本發(fā)明屬于浸錫工藝領(lǐng)域，具體地，涉及一種浸錫方法及浸錫裝置。

背景技術(shù)：

隨著經(jīng)濟(jì)發(fā)展，尤其電子行業(yè)地高速發(fā)展，越來(lái)越多的產(chǎn)品需要進(jìn)行浸錫處理，以防止氧化或方便焊接。但同時(shí)，也對(duì)浸錫的精度提出了更高的要求，例如漆包線、同軸線、排線等線材就對(duì)浸錫精度要求就很高，需滿(mǎn)足浸錫效果好且尺寸一致。

目前，在浸錫過(guò)程中，被浸錫件會(huì)帶走一部分錫液，同時(shí)，存在一部分錫氧化，因此，錫爐內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度是不斷降低的?，F(xiàn)有技術(shù)中，為了保持錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度一致，通常將錫液從錫爐中舀起來(lái)，在錫勺中進(jìn)行浸錫操作。但上述舀錫液浸錫存如下缺點(diǎn)：

(1)錫液舀起后，錫液面溫度會(huì)有一定下降，影響浸錫效果；

(2)錫液舀起后，液面會(huì)有一定晃動(dòng)，影響浸錫精度；

(3)錫液舀起后，由于張力影響，錫液面會(huì)高出錫勺，并慢慢下降，影響浸錫精度；

(4)舀錫液需要一定時(shí)間，在此過(guò)程中，錫會(huì)有一定程度氧化，影響浸錫效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種浸錫方法的新技術(shù)方案。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種浸錫裝置的新技術(shù)方案。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種浸錫方法，包括如下步驟：

s101、將待浸錫件固定在運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的夾持件上；

s102、測(cè)距模塊測(cè)量得到其距離錫爐內(nèi)錫液液面的距離h1，并將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)；

s103、所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)測(cè)量結(jié)果計(jì)算得到運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)需要下降的高度l，并將下降高度l的指令發(fā)送至運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；

s104、所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)下降高度l，將待浸錫件浸沒(méi)在錫液內(nèi)。

優(yōu)選地，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)下降的高度l通過(guò)下列公式計(jì)算得到：

l＝h2-h＝h2-h+h1；

其中，h2為運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上待浸錫件未下降前距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，h為錫爐內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，h為測(cè)距模塊距離錫爐安裝臺(tái)面的高度。

優(yōu)選地，在步驟s102與步驟s103之間，還包括：

所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)測(cè)量結(jié)果判斷錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度h是否小于預(yù)設(shè)閾值；

若是，則發(fā)送報(bào)警信號(hào)至報(bào)警機(jī)構(gòu)進(jìn)行報(bào)警；

若否，則執(zhí)行步驟s103。

優(yōu)選地，在步驟s102與步驟s103之間，還包括：

檢測(cè)錫爐內(nèi)錫液的溫度，將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)；

所述控制機(jī)構(gòu)判斷溫度是否達(dá)到預(yù)設(shè)范圍；

若是，則執(zhí)行步驟s103；若否，則控制錫爐加熱使錫液溫度達(dá)到預(yù)設(shè)范圍，再執(zhí)行步驟s103。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種浸錫裝置，包括錫爐和控制機(jī)構(gòu)，以及與控制機(jī)構(gòu)分別通信的測(cè)距模塊和運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述測(cè)距模塊設(shè)置在錫爐的上方，用于測(cè)量錫爐內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有夾持件，所述夾持件用于固定待浸錫件，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)被配置為驅(qū)動(dòng)待浸錫件浸入錫爐的錫液中；所述控制機(jī)構(gòu)被配置：根據(jù)測(cè)量的錫液的高度調(diào)整運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的位移量。

優(yōu)選地，所述測(cè)距模塊為激光測(cè)距傳感器。

優(yōu)選地，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為電缸。

優(yōu)選地，所述控制機(jī)構(gòu)還連接有溫度測(cè)量模塊，所述溫度測(cè)量模塊設(shè)置在錫爐內(nèi)，用于測(cè)量錫爐內(nèi)錫液的溫度。

