觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種蝕刻系統(tǒng)，具體的說(shuō)是一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，包含帶有透明導(dǎo)電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導(dǎo)電線路。本實(shí)用新型的實(shí)施方式，采用鐳射方式蝕刻線路，根據(jù)所需要的透明導(dǎo)電線路，將所述觸控面板上需要去除的透明導(dǎo)電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分的透明導(dǎo)電鍍層形成觸控面板的透明導(dǎo)電線路。同現(xiàn)有技術(shù)相比，因簡(jiǎn)化了蝕刻工藝，所以使生產(chǎn)成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高的精度，所以可以在觸控面板上實(shí)現(xiàn)制作高精度的透明導(dǎo)電線路。
【專利說(shuō)明】觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種蝕刻系統(tǒng)，具體的說(shuō)是一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]由于如今科技發(fā)展之快，其觸控設(shè)備的普及率越來(lái)越高，比如手機(jī)、平板電腦、電視等設(shè)備都可以進(jìn)行觸控操作。目前市場(chǎng)上大多數(shù)的觸控設(shè)備一般都設(shè)置有一塊觸控面板，用戶可通過(guò)觸控面板對(duì)相關(guān)設(shè)備進(jìn)行操作，去除了相關(guān)設(shè)備上的功能按鍵，不僅提高了設(shè)備的一體化程度，而且增加了人機(jī)的互動(dòng)性。
[0003]觸控面板的工作原理是，在觸控面板的表面復(fù)合有ITO導(dǎo)電薄膜，并通過(guò)蝕刻工藝，將ITO導(dǎo)電薄膜中的線路蝕刻出來(lái)，觸控面板根據(jù)根據(jù)蝕刻出的線路進(jìn)行工作。
[0004]而目前的蝕刻工藝一般采用濕蝕刻，其方式有兩種:
[0005]方式一，在帶有ITO薄膜的觸控面板表面涂上光刻膠，然后用菲林遮蓋，菲林上預(yù)先設(shè)計(jì)有表示觸控面板的ITO線路，菲林在經(jīng)曝光后去除，其中表示觸控面板的ITO線路部分會(huì)在光刻膠上顯影出來(lái)，把未被顯影出來(lái)的光刻膠部分去除后，再用藥水對(duì)該部分的ITO薄膜進(jìn)行蝕刻，清洗后，在觸控面板表面會(huì)留下所需要的ITO線路。
[0006]上述蝕刻方式的弊端在于:
[0007]1、工藝復(fù)雜，對(duì)生產(chǎn)環(huán)境要求很高；
[0008]2.該工藝對(duì)設(shè)備的要求非常高，生產(chǎn)成本相對(duì)較高；
[0009]3.工藝的步驟較多，對(duì)產(chǎn)品的良率有極大限制；
[0010]4.對(duì)蝕刻后的ITO線路的外觀良率控制要求高。
[0011]方式二，在帶有ITO薄膜的觸控面板表面印刷有耐酸油墨，烘干后再用藥水進(jìn)行蝕刻，清洗后，在觸控面板的表面留下所需要的ITO線路。
[0012]上述蝕刻方式的弊端在于:因沒(méi)有預(yù)先設(shè)計(jì)ITO線路，所以在蝕刻時(shí)的精度低、對(duì)蝕刻線路寬度要求較高，做不了高精度線路。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0013]本實(shí)用新型為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，設(shè)計(jì)了一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，使其蝕刻在保證高精度的同時(shí)，簡(jiǎn)化了蝕刻的工藝步驟，并且提高了對(duì)產(chǎn)品的良率。
[0014]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，包含帶有透明導(dǎo)電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導(dǎo)電線路。
[0015]本實(shí)用新型的實(shí)施方式，采用鐳射方式蝕刻線路，根據(jù)所需要的透明導(dǎo)電線路，將所述觸控面板上需要去除的透明導(dǎo)電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分的透明導(dǎo)電鍍層形成觸控面板的透明導(dǎo)電線路。同現(xiàn)有技術(shù)相比，因簡(jiǎn)化了蝕刻工藝，所以使生產(chǎn)成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高的精度，所以可以在觸控面板上實(shí)現(xiàn)制作高精度的透明導(dǎo)電線路。
[0016]優(yōu)選的，所述透明導(dǎo)電鍍層為銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。用戶可以根據(jù)需求進(jìn)行選擇。
[0017]優(yōu)選的，所述鐳射頭的鐳射線波長(zhǎng)為800nm-1500nm。鐳射頭的掃描速度為800mm/s-2000mm/s,頻率為80khz_250khz。鐳射線寬0.0lmm-0.05mm。以適應(yīng)各種蝕刻線路的工
藝要求。
[0018]優(yōu)選的，所述觸控面板為電容式觸摸屏中的觸控面板。所述電容式觸摸屏通過(guò)觸控面板上的透明導(dǎo)電線路進(jìn)行工作。該電容式觸摸屏可用于手機(jī)、平板電腦、電視等設(shè)備，以滿足市場(chǎng)的需求。
[0019]優(yōu)選的，所述觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板、或基于聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET面板的的觸控面板、或基于玻璃GLASS面板的觸控面板。以滿足市場(chǎng)的需求。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】、
[0020]圖1為現(xiàn)有蝕刻系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2為本實(shí)用新型第一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的各實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)的闡述。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，在本實(shí)用新型各實(shí)施方式中，為了使讀者更好地理解本申請(qǐng)而提出了許多技術(shù)細(xì)節(jié)。但是，即使沒(méi)有這些技術(shù)細(xì)節(jié)和基于以下各實(shí)施方式的種種變化和修改，也可以實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)各權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案。
