秒范圍內(nèi)。如圖16 (a)所示，在具有700 μ m的厚度的玻璃襯底中形成了 V型溝槽，其具有源于V型溝槽下來(lái)的絲。V型溝槽的深度和寬度為大約20 μ m并且該絲延伸600 μ m的長(zhǎng)度。圖16 (b)提供玻璃襯底的頂視圖。觀察到的切口寬度為大約20μπι，在側(cè)面中由5μπι的重塑物覆蓋。如附圖所示，沒(méi)有可見(jiàn)碎片積聚在表面上。圖16 (c)示出玻璃切割后的前視圖，突出顯示絲深度穿透進(jìn)入玻璃襯底，這樣幫助切割樣品。在后續(xù)的實(shí)驗(yàn)中，改變聚焦條件以使絲長(zhǎng)度最小化。對(duì)于一些應(yīng)用，形成絲不是需要的，和/或整齊的刻面是需要的。圖17中提供示出三個(gè)不同的V型溝槽的側(cè)視圖。注意到每個(gè)V型溝槽的斜切角是不同的。通過(guò)改變聚焦和束發(fā)散能夠調(diào)整斜切角和深度。V型溝槽的寬度、深度和銳度與其它的激光刻劃技術(shù)比較具有高質(zhì)量，在其它的激光刻劃技術(shù)中通常產(chǎn)生更寬的切口寬度或更短的深度結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)的溝槽具有U形的形狀并導(dǎo)致大量碎片積聚在表面上。圖18示出通過(guò)圖7 (C)所述的方法和布置具有兩個(gè)400um厚的雙層玻璃的組件的同時(shí)激光成絲刻劃。單個(gè)激光束聚焦進(jìn)入上玻璃板以形成長(zhǎng)絲。激光束穿過(guò)空氣間隙而不對(duì)兩個(gè)中央玻璃表面產(chǎn)生破壞。然而，自聚焦作用產(chǎn)生第二絲以在第二(較低)板中形成相同的光束，使得分別地在每個(gè)薄玻璃板中形成兩個(gè)絲軌跡。圖18 Ca)示出切割之前刻劃的層疊玻璃的側(cè)視圖，圖18 (b)示出切割以后頂層和底層玻璃的前表面的光學(xué)顯微鏡圖像。修改軌跡被主要地限制在玻璃的塊體中，并因此，任何表面中都沒(méi)有出現(xiàn)燒蝕屑或微裂縫。在兩個(gè)板中成絲修改的切口寬度小于10 μ m,其代表激光的熱影響區(qū)域。單一的絲軌跡是可分辨的，圍繞該單一的絲軌跡產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力領(lǐng)域使得能夠進(jìn)行機(jī)械刻劃。刻面具有整齊的平整表面，且圍繞絲軌跡的僅小程度的輪廓是可觀察到的。邊緣是相對(duì)尖銳的并且沒(méi)有微裂縫?？堂婢哂心ハ鞅砻娴囊话阃獗恚⒖杀环Q為已經(jīng)通過(guò)“激光磨削”產(chǎn)生的。這樣整齊的并且“激光磨削”的表面可通過(guò)產(chǎn)生緊密間隔的，并優(yōu)選地，相互鄰接的絲而獲得。應(yīng)當(dāng)注意對(duì)于圖12至18中的每個(gè)光學(xué)顯微鏡圖像，玻璃樣品被示出為如通過(guò)激光曝光處理的，在激光曝光處理后或切割步驟后沒(méi)有任何的清洗步驟。發(fā)現(xiàn)低重復(fù)率成絲和高(脈沖群)重復(fù)率成絲的本方法在用于在大約30fs至IOps范圍內(nèi)試驗(yàn)的脈沖持續(xù)時(shí)間的玻璃中是有效的。然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解其它的材料的優(yōu)選地脈沖持續(xù)時(shí)間范圍可能是不同的。通過(guò)改變脈沖持續(xù)時(shí)間并且檢查產(chǎn)生的絲的特征，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可確定用于其它的材料的合適的脈沖持續(xù)時(shí)間。并非意在受理論的限制，據(jù)信本文中公開的實(shí)施方式利用自聚焦以在透明材料中產(chǎn)生絲(等離子體通道)。因此，在I飛秒至IOOps范圍內(nèi)激光脈沖持續(xù)時(shí)間被認(rèn)為是本公開的實(shí)際的操作范圍，用于產(chǎn)生適當(dāng)?shù)馗邚?qiáng)度以在大多數(shù)透明介質(zhì)中驅(qū)動(dòng)克爾-透鏡自聚焦。本公開還預(yù)測(cè)由聚焦短持續(xù)時(shí)間激光通過(guò)不均勻加熱在透明襯底中形成熱梯度。當(dāng)施加脈沖的脈沖群-列時(shí)，上述作用可由熱積聚增強(qiáng)。在這個(gè)區(qū)域里，熱透鏡作為可選裝置，用于產(chǎn)生絲或長(zhǎng)-聚焦通道以在透明材料中產(chǎn)生用于刻劃應(yīng)用的絲修改軌跡。透明介質(zhì)的成絲修改使得能夠進(jìn)行快速的并且低-損壞分離、切塊、刻劃、切割、切、以及通常是平的或曲面板形式透明材料的刻面處理，并且因此在許多的制造應(yīng)用中服務(wù)。