優(yōu)選地，所述控制機(jī)構(gòu)還連接有報(bào)警機(jī)構(gòu)，所述報(bào)警機(jī)構(gòu)用于接收控制機(jī)構(gòu)發(fā)送的報(bào)警信號(hào)進(jìn)行報(bào)警。

優(yōu)選地，所述控制機(jī)構(gòu)還連接觸摸屏，所述觸摸屏用于設(shè)置參數(shù)。

通過(guò)應(yīng)用本發(fā)明的浸錫裝置，可實(shí)現(xiàn)以下效果：1、浸錫時(shí)保證了錫液的液面穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，溫度無(wú)變化且液面氧化少；2、每次浸錫前可實(shí)現(xiàn)對(duì)錫爐內(nèi)錫液進(jìn)行檢測(cè)，不受錫爐錫液液面下降影響，不會(huì)影響生產(chǎn)；3、錫液高度檢測(cè)速度快、精度高，浸錫精度高，不影響浸錫時(shí)間，可提高生產(chǎn)效率。

本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在現(xiàn)有技術(shù)中，錫爐內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度在浸錫過(guò)程中不斷降低，會(huì)降低浸錫的精度和效果。因此，本發(fā)明所要實(shí)現(xiàn)的技術(shù)任務(wù)或者所要解決的技術(shù)問(wèn)題是本領(lǐng)域技術(shù)人員從未想到的或者沒(méi)有預(yù)期到的，故本發(fā)明是一種新的技術(shù)方案。

通過(guò)以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

附圖說(shuō)明

被結(jié)合在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施例，并且連同其說(shuō)明一起用于解釋本發(fā)明的原理。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的浸錫裝置的示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的浸錫裝置的結(jié)構(gòu)框圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的浸錫方法的流程圖。

其中，1、錫爐，2、控制機(jī)構(gòu)，3、測(cè)距模塊，4、運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，41、夾持件，401、安裝臺(tái)面，402、第一支架，403、第二支架。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的各種示例性實(shí)施例。應(yīng)注意到：除非另外具體說(shuō)明，否則在這些實(shí)施例中闡述的部件和步驟的相對(duì)布置、數(shù)字表達(dá)式和數(shù)值不限制本發(fā)明的范圍。

以下對(duì)至少一個(gè)示例性實(shí)施例的描述實(shí)際上僅僅是說(shuō)明性的，決不作為對(duì)本發(fā)明及其應(yīng)用或使用的任何限制。

對(duì)于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的技術(shù)、方法和設(shè)備可能不作詳細(xì)討論，但在適當(dāng)情況下，所述技術(shù)、方法和設(shè)備應(yīng)當(dāng)被視為說(shuō)明書(shū)的一部分。

在這里示出和討論的所有例子中，任何具體值應(yīng)被解釋為僅僅是示例性的，而不是作為限制。因此，示例性實(shí)施例的其它例子可以具有不同的值。

應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號(hào)和字母在下面的附圖中表示類(lèi)似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步討論。

為了提高浸錫的精度和效果，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種浸錫裝置。參考圖1，該浸錫裝置包括安裝臺(tái)面401、設(shè)置在安裝臺(tái)面401上的第一支架402、第二支架403和錫爐1，第一支架402和第二支架403可分別設(shè)置在錫爐1的兩側(cè)，在第一支架402上安裝有運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4，在第二支架403上安裝有測(cè)距模塊3。其中，第一支架402和第二支架403僅是起支撐固定作用，在實(shí)際應(yīng)用中還可替換成其他部件，例如支撐座。該浸錫裝置還包括控制機(jī)構(gòu)2，測(cè)距模塊3和運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4均與控制機(jī)構(gòu)2通信。需要說(shuō)明的是，圖1中只是以列舉地方式示意了控制機(jī)構(gòu)2，其可以設(shè)置在圖1示出的裝置上，也可以設(shè)置在外部的控制終端上。

本發(fā)明的測(cè)距模塊3通過(guò)第二支架403設(shè)置在錫爐1的上方，用于測(cè)量其距離錫爐1內(nèi)錫液液面的距離h1，并將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)2。因?yàn)闇y(cè)距模塊3固定安裝在第二支架403上，所以測(cè)距模塊3距離錫爐1安裝臺(tái)面的高度h為已知且固定的。

