掩模制造裝置及利用激光束制造掩模的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種掩模制造裝置及利用激光束制造掩模的方法。一種掩模制造裝置，其包括激光照射器、平臺、框架和散熱片。激光照射器將激光束分為多道子激光束并將子激光束照射到被放置在平臺上的陰影掩模。框架設(shè)置在平臺上來支撐陰影掩模。散熱片接觸陰影掩模材料，吸收從陰影掩模產(chǎn)生的熱并將該熱排出到陰影掩模的周圍。因此，避免了陰影掩模過熱。
【專利說明】掩模制造裝置及利用激光束制造掩模的方法
[0001]本申請要求于2013年2月I日提交的第10-2013-0011956號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，所述韓國專利申請的內(nèi)容通過引用被全部包含于此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本公開涉及一種制造掩模的裝置以及利用激光束制造掩模的方法。更具體地講，本公開涉及一種制造用于沉積有機材料的陰影掩模(shadow mask)的裝置以及制造該陰影掩模的方法。
【背景技術(shù)】
[0003]通常，在制造有機發(fā)光顯示設(shè)備時，執(zhí)行沉積工藝是利用陰影掩模在基底上沉積有機材料。陰影掩模包括特定的圖案，因此有機材料僅在陰影掩模覆蓋的區(qū)域之外的區(qū)域上沉積。
[0004]陰影掩?？赏ㄟ^利用濕法刻蝕工藝或激光束工藝來制造。在濕法刻蝕工藝的情況下，由于刻蝕工藝的非均勻性，因此難以精致地形成圖案。陰影掩模可以使用激光束工藝或者激光燒蝕工藝來制造。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本公開提供一種制造掩模的裝置，其能夠有效地將利用激光束在陰影掩模上形成圖案時產(chǎn)生的熱排出。
[0006]本公開提供一種利用激光束制造掩模的方法，其使從陰影掩模產(chǎn)生的熱有效地排出或散發(fā)。
[0007]本發(fā)明構(gòu)思的實施例提供了一種掩模制造裝置，其包括激光照射部件、平臺、框架和散熱片或?qū)崞?br> [0008]激光照射部件或激光照射器包括激光產(chǎn)生部件、衍射光學(xué)元件(DOE )透鏡、光學(xué)系統(tǒng)和掃描器。激光產(chǎn)生部件產(chǎn)生激光束。DOE透鏡將激光束分為子激光束。光學(xué)系統(tǒng)減少子激光束之間的像差。掃描器會聚或集中子激光束，以將子激光束照射到陰影掩模上。
[0009]陰影掩模放置在平臺上?？蚣茉O(shè)置在平臺上來支撐陰影掩模材料。散熱片接觸陰影掩模材料并吸收從陰影掩模材料產(chǎn)生的熱，以將該熱排出或散發(fā)到陰影掩模材料的周圍環(huán)境。
[0010]掩模制造裝置進一步包括容納在框架中的磁性材料，并且在將散熱片插在磁性材料和陰影掩模之間時磁性材料被布置為面對陰影掩模。
[0011]掩模制造裝置進一步包括連接到散熱片的散熱片升降器或傳送機構(gòu)，以沿著垂直方向移動散熱片。
[0012]本發(fā)明構(gòu)思的實施例提供了一種掩模制造裝置，其包括激光照射部件、平臺、框架、散熱片和傳熱介質(zhì)。傳熱介質(zhì)設(shè)置在陰影掩模材料和散熱片之間來接觸陰影掩模和散熱片。[0013]本發(fā)明構(gòu)思的實施例提供了一種制造掩模的方法，其包括:放置由框架支撐的陰影掩模材料；使陰影掩模材料與散熱片之間產(chǎn)生直接或間接的熱傳導(dǎo)；利用激光束在陰影掩模上形成圖案；通過散熱片將從陰影掩模產(chǎn)生的熱量釋放或散發(fā)。
[0014]根據(jù)上面所述，散熱片吸收從陰影掩模產(chǎn)生的熱并將吸收的熱排出到陰影掩模的周圍環(huán)境，因此可防止或抑制陰影掩模過熱。此外，照射到陰影掩模上的子激光束的強度可被提高，因而在陰影掩模上形成圖案所需要的時間可被縮短
[0015]進一步地，由于通過上述方法制造掩模，所以可防止陰影掩模過熱。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]通過參照下面在考慮結(jié)合附圖時進行的詳細描述，本公開的上述和其他優(yōu)點將會變得更加明顯，在附圖中:
[0017]圖1是示出根據(jù)本公開的示例性實施例的掩模制造裝置的透視圖。