本方法通常適用于可形成絲的任何透明介質(zhì)。對(duì)于玻璃材料，這包括液晶顯示器(LCD)、平板顯示器(FPD)、有機(jī)的顯示器(0LED)、玻璃板、多層薄玻璃板、汽車玻璃、管、窗、生物芯片、光學(xué)傳感器、平面光波電路、光學(xué)纖維、飲用玻璃器皿、以及藝術(shù)品的切塊或切割。對(duì)于晶體例如硅、II1-V族元素、及其它半導(dǎo)體材料，特別地，薄晶片形式的晶體，應(yīng)用包括微電子芯片、存儲(chǔ)芯片、傳感器芯片發(fā)光二極管(LED)、激光二極管(LD)、垂直空腔表面發(fā)射激光器VCSEL)及其它光電子設(shè)備的分離。這種絲處理還將適用于切塊、切削、鉆或刻劃透明陶瓷、聚合物、透明的導(dǎo)體(即ΙΤ0)、寬帶隙玻璃以及晶體(例如結(jié)晶石英、金剛石、藍(lán)寶石)。應(yīng)用還延伸至所有的復(fù)合材料和組件，其中復(fù)合材料和組件的至少一個(gè)材料部件對(duì)激光波長(zhǎng)是透明以便于該成絲處理。實(shí)施例包括硅沉積二氧化硅，玻璃上的硅，金屬-鍍膜玻璃平板顯示、印刷電路板、微電子芯片、光電路、多層FPD或IXD、生物芯片、傳感器、致動(dòng)器、MEMs，微型全滿分析系統(tǒng)(μ TAS)、以及多層聚合物包裝。上述的特定的實(shí)施方式已經(jīng)通過(guò)舉例示出，并且應(yīng)該理解這些實(shí)施方式可易于做出各種修改和替換形式。應(yīng)該進(jìn)一步理解權(quán)利要求書并非打算限制本文所公開的特定的形式，而應(yīng)該理解為涵蓋落在本公開的精神和范圍內(nèi)所有的修改、等同、以及替換。
權(quán)利要求
1.一種制備用于切割的襯底方法，所述方法包括以下步驟: 用聚焦的激光束的一個(gè)或多個(gè)脈沖照射所述襯底，其中所述襯底對(duì)所述聚焦的激光束是透明的，并且其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖具有被選擇以在所述襯底內(nèi)產(chǎn)生絲的能量和脈沖持續(xù)時(shí)間； 相對(duì)于所述聚焦的激光束平移所述襯底以照射所述襯底并在一個(gè)或多個(gè)額外的位置產(chǎn)生額外的絲； 其中所述絲形成限定用于切割所述襯底的內(nèi)部刻劃路徑的排列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中襯底相對(duì)于所述聚焦的激光束以被選擇以產(chǎn)生在微米尺度上隔開的絲的速率平移。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖以指定的頻率提供兩倍或更多倍，并且所述襯底相對(duì)于所述聚焦的激光束以大體上恒定的速率平移。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖是單個(gè)脈沖。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖包括具有兩個(gè)或更多脈沖的脈沖列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述脈沖列中連續(xù)的脈沖之間的時(shí)間延遲小于一個(gè)或多個(gè)材料修改動(dòng)力學(xué)的衰減發(fā)生的持續(xù)時(shí)間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置被選擇以在所述襯底內(nèi)產(chǎn)生所述絲，其中所述襯底的至少一個(gè)表面基本沒(méi)有燒蝕。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖的性質(zhì)被選擇以在所述襯底內(nèi)提供足夠的光束強(qiáng)度以導(dǎo)致所述聚焦的激光束的自聚焦。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置被選擇以在所述襯底的至少一個(gè)表面內(nèi)產(chǎn)生V型溝槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述襯底是玻璃。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述襯底包括半導(dǎo)體。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述襯底選自透明陶瓷、聚合物、透明導(dǎo)體、寬帶隙玻璃、晶體、結(jié)晶石英、金剛石、以及藍(lán)寶石。