1.一種激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述基于所述區(qū)域尺寸信息、所述數(shù)據(jù)模型和所述圖案尺寸信息，對多個(gè)所述待刻蝕陣子進(jìn)行聚類處理，得到對應(yīng)的至少一個(gè)聚類簇的步驟，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述基于所述區(qū)域尺寸信息、所述數(shù)據(jù)模型和所述圖案尺寸信息中的至少部分信息，將所述待分裂簇進(jìn)行分裂處理，形成對應(yīng)的兩個(gè)分裂子簇，并基于每一次進(jìn)行分裂處理形成的全部分裂子簇，形成待定簇集合的步驟，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述基于所述兩個(gè)待定集合對應(yīng)的兩個(gè)中心位置坐標(biāo)和所述兩個(gè)待定分裂中心，確定是否需要繼續(xù)進(jìn)行分配處理的步驟，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述基于所述區(qū)域尺寸信息、所述數(shù)據(jù)模型和所述圖案尺寸信息中的至少部分信息，確定是否需要繼續(xù)進(jìn)行分裂處理的步驟，包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述在需要繼續(xù)進(jìn)行分裂處理時(shí)，在所述待定簇集合包括的全部分裂子簇中，確定出一個(gè)分裂子簇，作為目標(biāo)分裂子簇的步驟，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述在需要繼續(xù)進(jìn)行分裂處理時(shí)，對于所述待定簇集合包括的每一個(gè)分裂子簇，基于該分裂子簇中的每一個(gè)待刻蝕陣子在所述數(shù)據(jù)模型的位置坐標(biāo)與該分裂子簇在所述數(shù)據(jù)模型的中心位置坐標(biāo)之間的距離，確定出該分裂子簇具有的分裂誤差參數(shù)的步驟，包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光刻蝕路徑確定方法，其特征在于，所述對于每一個(gè)分裂子簇，基于該分裂子簇對應(yīng)的第一誤差參數(shù)和第二誤差參數(shù)，確定出該分裂子簇具有的分裂誤差參數(shù)的步驟，包括：
9.一種激光刻蝕路徑確定裝置，其特征在于，包括：
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：
11.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，該計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)中存儲有計(jì)算機(jī)程序，該計(jì)算機(jī)程序運(yùn)行時(shí)執(zhí)行權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的激光刻蝕路徑確定方法。