[0023]如圖1所示，現(xiàn)有的工藝在帶有ITO薄膜的觸控面板I的表面涂上光刻膠，然后用菲林遮蓋，菲林上預(yù)先設(shè)計(jì)有表示觸控面板的ITO線路，菲林在經(jīng)曝光后去除，其中表示觸控面板的ITO線路部分會(huì)在光刻膠上顯影出來(lái)，把未被顯影出來(lái)的光刻膠部分去除后，通過(guò)藥水噴頭2對(duì)去除光膠部分的ITO薄膜噴灑藥水進(jìn)行蝕刻，清洗后，在觸控面板表面會(huì)留下所需要的ITO線路。
[0024]上述蝕刻方式的弊端在于:
[0025]1、工藝復(fù)雜，對(duì)生產(chǎn)環(huán)境要求很高；
[0026]2.該工藝對(duì)設(shè)備的要求非常高，生產(chǎn)成本相對(duì)較高；
[0027]3.工藝的步驟較多，對(duì)產(chǎn)品的良率有極大限制；
[0028]4.對(duì)蝕刻后的ITO線路的外觀良率控制要求高。
[0029]本實(shí)用新型的第一實(shí)施方式涉及一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)。如圖2所示，包含帶有透明導(dǎo)電鍍層的觸控面板3、將所述觸控面板3上的透明導(dǎo)電鍍層形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭4，所述觸控面板3上的透明導(dǎo)電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導(dǎo)電線路。
[0030]本實(shí)施方式是采用鐳射方式蝕刻線路，根據(jù)所需要的透明導(dǎo)電線路，將所述觸控面板3上需要去除的透明導(dǎo)電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分形成觸控面板3的透明導(dǎo)電線路。同現(xiàn)有技術(shù)相比，因簡(jiǎn)化了蝕刻工藝，所以使生產(chǎn)成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高精度，所以可以在觸控面板3上實(shí)現(xiàn)高精度的透明導(dǎo)電線路。
[0031]另外，本實(shí)施方式中的透明導(dǎo)電鍍層可以使用銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。用戶可以根據(jù)實(shí)際的需求進(jìn)行選擇。
[0032]另外，在本實(shí)施方式中，鐳射頭4的鐳射線波長(zhǎng)為800nm-1500nm。鐳射頭4的掃描速度為800mm/s-2000mm/s,頻率為80khz_250khz。儀射線寬為0.0lmm-0.05mm。以適應(yīng)各種蝕刻線路的工藝要求。
[0033]本實(shí)用新型的第二實(shí)施方式涉及一種電容式觸摸屏，第二實(shí)施方式是在第一實(shí)施方式的基礎(chǔ)上做了進(jìn)一步改進(jìn)。具體改進(jìn)為，觸控面板3可作為電容式觸摸屏中的觸控面板。所述電容式觸摸屏通過(guò)觸控面板上的透明導(dǎo)電線路進(jìn)行工作。該電容式觸摸屏可用于手機(jī)、平板電腦、電視等設(shè)備，以滿足市場(chǎng)的需求。并且觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板、或基于聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET面板的觸控面板、或基于玻璃GLASS面板的觸控面板。以滿足市場(chǎng)的需求。
[0034]本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，上述各實(shí)施方式是實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，而在實(shí)際應(yīng)用中，可以在形式上和細(xì)節(jié)上對(duì)其作各種改變，而不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，包含帶有透明導(dǎo)電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻裝置，其特征在于:所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導(dǎo)電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導(dǎo)電線路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述透明導(dǎo)電鍍層為:銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述觸控面板為電容式觸摸屏中的觸控面板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述觸控面板為基于聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯PET面板的觸控面板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述觸控面板為基于玻璃GLASS面板的觸控面板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述鐳射頭為鐳射線波長(zhǎng)為800nm-1500nm的鐳射頭。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述鐳射頭為掃描速度為800mm/s-2000mm/s，頻率為80khz-250khz的鐳射頭。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控面板上形成透明導(dǎo)電線路的蝕刻系統(tǒng)，其特征在于:所述錯(cuò)射頭為錯(cuò)射線寬為0.0lmm-0.05mm的錯(cuò)射頭。
【文檔編號(hào)】B23K26/36GK203390394SQ201320346979
【公開(kāi)日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2013年6月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月18日
【發(fā)明者】劉振國(guó), 唐民超 申請(qǐng)人:蘇州市健邦觸摸屏技術(shù)有限公司