專利名稱：真空鍍膜裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及真空鍍膜技術，具體地說是一種真空鍍膜裝置。
在現(xiàn)有技術中，真空鍍膜技術為科學研究與生產提供了膜層涂覆的新工藝，為光學研究、半導體電子學、表面科學、裝飾工業(yè)等廣泛的應用領域提供了新的技術手段，隨著真空鍍膜技術的飛速發(fā)展，以及其應用領域的不斷延伸和擴展，帶動國內真空鍍膜設備的制造水平得到了很大的提高，在許多方面縮短了與發(fā)達國家之間的差距。然而，目前國內大多數(shù)鍍膜設備采用的基片架為平面式，只能鍍平面膜材，樣品架固定安裝，不轉動，或轉動安裝也只有公轉，沒有基片架的自轉功能，常常是膜層質量不理想，均勻性差。
為了克服上述不足，本實用新型的目的是提供一種鍍膜質量好，應用范圍廣的真空鍍膜裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型的技術方案是由安裝在真空室里用步進電機驅動的樣品架、靶、離子源、加熱源、用交流調速電機驅動的基片架和安裝在真空室外面的機械泵、分子泵組成，其中，基片架通過行星齒輪組與樣品架垂直安裝，圓周均布于樣品架上方，樣品架下設機械定位校準機構，于步進電機之上，所述步進電機、交流調速電機通過傳動軸分別安裝在樣品架和基片架的絕緣軸套上；所述基片架和靶之間設有擋板；分子泵通過電動閘板閥與真空室相連，機械泵通過預抽閥與真空室相連，在分子泵與機械泵之間設有前級閥；
所述光耦機械定位校準機構由固定在支架上的光電開關、起始定位盤和靶位定位盤組成，其中光電開關A位于帶起始縫的起始定位盤上，光電開關B安裝在帶有靶位定位縫的靶位定位盤上，起始定位盤位于靶位定位盤上方，光電開關A、B與計算機電連接，靶位定位盤與起始定位盤同軸安裝固定，與靶位對應；所述基片架由傘形齒輪、托和軸組成，其中托通過軸A與傘形齒輪A相連，傘形齒輪B與傘形齒輪A嚙合，傘形齒輪B通過軸B與樣品架連接；所述基片架數(shù)量范圍為1～10；所述樣品架上點對稱式設有抽氣孔；所述靶采用射頻磁控靶或直流磁控靶。
本實用新型具有如下優(yōu)點1．膜層質量好。樣品架和基片架分別由步進電機和交流調速電機通過“行星齒輪傳動機構”驅動，實現(xiàn)樣品架的公轉和基片架的自轉，且轉動平穩(wěn)，樣品架的公轉帶動基片架對正固定的靶位，實現(xiàn)靶位的調整，完成換位功能；基片架的自轉帶動基片旋轉，消除了鍍膜徑向上的不均勻，使得膜層質量得到改善。
2．應用范圍廣。由于本實用新型所述基片架采用與交流調速電機的軸垂直固連或通過傘形齒輪連接兩種方式，使之可鍍平面基材，軸套內、外環(huán)，也可給滾珠鍍膜。另外，本實用新型所述與真空室絕緣安裝，能加偏壓，可鍍介質膜即絕緣膜，且膜層質量好。


圖1為本實用新型結構示意圖。
圖2為圖1中機械定位校準機構結構示意圖。
圖3為圖1中樣品架、基片架安裝圖。
圖4為基片架另一個安裝實施例。
圖5為圖4實施例情況下樣品架俯視圖。
以下結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。
實施例1如圖1、3所示，由安裝在真空室1里用步進電機51驅動的樣品架5、靶2、離子源3、加熱源10、用交流調速電機41驅動的基片架4和安裝在真空室1外面的機械泵7、分子泵8組成，其中，基片架4通過行星齒輪組11與樣品架5垂直安裝，圓周均布于樣品架5上方，樣品架5下設機械定位校準機構6，于步進電機51之上，分子泵8通過電動閘板閥與真空室1相連，機械泵7通過預抽閥與真空室1相連，在分子泵8與機械泵7之間設有前級閥；所述基片架4和靶2之間設有擋板9；所述步進電機51、交流調速電機41通過傳動軸12分別安裝在樣品架5和基片架4的絕緣軸套13上；所述基片架4數(shù)量8；所述靶2采用射頻磁控靶(RF靶)；基片為平面基材。
如圖2所示，所述光耦機械定位校準機構6由光電開關、起始定位盤63和靶位定位盤64組成，其中光電開關A61位于帶起始縫65的起始定位盤63上，光電開關B62安裝在帶有靶位定位縫66的靶位定位盤64上，起始定位盤63位于靶位定位盤64上方，光電開關A61、B62與計算機的多功能數(shù)據(jù)采集器電連接，靶位定位盤64與起始定位盤63同軸安裝在一起，與靶位對應。
