雙面鐳雕機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及鐳雕機(jī)設(shè)備，尤其是指可以雙面同時(shí)進(jìn)行鐳雕的鐳雕機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在鐳雕設(shè)備中，一般將需將待鐳雕物放置在鐳雕裝置下方進(jìn)行進(jìn)行鐳雕。對(duì)于電子領(lǐng)域的鐳雕機(jī)而言，目前，只能做到對(duì)待鐳雕物的一面進(jìn)行鐳雕，做不到對(duì)其兩面同時(shí)進(jìn)行鐳雕。目前單面鐳雕機(jī)包括定位裝置，及設(shè)置在上方的鐳雕裝置。定位裝置用于放置待鐳雕物，并對(duì)其進(jìn)行定位。定位裝置一般采取在放置平臺(tái)上設(shè)置定位裝置，通過(guò)手工將待鐳雕物運(yùn)送至放置平臺(tái)的定位裝置處進(jìn)行鐳雕。也可以通過(guò)傳送裝置將待鐳雕物送至定位裝置進(jìn)行鐳雕。鐳雕作業(yè)作業(yè)品質(zhì)好，但是，由于一次只能對(duì)待鐳雕物的一面進(jìn)行鐳雕，當(dāng)需對(duì)另一面進(jìn)行鐳雕時(shí)，需將一面鐳雕結(jié)束取出物品，反轉(zhuǎn)后再送進(jìn)鐳雕機(jī)進(jìn)行鐳雕。因此，相對(duì)來(lái)說(shuō)，鐳雕效率比較低下。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種雙面鐳雕機(jī)，其可以同時(shí)對(duì)待鐳雕物的正反兩面進(jìn)行鐳雕作業(yè)，作業(yè)效率高。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案是一種雙面鐳雕機(jī)，包括設(shè)置在機(jī)架上用于傳送待鐳雕物的兩組平行間隔設(shè)置的間隔距離可調(diào)的皮帶傳送裝置；在所述皮帶傳送裝置上下方的所述機(jī)架上分別設(shè)置有可位移的上鐳雕裝置和下鐳雕裝置，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置的鐳雕面分別朝向所述皮帶傳送裝置。
[0005]兩組所述皮帶傳送裝置分別安裝在兩組獨(dú)立的平行間隔設(shè)置的安裝基板上，其中一安裝基板固定在所述機(jī)架上，另一安裝基板的兩端分別螺設(shè)在位于所述安裝基板兩端平行設(shè)置的絲桿上，所述絲桿固定在所述機(jī)架上。
[0006]在所述皮帶傳送裝置上設(shè)置有夾緊裝置。
[0007]在所述皮帶傳送裝置的上方和下方的機(jī)架上兩側(cè)分別平行間隔設(shè)置有兩滑軌，在所述滑軌上分別橫跨滑設(shè)有一橫梁，所述上鐳雕裝置安裝在位于所述皮帶傳送裝置上方橫梁上，所述下鐳雕裝置安裝在位于所述皮帶傳送裝置下方的橫梁上。
[0008]在所述上橫梁和下橫梁上分別設(shè)置絲桿，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置分別滑設(shè)安裝在所述上橫梁和所述下橫梁的所述絲桿軌上。
[0009]在所述上橫梁和所述下橫梁上的所述絲桿的兩側(cè)平行設(shè)置有兩滑軌，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置分別滑設(shè)在所述兩滑軌上。
[0010]本實(shí)用新型的雙面鐳雕機(jī)，采用可移動(dòng)的兩組平行設(shè)置的皮帶傳動(dòng)裝置，通過(guò)在皮帶傳送裝置的上下方分別設(shè)置鐳雕裝置，對(duì)經(jīng)過(guò)皮帶傳送裝置傳送的待鐳雕產(chǎn)品的正面及反面同時(shí)進(jìn)行鐳雕。兩組皮帶傳送裝置，其中一組通過(guò)絲桿的正反轉(zhuǎn)帶動(dòng)起靠近或遠(yuǎn)離另一組皮帶傳送裝置，調(diào)節(jié)兩組皮帶傳送裝置之間的間隔距離，以適應(yīng)傳送不同規(guī)格尺寸的待鐳雕物。上鐳雕裝置和下鐳雕裝置，通過(guò)橫跨在間隔設(shè)置的滑軌上橫梁左右移動(dòng)調(diào)節(jié)左右位置，通過(guò)橫梁上安裝的絲桿和滑軌，調(diào)節(jié)前后位置，實(shí)現(xiàn)鐳雕裝置的前后左右，即X軸和Y軸的位置調(diào)節(jié)，用于適應(yīng)不同規(guī)格尺寸，不同鐳雕區(qū)域的待鐳雕物。