[0018]圖2是示出圖1中所示的激光照射部件的框圖。
[0019]圖3是示出圖1中所示的陰影掩模、框架、散熱片和磁性材料的分解透視圖。
[0020]圖4是沿著圖3的線Ι-I'截取的剖視圖。
[0021]圖5是示出圖1中所示的陰影掩模的加工區(qū)域的視圖。
[0022]圖6是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的陰影掩模、上支架、框架、散熱片和磁性材料的分解透視圖。
[0023]圖7是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的陰影掩模、上支架、框架和散熱片升降器的分解立體圖。
[0024]圖8是沿著圖7的線Ι-i'截取的剖視圖。
[0025]圖9是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的掩模制造裝置的剖視圖。
[0026]圖10是示出根據(jù)本公開的另一示例性實施例的利用激光束制造掩模的方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0027]將理解的是，當(dāng)元件或?qū)颖幻枋鰹樵诹硪辉驅(qū)印吧稀?，或者被稱作“連接到”或“結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r，該元件或?qū)涌梢灾苯釉诹硪辉驅(qū)由匣蛑苯舆B接或結(jié)合到另一元件或?qū)樱蛘咭部梢源嬖谥虚g元件或中間層。相反，當(dāng)元件被稱作“直接在”另一元件或?qū)印吧稀被颉爸苯舆B接到”或“直接結(jié)合到”另一元件或?qū)訒r，不存在中間元件或中間層。相同的標(biāo)號始終表示相同的組件。如在這里使用的，術(shù)語“和/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項的任意組合和所有組合。
[0028]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語第一、第二等來描述各種元件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但是這些元件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅用于將一個元件、組件、區(qū)域、層或部分與另一個元件、組件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開來。因此，在不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下，下面討論的第一元件、組件、區(qū)域、層或部分可被命名為第二元件、組件、區(qū)域、層或部分。
[0029]可使用空間相對術(shù)語，如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“上面的”、
“在……上方”等，來描述如圖中所示的一個元件或特征與其它元件或特征的關(guān)系。將理解的是，空間 相對術(shù)語意在包含除了在附圖中描述的方位之外的裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附圖中裝置被翻轉(zhuǎn)，則描述為“在”其它元件或特征“下面”或“在”其它元件或特征“下方”的元件隨后將被定位為“在”其它元件或特征“上面”。因此，示例性術(shù)語“在……下面”可包括上面和下面兩種方位。所述裝置可被另外定位(旋轉(zhuǎn)90度或者在其它方位)，相應(yīng)地解釋這里使用的空間相對描述符。
[0030]這里使用的術(shù)語僅為了描述特定示例性實施例的目的，而不意圖限制本發(fā)明。如這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時，說明存在所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或附加一個或多個其它特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。
