相關(guān)申請本申請要求享有2016年4月11日提交的且名稱為“用于等離子弧割炬的消耗品（consumablesforplasmaarctorch）”的美國臨時專利申請no.62/320,935的權(quán)益。本申請還要求享有2015年8月4日提交的且名稱為“液體冷卻筒（liquidcooledcartridge）”的美國臨時專利申請no.62/200,913的權(quán)益。本申請還要求享有2016年6月9日提交的且名稱為“防護罩旋流器中的計量孔（meteringholesintheshieldswirler）”的美國臨時專利申請no.62/347,856的權(quán)益。這些申請的全部內(nèi)容通過引用被并入本文。本發(fā)明一般地涉及等離子弧切割系統(tǒng)和過程的領(lǐng)域。更具體地，本發(fā)明涉及改進的消耗性部件和操作方法以實現(xiàn)一致的切割質(zhì)量。
背景技術(shù)：
：等離子弧割炬（torch）廣泛用于材料的切割和標記。等離子弧割炬通常包括安裝在割炬主體內(nèi)的具有中心出口孔口的噴嘴和電極、電連接、用于冷卻流體（例如，水）的路徑以及用于弧控制流體（例如，等離子氣體）的路徑。割炬產(chǎn)生等離子弧，即具有高溫和高動量的氣體的壓縮電離射流。割炬中所使用的氣體可以是非反應(yīng)性的（例如，氬氣或氮氣）或是反應(yīng)性的（例如，氧氣或空氣）。在操作期間，首先在電極（陰極）和噴嘴（陽極）之間產(chǎn)生維?。╬ilotarc）。維弧的產(chǎn)生可借助于聯(lián)接到直流功率源和割炬的高頻、高電壓信號或者借助于各種接觸啟動方法中的任何一種。在流體注射等離子系統(tǒng)中，切割質(zhì)量（例如，角度、毛刺（dross）和邊緣顏色（edgecolor）的質(zhì)量）對防護流體的流速敏感。防護液體的流速可由于不同的原因而變化，例如當流體選擇控制臺（fluidselectionconsole）的高度相對于割炬改變時。在一些其中水是防護液體的情況下，對于每線性英尺的高度改變，流體流速可每小時改變高達0.5加侖。此類變化進而可導致切割質(zhì)量上的顯著變化。所需要的是一種等離子弧切割系統(tǒng)，其對系統(tǒng)的外部壓力改變（例如，由流體選擇控制臺的高度改變引起的外部壓力改變）不敏感，由此確保一致的切割質(zhì)量。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明涉及用于在等離子弧切割系統(tǒng)中建立在防護流體流速方面的改進的穩(wěn)定性的系統(tǒng)和方法。防護罩設(shè)置有包括兩組端口（例如，計量孔和旋流孔）的插入件（例如，“液體注射調(diào)節(jié)部件”），以使得單個消耗性部件既被用于計量（meter）防護液體也被用于使防護液體產(chǎn)生旋流（swirl）（或分配防護液體）。如在本申請中所使用的，“旋流孔”應(yīng)被理解為是指影響氣體的分配的任何孔，包括但不限于通過使等離子割炬中的氣體產(chǎn)生旋流來影響氣體的分配。如下面所闡述的，在某些實施例中，計量孔使得恒定的霧化“霧”壓力能夠供給旋流孔，這進而使得等離子體系統(tǒng)對流體選擇控制臺（fluidselectionconsole）的高度改變不敏感。結(jié)果是獲得一種無論流體選擇控制臺相對于割炬的位置（例如高度）情況均確?？煽康?、可重復的切割的系統(tǒng)。出于比較的目的，用于等離子弧割炬系統(tǒng)中的水系統(tǒng)的典型設(shè)計可能使用大約5-6psi的控制壓力，在假設(shè)壓力選擇控制臺和割炬之間沒有高度改變的情況下，該控制壓力能夠足以維持跨過不同旋流孔幾何形狀的例如大約4-5加侖每小時的防護水流速。然而，在本發(fā)明的一些實施例中，可以在流體選擇模塊（例如，下面在圖1中示出和描述的氣體連接模塊104）中應(yīng)用更大的流體設(shè)定壓力（例如，25-30psi），流體設(shè)定壓力進而會在跨過計量孔時大大減小。在一些實施例中，壓降大到有利地使得系統(tǒng)對由流體選擇控制臺和計量控制臺之間的高度差導致的小的壓力改變基本上無反應(yīng)。在一個方面中，本發(fā)明的特征在于用于等離子割炬的液體注射防護罩。所述防護罩包括具有外表面和內(nèi)表面的主體。所述防護罩還包括液體注射調(diào)節(jié)部件，液體注射調(diào)節(jié)部件周向地設(shè)置在主體的內(nèi)表面內(nèi)并且與主體的內(nèi)表面直接接觸。液體注射調(diào)節(jié)部件和主體的內(nèi)表面限定腔室（例如，“霧化”腔室）。