【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1，雙面鐳雕機(jī)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2，雙面儀雕機(jī)正視結(jié)構(gòu)不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]針對(duì)上述技術(shù)方案，現(xiàn)舉一較佳實(shí)施例并結(jié)合圖示進(jìn)行具體說(shuō)明。參看圖1?圖2，本實(shí)用新型雙面鐳雕機(jī)，包括皮帶傳送裝置1，鐳雕裝置，其中皮帶傳送裝置1，其為兩組平行設(shè)置的皮帶傳送裝置。在機(jī)架的左右兩側(cè)上平行設(shè)置有絲桿11，絲桿11通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)。與絲桿11平行設(shè)置有導(dǎo)向滑桿。其中一組皮帶傳送裝置通過(guò)安裝基板固定安裝在機(jī)架上，另一組皮帶傳送裝置安裝在安裝基板12上，安裝基板12的兩端分別螺設(shè)在絲桿11上。在絲桿11下方平行設(shè)置有導(dǎo)向桿，安裝基板12的兩端分別通過(guò)導(dǎo)向套滑設(shè)在導(dǎo)向桿上。通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)絲桿11轉(zhuǎn)動(dòng)，可使安裝在絲桿上的一組皮帶傳送裝置沿著絲桿和導(dǎo)向桿靠近或遠(yuǎn)離另一組固定安裝在機(jī)架上的皮帶傳送皮帶，實(shí)現(xiàn)兩組皮帶傳送裝置之間的距離可調(diào)。由于兩組皮帶傳送裝置的間隔距離可以調(diào)節(jié)，針對(duì)不能尺寸的待鐳雕物，通過(guò)調(diào)節(jié)兩組皮帶傳送裝置之間的距離，都可以使待鐳雕物的兩端放置在兩組皮帶傳送裝置的傳送面上進(jìn)行傳送。在每組皮帶傳送裝置的傳送面下方設(shè)置有與皮帶寬度相匹配的支撐條用于支撐皮帶。在酶促皮帶傳送裝置上都設(shè)有夾緊裝置(未圖示)，該夾緊裝置可以通過(guò)夾板或其他機(jī)械結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)，用于對(duì)傳送到鐳雕區(qū)域的待鐳雕物進(jìn)行固定。
[0014]鐳雕裝置，包括分別設(shè)置在皮帶傳送裝置上下方的上鐳雕裝置3和下鐳雕裝置4。上鐳雕裝置和下鐳雕裝置除了鐳雕頭分別朝向皮帶傳送裝置設(shè)置外，其余結(jié)構(gòu)相同。現(xiàn)以上鐳雕裝置3為例具體說(shuō)明。上鐳雕裝置3，在皮帶傳送裝置上方的機(jī)架前后兩側(cè)上平行間隔設(shè)置有兩滑軌31，在兩滑軌上橫跨有橫梁32，橫梁32的兩端通過(guò)滑塊分別滑設(shè)在兩滑軌31上。在橫梁32的一側(cè)固定安裝有絲桿33，在絲桿33上下兩側(cè)橫梁上平行安裝有滑軌34，上鐳雕裝置3螺設(shè)在絲桿33上，并通過(guò)滑塊滑設(shè)在滑軌34上。上鐳雕裝置的鐳雕面朝向皮帶傳送裝置。上鐳雕裝置的橫梁可沿著滑軌31，帶動(dòng)上鐳雕裝置沿著皮帶傳送方向左右移動(dòng)；再通過(guò)橫梁上的絲桿轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)上鐳雕裝置沿著絲桿及滑軌順暢的前后移動(dòng)。通過(guò)滑軌及橫梁上設(shè)置的絲桿，可以實(shí)現(xiàn)上鐳雕裝置的前后左右(X軸和Y軸方向)位置調(diào)節(jié)。下鐳雕裝置其固定結(jié)構(gòu)與上鐳雕裝置相同，在平行設(shè)置在皮帶傳送裝置下方的機(jī)架上前后兩側(cè)的滑軌上，橫跨有一橫梁，橫梁橫跨滑設(shè)在該滑軌上，在橫梁上設(shè)置有絲桿和滑軌，下鐳雕裝置螺設(shè)在絲桿上，沿著絲桿和滑軌平穩(wěn)移動(dòng)。下鐳雕裝置的鐳雕面朝向皮帶傳送裝置。上下鐳雕裝置為鐳雕頭，屬于現(xiàn)有技術(shù)，因此，對(duì)其結(jié)構(gòu)不再贅述。