[0031]除非另有定義，否則這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科技術(shù)語)具有與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的一個普通技術(shù)人員所通常理解的意思相同的意思。還將理解的是，除非這里明確定義，否則諸如在通用的字典中定義的術(shù)語應(yīng)該被解釋為具有與相關(guān)領(lǐng)域的上下文中它們的意思一致的意思，而不應(yīng)理想地或者過于正式地解釋它們的意思。
[0032]以下，將參照附圖詳細地解釋本發(fā)明的實施例。
[0033]當(dāng)利用激光束工藝制造陰影掩模時，被激光束照射到其上的對象會產(chǎn)生熱量。在這種情況下，從對象邊緣產(chǎn)生的熱量會散發(fā)到物體的周圍環(huán)境中，但是從對象中心產(chǎn)生的熱量將難以散發(fā)出去。因此，在對象中心會出現(xiàn)過熱現(xiàn)象，且該過熱現(xiàn)象會引起缺陷，例如對象的熱變形。
[0034]圖1是示出根據(jù)本公開的示例性實施例的掩模制造裝置的透視圖，圖2是示出圖1中所示的激光照射部件的框圖，圖3是示出圖1中所示的陰影掩模、框架、散熱片和磁性材料的分解立體圖，圖4是沿著圖3的線Ι-I’截取的剖視圖。
[0035]參照圖1至圖4，掩模制造裝置1000包括激光照射部件或者激光照射器100、平臺(stage) 200、框架300、散熱片或?qū)崞?00和磁性材料500。
[0036]激光照射部件100包括激光產(chǎn)生部件或激光產(chǎn)生器110、衍射光學(xué)元件(DOE)透鏡120、光學(xué)系統(tǒng)130和掃描器140。
[0037]激光產(chǎn)生部件110產(chǎn)生具有預(yù)定強度和預(yù)定直徑的激光束。
[0038]DOE透鏡120將激光產(chǎn)生部件110發(fā)出的激光束分為多道子激光束。DOE透鏡120包括利用激光束的衍射現(xiàn)象將激光束分為子激光束的衍射光學(xué)元件。這些子激光束形成N乘M陣列構(gòu)造(“N”和“M”中的每個是自然數(shù))。
[0039]光學(xué)系統(tǒng)130減少子激光束之間的像差，以改善場曲。穿過光學(xué)系統(tǒng)130的子激光束被聚焦在平的陰影掩模SM上。
[0040]掃描器140會聚或聚集子激光束，以使子激光束垂直照射到陰影掩模SM的加工區(qū)域ARl上。掃描器140可包括聚焦透鏡、f- Θ透鏡或者f- Θ遠心透鏡。此外，掃描器140可以是電流掃描器(galvano scanner)。
[0041]陰影掩模SM布置在平臺200上。雖然沒有在附圖中示出，但是平臺200移動到第一方向DRl和第二方向DR2，以對齊陰影掩模SM，從而子激光束照射在陰影掩模SM的加工區(qū)域ARl上。
[0042]框架300設(shè)置在平臺200上來支撐陰影掩模SM?？蚣?00設(shè)置有貫穿其而形成的開口部0P，且包括四個側(cè)壁。也就是說，框架300具有矩形環(huán)形狀的邊緣。陰影掩模SM設(shè)置在框架300的上表面，框架300保持并支撐陰影掩模SM的邊緣。
[0043]在本示例性實施例中，陰影掩模SM可以是含有鐵、鎳和碳的合金，即殷鋼。陰影掩模SM被子激光束圖案化并用作掩模來沉積有機材料。陰影掩模SM的厚度等于或小于約100微米，以改善陰影掩模SM的精確度。
[0044]當(dāng)在平面圖中觀察時，散熱片400被設(shè)置成對應(yīng)于框架300的開口部0P。散熱片400被容納在框架300中，以使框架300和散熱片400之間出現(xiàn)臺階差。也就是說，在散熱片400的上表面和框架300的上表面之間存在臺階差Dl這么大的高度差。
[0045]散熱片400直接接觸陰影掩模SM。散熱片400吸收在激光燒蝕工藝中從陰影掩模SM的加工區(qū)域ARl產(chǎn)生的熱量并將該熱量排出到陰影掩模SM的外部，從而可以使陰影掩模SM的加工區(qū)域ARl免受過熱的影響。此外，因為可以使陰影掩模SM的加工區(qū)域ARl免受過熱的影響，所以照射到陰影掩模SM上的子激光束的強度可以被提高。結(jié)果，在陰影掩模SM上形成圖案所需要的時間就可以被縮短。
[0046]圖5是示出圖1中所示的陰影掩模的加工區(qū)域的視圖。