液體注射調(diào)節(jié)部件限定第一組端口（例如，“計量”孔）并且限定第二組端口（例如，“旋流”孔），第一組端口的尺寸被設(shè)計成調(diào)節(jié)進入腔室的液體，第二組端口被定向成分配離開腔室的流體。在一些實施例中，所述端口被定向成向離開腔室的流體施加旋流。在一些實施例中，液體注射調(diào)節(jié)部件包括絕緣體材料。在一些實施例中，第一組端口中的每個端口小于第二組端口中的每個端口。在一些實施例中，第一組端口的總截面流動面積小于第二組端口的總截面流動面積。在一些實施例中，第一組端口與主體的內(nèi)表面中的腔室對準。在一些實施例中，第一組端口被配置成允許從大約2加侖每小時到大約8加侖每小時的流體流速的范圍。在一些實施例中，第一組端口被配置成使流體壓力減小近似25psi。在一些實施例中，液體注射調(diào)節(jié)部件被模制。在一些實施例中，液體注射調(diào)節(jié)部件是l形的。在一些實施例中，第一組端口被定向成與第二組端口成直角。在一些實施例中，腔室被配置成使用進入腔室的液體進行霧化或形成細霧。在一些實施例中，霧化的霧可以是水微粒的噴霧或集合，然而可以替代地使用氣體或除了水之外使用還使用氣體。在一些實施例中，離開腔室的流體是氣體、水或水霧。在一些實施例中，液體注射調(diào)節(jié)部件包括兩個分開的子部件，第一子部件具有第一組端口并且第二子部件具有第二組端口。在另一方面中，本發(fā)明的特征在于調(diào)節(jié)等離子弧割炬防護罩中液體注射過程的方法。該方法包括提供防護罩，防護罩具有出口孔口、內(nèi)表面以及外表面，外表面被配置成暴露于熔融飛濺物。所述方法還包括將液體供應(yīng)到防護罩的內(nèi)表面。所述方法還包括引導液體穿過一組計量孔進入腔室。計量孔引發(fā)液體的壓降。所述方法還包括引導液體穿過一組旋流孔到腔室外朝向出口孔口。在一些實施例中，一組計量孔中的每個孔均小于一組旋流孔中的每個孔。在一些實施例中，一組計量孔的總截面面積小于一組旋流孔的總截面面積。在一些實施例中，計量孔被配置成允許從大約2加侖每小時到大約8加侖每小時的流體流速范圍。在一些實施例中，計量孔被配置成使流體流動壓力減小近似25psi。在一些實施例中，液體以與液體穿過旋流孔的路徑成直角的方式被引導穿過一組計量孔。在一些實施例中，腔室被配置成使用進入腔室的液體進行霧化或形成細霧。在另一方面中，本發(fā)明的特征在于用于等離子弧割炬的防護罩。所述防護罩包括具有外表面和內(nèi)表面的主體，內(nèi)表面限定第一凹部。防護罩還包括限定第二凹部的流體調(diào)節(jié)部件，流體調(diào)節(jié)部件周向地設(shè)置在主體的內(nèi)表面內(nèi)。主體的第一凹部和流體調(diào)節(jié)部件的第二凹部限定具有入口孔和出口孔的中空區(qū)域。入口孔被配置成調(diào)節(jié)進入空腔的液體，并且出口孔被配置成向離開空腔的液體施加旋流。在一些實施例中，入口孔被定向成與出口孔成直角。附圖說明當結(jié)合附圖從以下對本發(fā)明的詳細描述中將更容易地理解前述討論。圖1是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的用于等離子割炬系統(tǒng)的流體流動系統(tǒng)的示意圖。圖2a是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的用于等離子割炬的消耗性疊層構(gòu)造（stackup）的截面圖示，該消耗性疊層構(gòu)造不利用防護罩插入件中的計量孔。圖2b是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的圖2a中所示的截面圖的放大圖示。圖2c是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的具有插入件的單獨的防護罩的等軸測圖示。圖3a是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的等離子割炬的截面圖的特寫圖示，該等離子割炬具有包括計量孔和旋流孔的防護罩插入件。圖3b是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的具有插入件的單獨的防護罩的等軸測圖示。圖4是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的調(diào)節(jié)等離子弧割炬防護罩中的液體注射過程的方法的示意圖。具體實施方式圖1是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的用于等離子割炬系統(tǒng)的流體流動系統(tǒng)100的示意圖。