技術(shù)特征：

1.一種基于激光沖擊波的薄膜元件力學(xué)性能后處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)采用電子束蒸發(fā)鍍制一批光學(xué)薄膜元件；任意選取一個(gè)光學(xué)薄膜元件作為被測(cè)樣品，測(cè)量被測(cè)樣品的殘余應(yīng)力R₀、膜層與基底的臨界附著力A₀、膜層臨界界面結(jié)合力B₀和硬度H₀；

(2)在被測(cè)樣品上選擇200個(gè)測(cè)試點(diǎn)，每20個(gè)測(cè)試點(diǎn)作為一個(gè)測(cè)試組；并選取10個(gè)不同的激光能量，作為10個(gè)測(cè)試組分別對(duì)應(yīng)的激光能量，每個(gè)測(cè)試組內(nèi)的所有測(cè)試點(diǎn)對(duì)應(yīng)的激光能量相同；設(shè)定每個(gè)測(cè)試點(diǎn)的輻照脈沖數(shù)目均為N₁，采用泵浦激光以選定的激光能量依次輻照被測(cè)樣品上的測(cè)試點(diǎn)，并通過(guò)在線(xiàn)監(jiān)控系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)泵浦激光輻照被測(cè)樣品的位置來(lái)檢測(cè)損傷的發(fā)生和生長(zhǎng)，獲得被測(cè)樣品在不同能量下的初始損傷幾率和該脈沖數(shù)目下的損傷生長(zhǎng)幾率；并通過(guò)線(xiàn)性擬合的方式獲得被測(cè)樣品在輻照脈沖數(shù)目N₁下的初始損傷閾值F₀₁以及損傷生長(zhǎng)閾值G₀₁；

(3)重新選取一個(gè)被測(cè)樣品，將測(cè)試點(diǎn)的輻照脈沖數(shù)目改為N_k，N_k≠N₁，按照步驟(2)的方法，獲得被測(cè)樣品在輻照脈沖數(shù)目N_k下的初始損傷閾值F_0k和損傷生長(zhǎng)閾值G_0k；

(4)重復(fù)執(zhí)行步驟(3)，獲得m個(gè)不同脈沖輻照數(shù)目下的初始損傷閾值F0和損傷生長(zhǎng)閾值G0；其中，F(xiàn)0＝{F₀₁，F(xiàn)₀₂，F(xiàn)₀₃......F_0m}，G0＝{G₀₁，G₀₂，G₀₃......G_0m}，要求脈沖輻照數(shù)目m不小于激光重復(fù)頻率的200倍；

(5)在步驟(1)中制作的一批光學(xué)薄膜元件中重新選取一組薄膜元件，在該組薄膜元件膜面粘貼吸收層；在吸收層的表面放置約束層，形成用于激光沖擊波后處理的實(shí)驗(yàn)樣品；

(6)將實(shí)驗(yàn)樣品放置在電動(dòng)平移臺(tái)上，同時(shí)保證同一樣品每次放置的位置都相同；使在線(xiàn)顯微鏡始終對(duì)準(zhǔn)泵浦激光輻照實(shí)驗(yàn)樣品的位置，用以實(shí)時(shí)檢測(cè)后處理過(guò)程中實(shí)驗(yàn)樣品、吸收層和約束層的狀態(tài)；

(7)設(shè)定用于激光沖擊波處理的泵浦激光器的初始入射激光能量E₀、最大入射激光能量E_m和激光能量遞增梯度ΔE，并固定光斑尺寸、搭接率及掃描區(qū)域；要求E₀和E_m小于激光沖擊波作用時(shí)使薄膜元件不發(fā)生破壞的最大激光能量；并標(biāo)記S為小于等于(E_m-E₀)/ΔE的最大整數(shù)；令i＝1；

(8)令實(shí)際入射激光能量E＝E₀+ΔE*i；

(9)采用光柵掃描方式對(duì)樣品進(jìn)行一次激光沖擊波掃描處理，使得薄膜元件表面微結(jié)構(gòu)發(fā)生變化；

(10)去除薄膜樣品表面殘留的吸收層和約束層，并對(duì)薄膜樣品進(jìn)行噴淋和超聲清洗，獲得經(jīng)過(guò)激光沖擊波后處理的一組實(shí)驗(yàn)樣品；

(11)利用該組實(shí)驗(yàn)樣品分別測(cè)量經(jīng)沖擊波后處理后的殘余應(yīng)力R_i、膜層與基底的臨界附著力A_i、膜層臨界界面結(jié)合力B_i和硬度H_i，并重復(fù)執(zhí)行步驟(2)～(4)，獲得激光沖擊波后處理后m個(gè)不同脈沖輻照數(shù)目下的初始損傷閾值F0_i和損傷生長(zhǎng)閾值G0_i；

(12)令i＝i+1；判斷i是否小于等于S，若是，轉(zhuǎn)入步驟(5)，若否，進(jìn)入步驟(13)；

(13)通過(guò)被測(cè)樣品相同區(qū)域在泵浦激光器不同能量下的輻照，完成了對(duì)該實(shí)驗(yàn)樣品多個(gè)能量梯度的激光沖擊波后處理，并獲得了S次激光沖擊波后處理后薄膜元件力學(xué)性能變化特性，包括殘余應(yīng)力R₁～R_S、臨界附著力A₁～A_S、臨界界面結(jié)合力B₁～B_S、硬度H₁～H_S和m個(gè)不同脈沖輻照數(shù)目下的初始損傷閾值F0₁～F0_S和損傷生長(zhǎng)閾值G0₁～G0_S；

(14)改變初始入射激光能量E₀、最大入射激光能量E_m和激光能量遞增梯度ΔE，重復(fù)步驟(5)～(13)；以未進(jìn)行激光沖擊波后處理時(shí)薄膜元件的力學(xué)特性R₀、A₀、B₀、H₀和抗激光損傷能力F0、G0為基準(zhǔn)，分別獲得E₀、E_m和ΔE對(duì)S次激光沖擊波處理后樣品力學(xué)性能R_S、A_S、B_S、H_S和抗激光損傷能力F_S、G_S的影響規(guī)律；根據(jù)力學(xué)性能和抗激光損傷能力的提升情況，對(duì)初始激光能量E₀、能量遞增梯度ΔE和最大激光能量E_m進(jìn)行優(yōu)化，當(dāng)薄膜元件力學(xué)性能和抗激光損傷能力不再提升，且滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)樣品的要求時(shí)，停止循環(huán)，完成薄膜元件力學(xué)性能后處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于激光沖擊波的薄膜元件力學(xué)性能后處理方法，其特征在于，步驟(14)后還可以包括：改變步驟(1)中的鍍膜參數(shù)，重復(fù)步驟(1)～(14)，獲得激光沖擊波后處理對(duì)同一類(lèi)型不同微結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜元件力學(xué)性能的提升規(guī)律。