其工作原理如下樣品架5和基片架4分別由步進電機51和交流調速電機41通過行星齒輪組11傳動機構驅動，實現(xiàn)樣品架5的公轉和基片架4的自轉，樣品架5的公轉帶動基片架4對正固定的靶位，實現(xiàn)靶位的調整，完成換位功能；在樣品架5的公轉軸上，固定兩個同步轉動的定位盤，上面為起始定位盤63，盤上開有一個0.5mm寬的窄縫，窄縫的寬度和起始定位盤63的直徑決定最大允許誤差。起始定位盤63旋轉時通過固定在支架上的光電開關A61的檢測縫，靶位定位盤64旋轉時通過光電開關B62的檢測縫；計算機通過多功能數(shù)據(jù)采集板“讀取”光電開關A61、B62的狀態(tài)，以此來判斷起始位和定位誤差，光電開關A61、B62對正“縫”否，決定光電開關的狀態(tài)。
實施例2如圖4、5所示，所述裝有滾珠基材的基片架4由傘形齒輪、托和軸組成，其中托42通過軸A43與傘形齒輪A45相連，傘形齒輪B46與傘形齒輪A45嚙合，傘形齒輪B46通過軸B44與樣品架5連接；所述樣品架5上點對稱式設有軸氣孔52四個。
本實用新型所述靶2也可采用直流磁控靶(DC靶)，還可以使用其它濺射源；基材亦可為軸套內、外環(huán)；所述計算機的多功能數(shù)據(jù)采集器為現(xiàn)有技術。
權利要求1．一種真空鍍膜裝置，其特征在于由安裝在真空室(1)里用步進電機(51)驅動的樣品架(5)、靶(2)、離子源(3)、加熱源(10)、用交流調速電機(41)驅動的基片架(4)和安裝在真空室(1)外面的機械泵(7)、分子泵(8)組成，其中，基片架(4)通過行星齒輪組(11)與樣品架(5)垂直安裝，圓周均布于樣品架(5)上方，樣品架(5)下設機械定位校準機構(6)，于步進電機(51)之上，所述步進電機(51)、交流調速電機(41)通過傳動軸(12)分別安裝在樣品架(5)和基片架(4)的絕緣軸套(13)上；所述基片架(4)和靶(2)之間設有擋板(9)；分子泵(8)通過電動閘板閥與真空室(1)相連，機械泵(7)通過預抽閥與真空室(1)相連，在分子泵(8)與機械泵(7)之間設有前級閥。
2．按照權利要求1所述真空鍍膜裝置，其特征在于所述光耦機械定位校準機構(6)由固定在支架上的光電開關、起始定位盤(63)和靶位定位盤(64)組成，其中光電開關A(61)位于帶起始縫(65)的起始定位盤(63)上，光電開關B(62)安裝在帶有靶位定位縫(66)的靶位定位盤(64)上，起始定位盤(63)位于靶位定位盤(64)上方，光電開關A、B(61、62)與計算機電連接，靶位定位盤(64)與起始定位盤(63)同軸安裝固定，與靶位對應。
3．按照權利要求1所述真空鍍膜裝置，其特征在于所述基片架(4)由傘形齒輪、托和軸組成，其中托(42)通過軸A(43)與傘形齒輪A(45)相連，傘形齒輪B(46)與傘形齒輪A(45)嚙合，傘形齒輪B(46)通過軸B(44)與樣品架(5)連接。
4．按照權利要求1、3所述真空鍍膜裝置，其特征在于所述基片架(4)數(shù)量范圍為1～10。
5．按照權利要求1所述真空鍍膜裝置，其特征在于所述樣品架(5)上點對稱式設有抽氣孔(52)。
6．按照權利要求1所述真空鍍膜裝置，其特征在于所述靶(2)采用射頻磁控靶或直流磁控靶。
專利摘要本實用新型涉及一種真空鍍膜裝置。由用步進電機驅動的樣品架、靶、離子源、加熱源、基片架和安裝在真空室外面的機械泵、分子泵組成,其基片架通過行星齒輪組與樣品架安裝,圓周均布于樣品架上方,樣品架下設機械定位校準機構,于步進電機之上,步進電機、交流調速電機通過傳動軸分別安裝在樣品架和基片架的絕緣軸套上;基片架和靶之間設有擋板;機械泵和分子泵構成真空室抽氣機組。具有鍍膜質量好,應用范圍廣等特點。
文檔編號C23C14/34GK2422291SQ0021214
公開日2001年3月7日 申請日期2000年6月7日 優(yōu)先權日2000年6月7日
發(fā)明者黃文符, 張國棟 申請人:中國科學院沈陽科學儀器研制中心