流體流動系統(tǒng)100包括自動流體選擇或“氣體連接”模塊104、“割炬連接”模塊108、插座112以及等離子割炬116。氣體連接模塊104例如通過如下方式來控制流體注射過程：為某些氣體（例如，f5，燃料氣體）和用于水注射過程的水建立該系統(tǒng)的流體設(shè)定壓力。氣體連接模塊104還設(shè)定某些氣體通過該氣體連接模塊104的路徑。氣體連接模塊104經(jīng)由流體管線106連接到割炬連接模塊108。割炬連接模塊108控制用于某些氣體（例如，o2、n2）的注射壓力，并且設(shè)定使某些流體（例如，燃料氣體、水）通過割炬連接模塊108到插座112和割炬116的路徑。如所示出的，氣體連接模塊104可距離火炬連接模塊108遠達15米并且距離插座112和割炬116遠達19.5米。另外地，氣體連接模塊104可相對于割炬116放置在不同的高度處。割炬連接模塊108經(jīng)由防護管線110連接到插座112和割炬116。防護管線110中的流體流速可取決于割炬116和氣體連接模塊104之間的相對高度而變化。另外地，割炬連接模塊的相對位置會基于其相對于氣體連接模塊和割炬的相對位置引入另外的可變壓力改變。例如，如果割炬116定位在氣體連接模塊104的下方，則水的流速會增大。插座112負責將割炬聯(lián)接到導線（lead），并且在一些實施例中經(jīng)由“快速斷開（quickdisconnect）”特征（未示出）連接到割炬116。圖2a是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的用于等離子割炬的消耗性疊層構(gòu)造200的截面圖示，消耗性疊層構(gòu)造200不利用防護罩插入件中的計量孔，而圖2b是圖2a中所示的截面圖的放大圖示。為了易于解釋，使用相同的附圖標記來同時描述圖2a和2b。消耗性疊層構(gòu)造200包括防護罩204，防護罩插入件208和噴嘴保持蓋212。在該消耗性疊層構(gòu)造200中，防護流體流動穿過噴嘴保持蓋212中的一組端口（例如，端口216）并且通過流體通路236流出。雖然僅繪出了一個端口216，但是噴嘴保持蓋212包括若干在截面中不可見的類似端口，并且此類端口被統(tǒng)一描述為“端口216”。另外地，防護流體的流體流動路徑220。在一些實施例中，圖2a-2b中所示的配置與氣態(tài)防護流體（例如空氣或n2）結(jié)合使用。如圖2b中可看出的，在操作期間，防護流體沿著路徑220流動穿過端口216。端口216幫助在操作期間例如基于它們的截面面積來計量防護流體流量。防護流體然后沖擊在防護罩204的內(nèi)部上的傾斜或有角度的表面224上。傾斜或有角度的表面224幫助在流體離開路徑220之后確保均勻的壓力。傾斜或有角度的表面224還幫助將防護罩插入件208捕獲在防護罩204內(nèi)。然后，防護流體沿著路徑220繼續(xù)進入到形成在防護罩204和防護罩插入件208之間的開口或通道228中。如所繪出的，該開口或通道228具有急轉(zhuǎn)的曲線組成的形狀，然而在實踐中可以是若干種形狀。流體然后流動穿過防護罩插入件208中的一組旋流孔（例如，旋流孔232）。旋流孔232向防護流體施加流體旋流模式。離開旋流孔232的防護流體在流體通路236中繼續(xù)并離開割炬朝向工件（未示出）。圖2c是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的具有插入件408的單獨的防護罩404（諸如上面聯(lián)系圖2a-2b示出和描述的防護罩204）的等軸測圖示400。圖2c示出了意圖與防護氣體一起使用的防護罩404。防護罩404具有外表面405、內(nèi)表面406以及插入件408，插入件408具有一組旋流孔412。在一些實施例中，消耗性疊層構(gòu)造200可以被用在300a系統(tǒng)中，然而類似的疊層構(gòu)造可適用于不同的系統(tǒng)，例如170a、130a或80a。如果這個實施例被示出為消耗性堆疊200與例如水的防護流體一起使用，則氣體連接模塊（例如，上面在圖1中示出和描述的氣體連接模塊104）處的流體設(shè)定壓力可以在3-8psi范圍內(nèi)實現(xiàn)每小時1-8加侖。在一些實施例中，這個壓力設(shè)定點可能會是不期望地低的，因為噴嘴保持蓋計量端口240的尺寸通常是為了計量氣體流量而不是水流量而設(shè)計。在一些實施例中，伴隨控制點和割炬之間的高度改變的壓力改變可與壓力設(shè)定本身相當。因此，高度的小改變會導致水穿過防護罩的流速的劇烈改變，這進而會影響切割質(zhì)量（在一些情況下嚴重影響切割質(zhì)量）。