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一種離合器機殼延展臂底座鉆孔裝置的制作方法

文檔序號:12329934閱讀:350來源:國知局

本發(fā)明屬于機械加工技術領域,尤其涉及一種離合器機殼延展臂底座鉆孔裝置。



背景技術:

用鉆頭在實體材料上加工孔叫鉆孔,各種零件的孔加工,除去一部分由車、等機床完成外,很大一部分是由鉗工利用鉆床和鉆孔工具完成的。在鉆床上鉆孔時,一般情況下,鉆頭應同時完成兩個運動;主運動,即鉆頭繞軸線的旋轉(zhuǎn)運動;輔助運動,即鉆頭沿著軸線方向?qū)χぜ闹本€運動,鉆孔時,主要由于鉆頭結構上存在的缺點,影響加工質(zhì)量,加工精度一般在IT10級以下,表面粗糙度為Ra12.5μm左右、屬粗加工。鉆孔起始部位稱孔口,側部稱孔壁,底部稱孔底。鉆孔的直徑D簡稱孔徑,孔口直徑稱開孔口徑,孔底直徑稱終孔直徑,從孔口至孔底的距離H稱鉆孔深度,簡稱孔深,鉆孔的某一段稱孔段。鉆孔的位置精度的控制,實質(zhì)上是鉆削過程中鉆頭與工件的相互正確位置控制過程。為了考核操作者的操作技能,要求鉆孔時孔的位置調(diào)整只能是手工、動態(tài)控制過程,不允許使用鉆模以及其他夾具,因此孔的位置精度受到劃線、機床精度、工件和鉆頭的裝夾、鉆頭刃磨質(zhì)量、工件位置及機床切削用量的調(diào)整等一些不確定因素的影響,再加上要有一定的加工技巧和必要的保證措施,才能達到孔的位置精度要求較高。目前實際應用的鉆孔裝置只能加工厚度不太大的部件,如果部件厚度較大,則需要先加工一面,然后將物料倒置,再加工另一面,操作十分繁瑣。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明提供及一種離合器機殼延展臂底座鉆孔裝置,以解決上述背景技術中提出的加工厚度較大部件操作繁瑣的問題。

本發(fā)明所解決的技術問題采用以下技術方案來實現(xiàn):本發(fā)明提供及一種離合器機殼延展臂底座鉆孔裝置,其特征在于:包括底座,所述底座上設置有底部移動氣缸,所述底部移動氣缸連接有底部移動連接桿,所述底部移動連接桿連接有底部加工電機,所述底部加工電機頂部設有底部鉆軸,所述底部鉆軸的上方設有被加工底座,所述底座上還設有第一支撐架、第二支撐架,所述第一支撐架的側面設有第一上限位板、第一下限位板,所述第二支撐架的側面設有第二上限位板、第二下限位板,所述被加工底座的一端位于第一上限位板、第一下限位板之間,另一端位于第二上限位板、第二下限位板之間,所述第一支撐架、第二支撐架上面設有支撐板,所述支撐板上設有頂部移動氣缸,所述頂部移動氣缸連接有頂部移動連接桿,所述頂部移動連接桿連接有頂部加工電機,所述頂部加工電機的底端設有頂部鉆軸,所述頂部鉆軸位于被加工底座的上方,所述支撐板設有通槽,所述頂部鉆軸穿過通槽,所述通槽的長度與被加工底座等長。

所述第一支撐架、第二支撐架等長。

所述第一支撐架、第二支撐架對稱設置。

本發(fā)明的有益效果為:

本技術方案通過在底座的上方和下方均設置電機,可以同時對底座進行鉆孔加工,節(jié)省操作步驟,提高工作效率,限位板的設置主要對底座起固定作用,支撐板的設置主要對電機起支撐作用,通槽的作用可以使頂部鉆軸在通槽內(nèi)移動。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本發(fā)明做進一步描述:

圖中:1-底座,2-底部移動氣缸,3-底部移動連接桿,4-底部加工電機,5-底部鉆軸,6-第一支撐架,7-第二支撐架,8-第一上限位板,9-第一下限位板,10-第二上限位板,11-第二下限位板,12-被加工底座,13-支撐板,14-頂部移動氣缸,15-頂部移動連接桿,16-頂部加工電機,17-頂部鉆軸,18-通槽。

本實施例包括底座1,底座1上設置有底部移動氣缸2,底部移動氣缸2連接有底部移動連接桿3,底部移動連接桿3連接有底部加工電機4,底部加工電機4頂部設有底部鉆軸5,底部鉆軸5的上方設有被加工底座12,底座1上還設有第一支撐架6、第二支撐架7,第一支撐架6的側面設有第一上限位板8、第一下限位板9,第二支撐架7的側面設有第二上限位板10、第二下限位板11,被加工底座12的一端位于第一上限位板8、第一下限位板9之間,另一端位于第二上限位板10、第二下限位板11之間,第一支撐架6、第二支撐架7上面設有支撐板13,支撐板13上設有頂部移動氣缸14,頂部移動氣缸14連接有頂部移動連接桿15,頂部移動連接桿15連接有頂部加工電機16,頂部加工電機16的底端設有頂部鉆軸17,頂部鉆軸17位于被加工底座12的上方,支撐板13設有通槽18,頂部鉆軸17穿過通槽18,通槽18的長度與被加工底座12等長。

第一支撐架6、第二支撐架7等長。

第一支撐架6、第二支撐架7對稱設置。

利用本發(fā)明所述的技術方案,或本領域的技術人員在本發(fā)明技術方案的啟發(fā)下,設計出類似的技術方案,而達到上述技術效果的,均是落入本發(fā)明的保護范圍。

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