為了提高高度測(cè)量的精度和速度，所述測(cè)距模塊3優(yōu)選為激光測(cè)距傳感器，激光測(cè)距傳感器的檢測(cè)精度很高，一般在±0.01mm范圍內(nèi)?？梢岳斫獾氖?，將激光測(cè)距傳感器替換成其他測(cè)距設(shè)備也在本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思內(nèi)，屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍，例如將激光測(cè)距傳感器替換成光電傳感器等。

本發(fā)明的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4通過(guò)第一支架402設(shè)置在安裝臺(tái)面401上，運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4設(shè)置有夾持件41，所述夾持件41用于固定待浸錫件，運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4被配置為驅(qū)動(dòng)待浸錫件浸入錫爐1的錫液中。具體的，參考圖1，運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4上的夾持件41(圖中虛線部分)在未移動(dòng)時(shí)位于初始位置l1處，當(dāng)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4根據(jù)控制機(jī)構(gòu)2發(fā)送的運(yùn)動(dòng)指令驅(qū)動(dòng)夾持件41進(jìn)行移動(dòng)時(shí)，夾持件41下降到目標(biāo)位置l2處，從而使得夾持件41上的待浸錫件浸入錫爐1的錫液中。

其中，運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4包括但不限于電缸。而運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4上的夾持件41的種類(lèi)和形狀可根據(jù)待浸錫件的種類(lèi)不同而相應(yīng)改變，舉例來(lái)說(shuō)，夾持件41可以為芯線夾持機(jī)構(gòu)，也可以替換成吸嘴。

本發(fā)明的控制機(jī)構(gòu)2為浸錫裝置的主控單元，其可是plc控制器或單片機(jī)?？刂茩C(jī)構(gòu)2與測(cè)距模塊3和運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4分布通信，控制機(jī)構(gòu)2被配置：根據(jù)測(cè)距模塊3測(cè)量的錫液的高度調(diào)整運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4的位移量。

具體的，控制機(jī)構(gòu)2根據(jù)測(cè)距模塊3距離錫爐1安裝臺(tái)面的高度h以及測(cè)距模塊3距離錫爐1內(nèi)錫液液面的距離h1，可以計(jì)算得到錫爐1內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度h。具體計(jì)算公式如下：h＝h-h1。

控制機(jī)構(gòu)2根據(jù)錫爐1內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度h計(jì)算得到運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4需要下降的高度l，以使待浸錫件伴隨動(dòng)機(jī)構(gòu)4下降高度l浸入錫爐1的錫液中。具體計(jì)算公式如下：l＝h2-h；其中，h2為運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4上待浸錫件未下降前距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，即待浸錫件已知起始高度。

在本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中，控制機(jī)構(gòu)2還通信連接有溫度測(cè)量模塊、觸摸屏和報(bào)警機(jī)構(gòu)。

其中，溫度測(cè)量模塊設(shè)置在錫爐1內(nèi)，用于測(cè)量錫爐1內(nèi)錫液的溫度，并將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)2。其中，溫度測(cè)量模塊優(yōu)選為熱電偶。

其中，觸摸屏用于設(shè)置參數(shù)。例如通過(guò)觸摸屏可以設(shè)置錫爐1內(nèi)錫液液面報(bào)警高度的上下限值、錫爐1內(nèi)錫液報(bào)警溫度的上下限值以及運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4速度等參數(shù)，并可通過(guò)觸摸屏顯示上述各種參數(shù)。

控制機(jī)構(gòu)2實(shí)時(shí)接收測(cè)距模塊3和溫度測(cè)量模塊發(fā)送的數(shù)據(jù)并判斷是否超出觸摸屏設(shè)置的參數(shù)范圍，在判斷超出時(shí)，給報(bào)警機(jī)構(gòu)發(fā)送報(bào)警信號(hào)。