圖3a是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的等離子割炬300的截面圖的特寫圖示，等離子割炬300具有包括計量孔350和旋流孔332的防護罩插入件（例如，液體注射調(diào)節(jié)部件）308。等離子割炬300包括防護罩304（例如，“液體注射防護罩”）、防護罩插入件308（例如，“液體注射調(diào)節(jié)部件”）以及噴嘴保持蓋312，防護罩主體具有外表面305和內(nèi)表面306，防護罩插入件308周向地設(shè)置在防護罩304的內(nèi)表面306內(nèi)并且與防護罩304的內(nèi)表面306直接接觸。該設(shè)置類似于上面在圖2a-2b中所示出和描述的設(shè)置，但是包括若干區(qū)別。例如，在該設(shè)計中，防護罩304和防護罩插入件308限定腔室354，腔室354用于保持霧化的防護霧，該霧化的防護霧使得流體壓力穩(wěn)定化能夠?qū)崿F(xiàn)。插入件的第一組端口（計量孔）350幫助控制割炬300內(nèi)的防護流體流速，并且插入件的第二組端口（旋流孔）332幫助向防護流體施加旋流模式。要注意的是，在圖3a中，只有單個計量孔350和單個旋流孔332是可見的，但是防護罩插入件312通常具有若干計量孔和若干旋流孔。如可看到的，計量孔350和旋流孔332還分別用作腔室354的入口和出口通路。在操作期間，流體沿著流體流動路徑320在割炬300的噴嘴保持蓋312中的孔洞316內(nèi)流動，并且沖擊在防護罩插入件350上。防護流體的一部分沖擊在計量孔350上并被允許進入腔室354。進入腔室354的流體沖擊在表面358上，該表面358使流體流散射（scatter），并且形成收集在腔室354中并在在腔室354中加壓的流體微粒的細“霧”（經(jīng)由“霧化”過程）。在一些實施例中，跨過計量孔350在防護流體中發(fā)生的大的壓降（例如，大約25psi）。然后，腔室354中的流體霧經(jīng)由旋流孔332離開腔室354并進入流體流動路徑336，流體流動路徑336通到割炬300外并且通到工件（未示出）上。對于氣體連接模塊104和割炬116之間的多個高度差，離開旋流孔332的流體霧可以是均勻的壓力，例如5-6psi。在一些實施例中，防護罩插入件308由恰好定位在表面358的上方的豎直表面360軸向地保持就位。在一些實施例中，安放在豎直表面360上允許在防護罩插入件308和防護罩304之間形成密封，從而迫使防護水穿過計量孔350，而不允許防護水通過在防護罩插入件308和防護罩304之間通過而繞過計量孔350。在一些實施例中，計量孔350具有小于旋流孔332的總截面面積的總截面面積。在一些實施例中，計量孔350中的每個小于旋流孔中的每個。例如，在一個實施例中，存在五個具有0.0016平方英寸的總截面面積的計量孔以及18個具有0.0034平方英寸的總截面面積的旋流孔。在這個實施例中，跨過計量孔的壓降可以大約是18psi。在另一個實施例中，存在六個具有0.0015平方英寸的總截面面積的計量孔和18個具有0.0034平方英寸的總截面面積的旋流孔。在這個實施例中，跨過計量孔的壓降可以大約為20-25psi。在一些實施例中，旋流孔332是對流體流動限制性最小的孔，而計量孔350是限制性最大的。在一些情況下，如圖3a所示，存在將計量孔350保持成與旋流孔332成直角的l形凸緣，從而形成使流體直接流動穿過腔室354的可能性最小化的腔室354。在一些實施例中，腔室354的總體積可以大約是0.00291立方英寸（不包括計量孔和旋流孔的體積）。在一些實施例中，防護罩304由導電材料制成，例如銅。在一些實施例中，防護罩插入件308（或“液體注射調(diào)節(jié)部件”）由絕緣體制成，例如合適的塑料，諸如聚醚醚酮（peek）或聚酰亞胺（vespel）。在一些實施例中，防護罩插入件308被模制。在一些實施例中，氣體連接模塊（例如上面參照圖1示出和描述的氣體連接模塊104）與割炬300之間的流體的由于高度改變而引起的壓降幾乎比由于計量孔350引起的壓降小一整個數(shù)量級。因為通過計量孔350的這個大的壓降是已知的并且在控制壓力設(shè)定點中得以補償，所以由于高度改變而引起的任何不期望的壓降對總體的水流速具有極小的影響。在一些實施例中，防護罩插入件308包括兩個分開的部件（例如，包括計量孔350的第一環(huán)和包括旋流孔332的第二環(huán)）。在此類實施例中，單獨制造兩個分開的部件可能是更容易的。在一些實施例中，具有定制兩個分開的部件的能力可以幫助將流動設(shè)計微調(diào)至更高的精度。