[0047]參照圖3至圖5，當(dāng)子激光束照射到加工區(qū)域ARl時，子激光束產(chǎn)生熱量。在這種情況下，從加工區(qū)域ARl的邊緣ARE產(chǎn)生的熱量被排出到陰影掩模SM的外部，但是從加工區(qū)域ARl的中心ARC產(chǎn)生的熱量沒有被排出到陰影掩模SM的外部。
[0048]散熱片400接觸陰影掩模SM的下部，以吸收從陰影掩模SM的邊緣ARE和中心ARC產(chǎn)生的熱量并將吸收的熱量排出到陰影掩模SM的外部。
[0049]散熱片400由具有高導(dǎo)熱性的金屬材料形成，例如金、銀、銅、鋁或者它們的合金。同時，散熱片400可具有上述金屬的單層結(jié)構(gòu)或者多層結(jié)構(gòu)。在本實施例中，散熱片400可具有明顯高于掩模材料的熱傳導(dǎo)率的熱傳導(dǎo)率。
[0050]再次參照圖1、圖3和圖4，具有板形狀的磁性材料500設(shè)置在散熱片400的下方。具有磁性材料500的板被容納在框架300中，且在其厚度方向上觀察時，具有磁性材料500的板被設(shè)置為對應(yīng)于框架300的開口部0P。磁性材料500設(shè)置在平臺200上，以支撐散熱片400。換句話說，當(dāng)將散熱片400插在磁性材料500與陰影掩模SM之間時，磁性材料500被布置為面對陰影掩模SM。
[0051]磁性材料500具有產(chǎn)生相對于陰影掩模SM的吸引力Fe的磁性。陰影掩模SM通過吸引力Fe而被附著并固定在散熱片400上。此外，由于吸引力Fe，陰影掩模SM可被拉緊，以獲得適用于圖案化工藝中的平整度。
[0052]磁性材料500可包括增大陰影掩模SM和磁性材料500之間產(chǎn)生的吸引力Fe的鐵磁材料，但磁性材料500不應(yīng)局限于鐵磁材料。在其他實施例中，磁性材料500可包括永磁材料。
[0053]圖6是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的陰影掩模、上支架、框架、散熱片和磁性材料的分解透視圖。
[0054]除上支架之外，根據(jù)圖6所示的本示例性實施例的掩模制造裝置包括與圖1至圖5中所示的掩模制造裝置的結(jié)構(gòu)和功能相同的結(jié)構(gòu)和功能。因此，將對上支架310進行詳細的描述。
[0055]根據(jù)本示例性實施例的掩模制造裝置進一步包括上支架310。[0056]當(dāng)將陰影掩模SM插在上支架310與框架300之間時，上支架310被設(shè)置為面對框架 300。
[0057]當(dāng)陰影掩模SM被拉緊時，上支架310將陰影掩模SM固定在框架300上。
[0058]上支架310可具有與框架300相同的矩形環(huán)形狀，但應(yīng)不限于此。上支架310可具有分別對應(yīng)于陰影掩模SM的兩邊的兩個條狀。
[0059]上支架310、陰影掩模SM和框架300彼此之間通過螺紋結(jié)合。具體而言，在通過將吸引力Fi施加到陰影掩模SM而使陰影掩模SM拉緊之后，螺釘PN結(jié)合到上支架319和框架300，以貫穿陰影掩模SM。一個或者多個螺釘PN被結(jié)合到陰影掩模SM的相互面對的兩條邊上。在圖6中，兩個螺釘PN結(jié)合到陰影掩模SM的每一條邊上。
[0060]根據(jù)另一實施例，通過上支架310和框架300的螺紋結(jié)合而首先拉緊陰影掩模SM，然后通過磁性材料500而再次拉緊陰影掩模SM。因此，陰影掩模SM可被牢固地固定到框架300并獲得平整度。
[0061]圖7是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的陰影掩模、上支架、框架、散熱片和散熱片升降器或者提升器的分解透視圖，而圖8是沿著圖7的線Ι-I'截取的剖視圖。[0062]根據(jù)圖7中所示的本示例性實施例的掩模制造裝置進一步包括散熱片升降器或者推動機構(gòu)，并且相比較于圖6中所示的掩模制造裝置，根據(jù)圖7中所示的本示例性實施例的掩模制造裝置將省去磁性材料。
[0063]根據(jù)本示例性實施例的掩模制造裝置進一步包括散熱片升降器410。
[0064]散熱片推動機構(gòu)(散熱片傳送部件)410連接到散熱片400，沿著垂直于散熱片400的表面的第三方向DR3移動散熱片400。盡管未在圖中不出，散熱片升降器或者推動機構(gòu)410包括連接到散熱片400下部的傳送軸以及用于使傳送軸旋轉(zhuǎn)的電動機。
