1.一種用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：包括反光板矩形框架(1)，所述反光板矩形框架(1)上設(shè)置有反光板(2)，所述反光板(2)上依次鍍有反光層(3)、折射層(4)、保護(hù)層(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述反光板(2)為鋁合金反光板、不銹鋼反光板、鋼化玻璃反光板中的任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述反光層(3)為高純銀反光層、高純鋁反光層中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述折射層(4)為二氧化硅折射層、氟化鎂折射層、鈦氧化物折射層中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述保護(hù)層(5)為氟碳保護(hù)層、聚氨酯保護(hù)層、丙烯酸保護(hù)層、有機(jī)硅漆保護(hù)層中的任意一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述反光層(3)、折射層(4)、保護(hù)層(5)鍍覆在反光板(2)上的鍍膜方法包括如下步驟：
S1，清洗，先將反光板(2)進(jìn)行超聲波清洗，清洗后將反光板(2)進(jìn)行烘干，烘干后將反光板(2)置入到真空室內(nèi)抽真空；
S2，鍍膜預(yù)處理，在真空室內(nèi)充入氧氣，然后采用射頻電源進(jìn)行等離子親水處理，親水處理時(shí)間為25秒-30秒；
S3，鍍制反光層，親水處理完畢后，采用真空鍍將反光層(3)鍍制在反光板(2)上，獲得反光層(3)鍍好的反光板(2)；
S4，鍍制折射層，反光層(3)鍍制完成后，再次通入氧氣，然后采用真空鍍將折射層(4)鍍制在反光層(3)上，獲得折射層(4)鍍好的反光板(2)；
S5，鍍制保護(hù)層，將折射層(4)鍍好的反光板(2)取出，然后采用噴鍍將保護(hù)層(5)鍍制在折射層(4)上，保護(hù)層(5)鍍制完成后，獲得鍍膜完成的反光板(2)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述反光層(3)的厚度為5微米-25微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述折射層(4)的厚度為3微米-20微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于中高溫太陽(yáng)能系統(tǒng)的聚光器，其特征在于：所述保護(hù)層(5)的厚度為1微米-30微米。