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述襯底包括兩個(gè)或更多層，并且其中所述聚焦的激光束的光束焦點(diǎn)的位置被選擇以在所述兩個(gè)或更多層中的至少一個(gè)內(nèi)產(chǎn)生絲。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述襯底包括多層平板顯示玻璃。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述平板顯示玻璃選自液晶顯示器(LCD)、平板顯示器(FPD )、以及有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED )。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中所述襯底選自汽車玻璃、管、窗、生物芯片、光學(xué)傳感器、平面光波電路、光學(xué)纖維、飲用玻璃器皿、藝術(shù)玻璃、硅、II1-V族半導(dǎo)體、微電子芯片、存儲(chǔ)芯片、傳感器芯片、發(fā)光二極管(LED)、激光二極管(LD)、以及垂直空腔表面發(fā)射激光器(VCSEL)。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述聚焦的激光束的所述光束焦點(diǎn)的所述位置被選擇以在所述兩個(gè)或更多層 的兩個(gè)或更多層內(nèi)產(chǎn)生絲，其中所述聚焦的激光束在一層內(nèi)產(chǎn)生第一絲，傳播進(jìn)入至少一個(gè)附加層，并在所述至少一個(gè)附加層內(nèi)產(chǎn)生第二絲。
18.根據(jù)權(quán)利要求1至17中任一權(quán)利要求所述的方法，還包括切割所述襯底的步驟。
19.根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖中的每一個(gè)的脈沖持續(xù)時(shí)間小于大約lOOps。
20.根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)脈沖中的每一個(gè)的脈沖持續(xù)時(shí)間小于大約10ps。
21.根據(jù)權(quán)利要求13至16中任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述聚焦的激光束的所述光束焦點(diǎn)的所述位置被首先選擇以在所述兩個(gè)或更多層中的至少一層內(nèi)產(chǎn)生絲，所述方法還包括以下步驟: 將第二光束焦點(diǎn)定位在所述兩個(gè)或更多層的第二層內(nèi)；以及 照射所述第二層并平移所述襯底以產(chǎn)生第二陣列，所述第二陣列限定用于切割所述襯底的第二內(nèi)部刻劃路徑。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中當(dāng)照射所述第二層時(shí)，所述襯底是從相對(duì)于當(dāng)照射所述第一層時(shí)相對(duì)側(cè)照射的。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中在照射所述第二層之前，所述第二光束焦點(diǎn)的位置橫向地平移以產(chǎn)生相對(duì)于當(dāng)照射所述第一層時(shí)第一光束焦點(diǎn)的第一位置的偏移。
24.根據(jù)權(quán)利要求21至23中任一權(quán)利要求所述的方法，其中第二聚焦的激光束被用來(lái)照射所述第二層。
全文摘要
提供了用于切割步驟制備透明襯底的內(nèi)部處理的方法。用聚焦的激光束照射襯底，聚焦的激光束包括具有被選擇以在襯底內(nèi)產(chǎn)生絲的能量和脈沖持續(xù)時(shí)間的脈沖。相對(duì)于聚焦的激光束平移襯底以照射述襯底并在一個(gè)或多個(gè)額外的位置產(chǎn)生額外的絲。其中產(chǎn)生的絲形成限定用于切割所述襯底的內(nèi)部刻劃路徑的排列。可改變激光束參數(shù)以調(diào)整絲長(zhǎng)度和位置、以及非必須地引入V型通道或溝槽、給激光切割的邊緣提供斜面。優(yōu)選地，激光脈沖是以脈沖群列輸送的，用于降低絲形成的能量閾值、增加絲長(zhǎng)度、對(duì)絲修改區(qū)域進(jìn)行熱退火以使附帶損害最小化、改進(jìn)處理可重復(fù)性、以及與使用低重復(fù)率激光相比增加處理速度。
文檔編號(hào)B23K26/40GK103079747SQ201180042747
公開日2013年5月1日 申請(qǐng)日期2011年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月12日
發(fā)明者S·艾博斯·胡塞尼, 彼得·R·赫爾曼 申請(qǐng)人:費(fèi)拉瑟美國(guó)有限公司