[0065]散熱片推動機構(gòu)或者升降器沿著第三方向DR3向上移動散熱片400，以使散熱片400接觸到陰影掩模SM。此外，當(dāng)散熱片推動機構(gòu)410向上移動散熱片400時，陰影掩模SM被拉緊，以獲得適用于圖案化工藝中的平整度。
[0066]在圖6中所示的掩模制造裝置中，陰影掩模SM通過磁性材料500和陰影掩模SM之間產(chǎn)生的吸引力來接觸散熱片400。然而，盡管如參照圖7和圖8所描述的，掩模制造裝置機械地移動散熱片400，從而散熱片400接觸陰影掩模SM，但是陰影掩模SM可以獲得與圖6中所示的陰影掩模SM的拉緊效果和平整度相同的拉緊效果和平整度。
[0067]圖9是根據(jù)本公開的另一示例性實施例的掩模制造裝置的剖視圖。
[0068]根據(jù)圖9中所示的本示例性實施例的掩模制造裝置進一步包括傳熱介質(zhì)450，且與圖1至圖4所示的掩模制造裝置相比，根據(jù)圖9中所示的本示例性實施例的掩模制造裝置將磁性材料去除。
[0069]根據(jù)本示例性實施例的掩模制造裝置進一步包括傳熱介質(zhì)450。
[0070]傳熱介質(zhì)450收容在框架300中且設(shè)置在陰影掩模SM和散熱片400之間。傳熱介質(zhì)450具有附接在陰影掩模SM和散熱片400上的粘性。
[0071]傳熱介質(zhì)450能夠有效地將陰影掩模SM產(chǎn)生的熱傳導(dǎo)至散熱片400。此外，陰影掩模SM通過傳熱介質(zhì)450和陰影掩模SM之間的粘結(jié)力而拉緊，這是由傳熱介質(zhì)450的粘性所引起的，因此陰影掩模SM可獲得適用于圖案化工藝中的平整度。
[0072]傳熱介質(zhì)450可以是熱臘(thermowax)或?qū)釅|,但不應(yīng)被局限于此。也就是說，傳熱介質(zhì)450可由具有高導(dǎo)熱性、粘性等的各種材料形成。在實施例中，傳熱介質(zhì)450可以具有遠高于陰影掩模材料的熱傳導(dǎo)率的熱傳導(dǎo)率。
[0073]圖10是示出根據(jù)本公開的示例性實施例的利用激光束制造掩模的方法的流程圖。
[0074]參照圖10，將待處理的陰影掩模布置在框架上，使框架支撐陰影掩模(SI)。在這種情況下，利用螺紋或者夾緊單元將陰影掩模固定在框架上，但不應(yīng)被局限于此。也就是說，陰影掩?？杀徊贾迷诳蚣苌希瑥亩鴥H僅陰影掩模的邊緣被框架支撐。
[0075]然后，將陰影掩模直接或間接接觸散熱片(S2)。陰影掩模可通過下面的三種方法來接觸散熱片。
[0076]第一，如圖3和圖4中所示，磁性材料500被布置在散熱片400的下方。陰影掩模SM通過磁性材料500和陰影掩模SM之間產(chǎn)生的吸引力來直接接觸散熱片400。此外，陰影掩模SM通過吸引力而被拉緊，且獲得適用于圖案化工藝的平整度。
[0077]第二，如圖7和圖8中所示，通過操作散熱片傳送部件410，散熱片400沿著垂直于散熱片400的主表面的垂直方向向上移動。散熱片400在向上移動后直接與陰影掩模SM接觸。此外，通過利用散熱片傳送部件410移動散熱片400來使陰影掩模SM被拉緊且獲得平整度。
[0078]第三，如圖9中所示，陰影掩模片SM和散熱片400能夠通過設(shè)置在陰影掩模SM和散熱片400之間的傳熱介質(zhì)450來實現(xiàn)間接熱傳導(dǎo)。傳熱介質(zhì)450由具有粘性和高熱傳導(dǎo)率的熱蠟或者導(dǎo)熱墊形成。在本實施例中，傳熱介質(zhì)450可具有明顯高于掩模材料的熱傳導(dǎo)率的熱傳導(dǎo)率。
[0079]然后，利用激光束在陰影掩模上形成圖案(S3)。為此，使用DOE透鏡將激光束分為多道子激光束，子激光束照射到陰影掩模上。
[0080]在此之后，通過散熱片將從陰影掩模產(chǎn)生的熱排出到陰影掩模的外部(S4)。當(dāng)子激光束照射到陰影掩模上以在陰影掩模上形成圖案時，從陰影掩模產(chǎn)生熱。通過散熱片直接或者間接接觸陰影掩模來將從陰影掩模產(chǎn)生的熱排出到陰影掩模的外部。