報(bào)警機(jī)構(gòu)用于接收控制機(jī)構(gòu)2發(fā)送的報(bào)警信號(hào)進(jìn)行報(bào)警。舉例來(lái)說(shuō)，控制機(jī)構(gòu)2根據(jù)測(cè)距模塊3的測(cè)量結(jié)果判斷錫爐1內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度h小于觸摸屏預(yù)設(shè)的閾值時(shí)，則說(shuō)明錫爐1內(nèi)錫液不足，則發(fā)送報(bào)警信號(hào)至報(bào)警機(jī)構(gòu)進(jìn)行報(bào)警。其中，報(bào)警機(jī)構(gòu)可以?xún)?yōu)選為聲光報(bào)警器。

參考圖2，在具體應(yīng)用中，控制機(jī)構(gòu)2可以包括中央控制器、輸入單元和輸出單元，輸入單元與熱電偶通信連接；中央控制器與觸摸屏通信連接，并通過(guò)串口通訊模塊與激光測(cè)距模塊3通信相連；運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)4為電缸，輸出單元分別和報(bào)警機(jī)構(gòu)、電缸通信連接。

通過(guò)應(yīng)用本發(fā)明的浸錫裝置，可實(shí)現(xiàn)以下效果：1、浸錫時(shí)保證了錫液的液面穩(wěn)定無(wú)波動(dòng)，溫度無(wú)變化且液面氧化少；2、每次浸錫前可實(shí)現(xiàn)對(duì)錫爐內(nèi)錫液進(jìn)行檢測(cè)，不受錫爐錫液液面下降影響，不會(huì)影響生產(chǎn)；3、錫液高度檢測(cè)速度快、精度高，浸錫精度高，不影響浸錫時(shí)間，可提高生產(chǎn)效率。

在本發(fā)明另一實(shí)施例中，提供了一種利用上述浸錫裝置的浸錫方法，其中，重復(fù)部分不再詳細(xì)描述。參考圖3，該浸錫方法包括如下步驟：

s101、將待浸錫件固定在運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的夾持件上；

s102、測(cè)距模塊測(cè)量得到其距離錫爐內(nèi)錫液液面的距離h1，并將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)；

s103、所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)測(cè)量結(jié)果計(jì)算得到運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)需要下降的高度l，并將下降高度l的指令發(fā)送至運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；

s104、所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)下降高度l，將待浸錫件浸沒(méi)在錫液內(nèi)。

需要說(shuō)明的是，運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)下降的高度l通過(guò)下列公式計(jì)算得到：

l＝h2-h＝h2-h+h1；

其中，h2為運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上待浸錫件未下降前距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，即已知起始高度；h為錫爐內(nèi)錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度；h為測(cè)距模塊距離錫爐安裝臺(tái)面的高度，因?yàn)闇y(cè)距模塊是固定安裝的，所以h為恒定值。

在本發(fā)明另一實(shí)施例中，在步驟s102與步驟s103之間，還包括：

所述控制機(jī)構(gòu)根據(jù)測(cè)量結(jié)果判斷錫液液面距離錫爐安裝臺(tái)面的高度h是否小于預(yù)設(shè)閾值；

若是，則發(fā)送報(bào)警信號(hào)至報(bào)警機(jī)構(gòu)進(jìn)行報(bào)警；

若否，則執(zhí)行步驟s103。

在本發(fā)明另一實(shí)施例中，在步驟s102與步驟s103之間，還包括：

檢測(cè)錫爐內(nèi)錫液的溫度，將測(cè)量結(jié)果發(fā)送給控制機(jī)構(gòu)；

所述控制機(jī)構(gòu)判斷溫度是否達(dá)到預(yù)設(shè)范圍；

若是，則執(zhí)行步驟s103；若否，則控制錫爐加熱使錫液溫度達(dá)到預(yù)設(shè)范圍，再執(zhí)行步驟s103。

雖然已經(jīng)通過(guò)例子對(duì)本發(fā)明的一些特定實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，以上例子僅是為了進(jìn)行說(shuō)明，而不是為了限制本發(fā)明的范圍。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解，可在不脫離本發(fā)明的范圍和精神的情況下，對(duì)以上實(shí)施例進(jìn)行修改。本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求來(lái)限定。