[0015]本實(shí)用新型的雙面鐳雕機(jī)，通過(guò)皮帶傳送裝置將帶鐳雕物自動(dòng)傳送至待鐳雕區(qū)域，然后調(diào)節(jié)上下鐳雕裝置的位置，進(jìn)行鐳雕作業(yè)。由于兩組皮帶傳送裝置的間距可調(diào)，及上下鐳雕裝置的位置可調(diào)，因此，可以適用于不同型號(hào)規(guī)格的待鐳雕物的雙面鐳雕作業(yè)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種雙面鐳雕機(jī)，其特征在于包括設(shè)置在機(jī)架上用于傳送待鐳雕物的兩組平行間隔設(shè)置的間隔距離可調(diào)的皮帶傳送裝置；在所述皮帶傳送裝置上下方的所述機(jī)架上分別設(shè)置有可位移的上鐳雕裝置和下鐳雕裝置，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置的鐳雕面分別朝向所述皮帶傳送裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面鐳雕機(jī)，其特征在于兩組所述皮帶傳送裝置分別安裝在兩組獨(dú)立的平行間隔設(shè)置的安裝基板上，其中一安裝基板固定在所述機(jī)架上，另一安裝基板的兩端分別螺設(shè)在位于所述安裝基板兩端平行設(shè)置的絲桿上，所述絲桿固定在所述機(jī)架上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙面鐳雕機(jī)，其特征在于在所述皮帶傳送裝置上設(shè)置有夾緊 目.ο
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面鐳雕機(jī)，其特征在于在所述皮帶傳送裝置的上方和下方的機(jī)架上兩側(cè)分別平行間隔設(shè)置有兩滑軌，在所述滑軌上分別橫跨滑設(shè)有一橫梁，所述上鐳雕裝置安裝在位于所述皮帶傳送裝置上方的上橫梁上，所述下鐳雕裝置安裝在位于所述皮帶傳送裝置下方的下橫梁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙面鐳雕機(jī)，其特征在于在所述上橫梁和下橫梁上分別設(shè)置絲桿，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置分別滑設(shè)安裝在所述上橫梁和所述下橫梁的所述絲桿上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙面鐳雕機(jī)，其特征在于在所述上橫梁和所述下橫梁上的所述絲桿的兩側(cè)平行設(shè)置有兩滑軌，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置分別滑設(shè)在所述兩滑軌上。
【專(zhuān)利摘要】一種雙面鐳雕機(jī)，包括設(shè)置在機(jī)架上用于傳送待鐳雕物的兩組平行間隔設(shè)置的間隔距離可調(diào)的皮帶傳送裝置；在所述皮帶傳送裝置上下方的所述機(jī)架上分別設(shè)置有可位移的上鐳雕裝置和下鐳雕裝置，所述上鐳雕裝置和所述下鐳雕裝置的鐳雕面分別朝向所述皮帶傳送裝置。其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)正反兩面鐳雕作業(yè)，且適用于不同尺寸規(guī)格的鐳雕產(chǎn)品。
【IPC分類(lèi)】B23K26-08, B23K26-70, B23K26-362
【公開(kāi)號(hào)】CN204603568
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520053929
【發(fā)明人】崔岑, 金志琨
【申請(qǐng)人】蘇州矩度電子科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年9月2日
【申請(qǐng)日】2015年1月26日