[0081]盡管已經(jīng)描述了本發(fā)明的示例性實施例，但是應(yīng)該理解，本發(fā)明不應(yīng)被局限于這些示例性實施例，而是在權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以對其進行各種改變和修飾。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模制造裝置，包括: 平臺； 激光束照射器，被構(gòu)造為將激光束分為多道子激光束且進一步被構(gòu)造為將多道子激光束朝向平臺照射，以使多道子激光束照射到將要被放置在平臺上的陰影掩模材料上； 框架，設(shè)置在平臺上且被構(gòu)造為支撐陰影掩模材料； 散熱片，放置在平臺上； 其中，所述掩模制造裝置被構(gòu)造為使散熱片接觸陰影掩模材料，從而散熱片吸收從陰影掩模材料產(chǎn)生的熱并將該熱散發(fā)到陰影掩模材料的周圍環(huán)境中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模制造裝置，其中，所述激光束照射器包括: 激光束產(chǎn)生器，被構(gòu)造為產(chǎn)生激光束； 衍射光學(xué)元件透鏡，被構(gòu)造為將激光束分為多道子激光束； 掃描器，被構(gòu)造為會聚多道子激光束且進一步被構(gòu)造為照射所述多道子激光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模制造裝置，其中，所述激光束照射器進一步包括: 光學(xué)系統(tǒng)，被構(gòu)造為減 少多道子激光束之間的像差。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模制造裝置，其中，所述散熱片包括從由金、銀、銅、鋁和它們的合金構(gòu)成的組中選擇的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模制造裝置，其中，所述框架包括矩形形狀的邊緣，該邊緣限定開口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模制造裝置，其中，所述散熱片容納在框架中且與陰影掩模材料的下部接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模制造裝置，其中，所述邊緣的頂表面具有與散熱片的頂表面不同的高度，以在散熱片與框架之間形成臺階。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模制造裝置，進一步包括容納在框架中的磁性材料片，其中，在陰影掩模材料被放置到平臺上時，散熱片被插在磁性材料片和陰影掩模材料之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模制造裝置，進一步包括: 支架，被構(gòu)造為固定到框架上且進一步被構(gòu)造為在支架固定到框架上時支撐陰影掩模材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模制造裝置，其中，所述支架、陰影掩模材料和框架通過利用螺紋來彼此結(jié)合。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模制造裝置，進一步包括: 升降器，被構(gòu)造為沿著垂直方向移動散熱片。
12.一種掩模制造裝置，包括: 平臺； 激光束照射器，被構(gòu)造為將激光束分為多道子激光束且進一步被構(gòu)造為將所述多道子激光束朝向平臺照射，以使所述多道子激光束照射到被放置在平臺上的陰影掩模材料；框架，被布置在平臺上且被構(gòu)造為支撐陰影掩模材料； 散熱片，被布置在平臺上；以及 傳熱介質(zhì)，被布置在散熱片上且被構(gòu)造為在陰影掩模材料被框架支撐時接觸陰影掩模材料和散熱片，以使散熱片吸收從陰影掩模產(chǎn)生的熱并將該熱散發(fā)到陰影掩模材料的周圍環(huán)境。
13.根據(jù)權(quán)利要求12 所述的掩模制造裝置，其中，所述傳熱介質(zhì)具有粘性。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的掩模制造裝置，其中，所述傳熱介質(zhì)包括熱蠟或者導(dǎo)熱墊。
【文檔編號】B23K26/02GK103962719SQ201410026058
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年1月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月1日
【發(fā)明者】李道炯, 趙俊豪 申請人:三星顯示有限公司