表1示出了不使用計量消耗品的等離子割炬系統(tǒng)中控制臺高度對流速的影響。進行了測試，在該測試中，等離子割炬系統(tǒng)被置于“切割流（cutflow）”狀態(tài)。在這個狀態(tài)下，不產(chǎn)生等離子，但是系統(tǒng)以所期望的設(shè)置輸送防護和等離子流體。在使氣體連接控制臺豎直地向上和向下移動的兩種情況下，監(jiān)視防護水流速。如預期的那樣，將控制臺保持在割炬高度之上導致更高的水流速，并且使其移動到割炬高度之下導致較低的水流速。相對于割炬的氣體連接高度水流速+2英尺5.2加侖每小時0英尺4.5加侖每小時-2英尺3.5加侖每小時分別地，使用具有計量孔的防護旋流器重復測試，所述計量孔例如依照圖3a中示出和描述的設(shè)計。在該設(shè)置中，在使氣體連接控制臺上下移位時，沒有檢測到流量的可辨別的變化。圖3b是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的具有插入件458的單獨的防護罩454的等軸測圖示450。圖3b示出了防護罩454，防護罩454意圖依照本發(fā)明的原理與水注射過程一起使用。防護罩454具有外表面455和內(nèi)表面456、插入件458以及多個旋流孔462。另外地，防護罩454具有多個計量孔466。與氣體防護罩（例如，防護罩404）相比，對于排放水注射（ventedwaterinjection）防護罩來說，防護罩454中的孔洞的直徑可以是更小的。例如，在使用170a系統(tǒng)的一個實施例中，在170a系統(tǒng)中，使用氮氣作為防護，防護罩孔洞直徑可以大約為0.155英寸。相比之下，在依照本發(fā)明使用排放水注射過程的170a系統(tǒng)中，防護罩孔洞直徑可以大約為0.140英寸。在此類實施例中，防護罩中的電流密度可以大約為11,043安每平方英寸，其高于對應(yīng)的氮氣的情況，對應(yīng)的氮氣的情況可以實現(xiàn)大約9,009安每平方英寸。另外地，與氣體防護罩412的旋流孔相比，用于排放水注射防護罩454的旋流孔462在直徑上可以是更小的。圖4是根據(jù)本發(fā)明的說明性實施例的調(diào)節(jié)等離子弧割炬防護罩中的液體注射過程的方法500的示意圖。方法500包括如下的第一步驟510：提供防護罩，防護罩具有出口孔口、內(nèi)表面和外表面，外表面被配置成暴露于熔融飛濺物。方法500包括如下的第二步驟520：將液體供應(yīng)到防護罩的內(nèi)表面。方法500包括如下的第三步驟530：引導液體通過一組計量孔進入腔室，其中，計量孔引發(fā)液體的壓降。方法500包括如下的第四步驟540：引導液體穿過一組旋流孔到腔室外朝向出口孔口。方法500允許等離子弧切割系統(tǒng)對流體選擇控制臺的高度改變不敏感，并且能夠幫助確保一致且高質(zhì)量的切割，例如當結(jié)合本文所示出和描述的系統(tǒng)來使用時。雖然已經(jīng)參考具體的優(yōu)選實施例具體地示出和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當理解的是，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以在其中作出各種形式上和細節(jié)上的改變，本發(fā)明的精神和范圍如由所附權(quán)利要求來限定。權(quán)利要求書(按照條約第19條的修改)1.一種用于等離子割炬的液體注射防護罩，所述防護罩包括：主體，所述主體具有外表面和內(nèi)表面;以及液體注射調(diào)節(jié)部件，所述液體注射調(diào)節(jié)部件周向地設(shè)置在所述主體的內(nèi)表面內(nèi)并且與所述主體的內(nèi)表面直接接觸，所述液體注射調(diào)節(jié)部件和所述主體的內(nèi)表面限定腔室，所述液體注射調(diào)節(jié)部件限定第一組端口并且限定第二組端口，所述第一組端口被包括在所述液體注射調(diào)節(jié)部件內(nèi)并且所述第一組端口的尺寸被設(shè)計成調(diào)節(jié)進入所述腔室的液體，所述第二組端口被包括在所述液體注射調(diào)節(jié)部件內(nèi)并且所述第二組端口被定向成分配離開所述腔室的流體。2.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述端口被定向成向離開所述腔室的所述流體施加旋流。3.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述液體注射調(diào)節(jié)部件包括絕緣體材料。4.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述第一組端口中的每個端口小于所述第二組端口中的每個端口。5.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述第一組端口的總截面流動面積小于所述第二組端口的總截面流動面積。6.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中,所述第一組端口與所述主體的內(nèi)表面中的腔室對準。7.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中,所述第一組端口被配置成允許從大約2加侖每小時到大約8加侖每小時的流體流速范圍。8.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述第一組端口被配置成使流體壓力減小近似25psi。9.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述液體注射調(diào)節(jié)部件被模制。10.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述液體注射調(diào)節(jié)部件是l形的。11.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述第一組端口被定向成與所述第二組端口成直角。12.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述腔室被配置成使用進入所述腔室的液體進行霧化或形成細霧。13.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，離開所述腔室的流體是氣體、水或水霧。14.如權(quán)利要求1所述的防護罩，其中，所述液體注射調(diào)節(jié)部件包括兩個分開的子部件，所述第一子部件具有所述第一組端口并且所述第二子部件具有所述第二組端口。15.一種調(diào)節(jié)等離子弧割炬防護罩中液體注射過程的方法，所述方法包括：提供防護罩，所述防護罩具有出口孔口、內(nèi)表面、以及外表面，外表面被配置成暴露于熔融飛濺物；將液體供應(yīng)到所述防護罩的內(nèi)表面;引導所述液體穿過一組計量孔進入腔室，其中，所述計量孔引發(fā)所述液體的壓降;以及引導所述液體穿過一組旋流孔到所述腔室外朝向出口孔口。16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述一組計量孔中的每個孔小于所述一組旋流孔中的每個孔。17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述一組計量孔的總截面面積小于所述一組旋流孔的總截面面積。18.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述計量孔被配置成允許從大約2加侖每小時到大約8加侖每小時的流體流速范圍。19.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述計量孔被配置成使流體流動壓力減小近似25psi。20.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述液體以與所述液體穿過所述旋流孔的路徑成直角的方式被引導穿過所述一組計量孔。21.如權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述腔室被配置成使用進入所述腔室的液體進行霧化或形成細霧。22.一種用于等離子弧割炬的防護罩，包括：主體，所述主體具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面限定第一凹部;以及單體的流體調(diào)節(jié)部件，所述流體調(diào)節(jié)部件限定第二凹部，所述流體調(diào)節(jié)部件周向地設(shè)置在所述主體的內(nèi)表面內(nèi)，其中，所述主體的第一凹部和所述流體調(diào)節(jié)部件的第二凹部限定具有入口孔和出口孔的中空區(qū)域，其中，所述入口孔被配置成調(diào)節(jié)進入所述空腔的液體，并且所述出口孔被配置成向離開所述空腔的液體施加旋流，以及其中，所述入口孔被定向成與所述出口孔成直角，以使得所述流體調(diào)節(jié)部件的截面形成l形。23.如權(quán)利要求22所述的防護罩，其中，所述入口孔被定向成與所述出口孔成直角。當前第1頁12