專利名稱：用于加熱襯底的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于加熱襯底的方法。本發(fā)明還涉及一種外部預先加熱的方法。
背景技術(shù)：
在常規(guī)的尤其是用于加熱玻璃部件的方法中，加熱以利用高的能量和花費大量時間的方法進行。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種經(jīng)濟的對環(huán)境無不利影響的用于加熱襯底的方法。
本發(fā)明的目的是通過一種用于加熱襯底的方法實現(xiàn)的，其中a)要被涂覆的襯底的要被涂覆的表面被放置在加熱裝置上，所述加熱裝置用玻璃陶瓷板蓋住，并具有和所述襯底匹配的槽，b)所述襯底從下方被加熱到進行涂覆所需的處理溫度，以及c)所述襯底從加熱裝置上被除去，并被引入涂覆室內(nèi)進行涂覆。
按照本發(fā)明的裝置大大縮短了用于涂覆的處理時間。所述的處理是節(jié)能的。加熱能夠減小對涂覆裝置的磨損。所述加熱是比較均勻的。通過加熱能夠改善涂覆的質(zhì)量。在不影響處理時間的條件下可以實現(xiàn)所需的溫度調(diào)節(jié)。這種處理能夠得到穩(wěn)定的處理管理。
本發(fā)明的一種優(yōu)選的結(jié)構(gòu)包括在具有襯底保持器的玻璃陶瓷板中的槽?？紤]到玻璃陶瓷板的低的導熱率，其尤其適合于所述的方法。
本發(fā)明的一種優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是一種玻璃陶瓷板，其包括至少兩個具有不同開口的彼此疊置的板。如果具有不同尺寸的開口的玻璃陶瓷板彼此疊置，則形成襯底保持器。此外，使用兩個板可以減少熱損失。還使用襯底保持器的生產(chǎn)更容易。
本發(fā)明的優(yōu)選結(jié)構(gòu)使得所述處理能夠在500℃-800℃的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)溫度。在這個溫度范圍內(nèi)能夠獲得好的結(jié)果。
按照本發(fā)明，制備一種具有至少一層的要被涂覆的襯底。
按照本發(fā)明，所述襯底的涂覆包括至少一種以下的處理CVD(化學蒸汽淀積)，PVD(物理蒸汽淀積)，PECVD(等離子體增強的化學蒸汽淀積)，PICVD(等離子體脈沖化學蒸汽淀積)，LPCVD(低壓化學蒸汽淀積)或TCVD(熱化學蒸汽淀積)。
按照本發(fā)明，提供一種用于加熱襯底的裝置，所述加熱裝置被玻璃陶瓷板覆蓋，并具有和所述襯底匹配的槽。
本發(fā)明的優(yōu)選的結(jié)構(gòu)在于在具有襯底保持器的玻璃陶瓷板中的槽。匹配的襯底保持器可以節(jié)省相當可觀的能量。
本發(fā)明的一種優(yōu)選的結(jié)構(gòu)在于一種加熱裝置，其包括至少兩個互相疊置的板，所述兩個板具有不同的開口。這樣可以減少熱損失。
本發(fā)明的一種優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是一種裝置，其中加熱輻射器是紅外高溫輻射器。這些高溫輻射器具有較長的使用壽命。
按照本發(fā)明的裝置用于加熱按照以下步驟被涂覆的襯底。
按照本發(fā)明，提供一種用于加熱玻璃襯底的裝置。


下面參照附圖和例子更詳細地說明本發(fā)明。
說明書附圖中包括一個圖。
所述附圖表示用于加熱襯底的裝置。
具體實施例方式
用于加熱玻璃襯底的裝置包括加熱裝置，兩個玻璃陶瓷板和紅外高溫輻射器，所述裝置在500℃的溫度下工作。上游的熱量使得每小時可以涂覆5300個零件。
對照例在常規(guī)的方法中，其中襯底被在涂覆設(shè)備中加熱，每小時能夠涂覆3200件。
在所述的例子和所述的對照例之間的對比說明，使用按照本發(fā)明的方法，涂覆襯底的產(chǎn)量提高65％。用于加熱的能量消耗降低50％。
附圖表示用于襯底的本發(fā)明的加熱裝置。用于加熱襯底的裝置1具有玻璃陶瓷板2，其用于蓋住加熱裝置3。玻璃陶瓷板2具有槽4，其和要被保持的襯底匹配。槽4相應于襯底保持器。玻璃陶瓷板2包括至少兩個板，它們被寬松地鋪在彼此的頂上，并具有兩個不同的開口4。被設(shè)置在加熱裝置3的內(nèi)部區(qū)域中的加熱輻射器3是紅外線高溫輻射器。
權(quán)利要求
1.一種用于加熱襯底的方法，其中a)要被涂覆的襯底的要被涂覆的表面被放置在加熱裝置上，所述加熱裝置用玻璃陶瓷板蓋住，并具有和所述襯底匹配的槽，b)所述襯底從下方被加熱到進行涂覆所需的處理溫度，以及c)所述襯底從加熱裝置上被除去，并被引入涂覆室內(nèi)進行涂覆。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在玻璃陶瓷板中的槽具有襯底保持器。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述玻璃陶瓷板包括至少兩個板，它們被寬松地相互疊置，所述兩個板具有不同的開口。
4.如權(quán)利要求1至3至少一個所述的方法，其中在加熱裝置的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)的溫度范圍是從500℃到800℃
5.如權(quán)利要求1至4至少一個所述的方法，其中所述襯底被涂覆至少一層。
6.如權(quán)利要求1至5至少一個所述的方法，其中所述涂覆包括以下處理中的至少一個CVD(化學蒸汽淀積)，PVD(物理蒸汽淀積)，PECVD(等離子體增強的化學蒸汽淀積)，PICVD(等離子體脈沖化學蒸汽淀積)，LPCVD(低壓化學蒸汽淀積)或TCVD(熱化學蒸汽淀積)。
7.一種用于加熱襯底的裝置，其中所述加熱裝置被玻璃陶瓷板覆蓋，并具有和所述襯底匹配的槽。
8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其中在玻璃陶瓷板中的槽具有襯底保持器。
9.如權(quán)利要求7或8所述的裝置，其中所述加熱裝置包括至少兩個板，它們被寬松地相互疊置，并且所述兩個板具有不同的開口。
10.如權(quán)利要求7至9至少一個所述的裝置，其中所述熱輻射器是紅外高溫輻射器。
11.一種用于加熱襯底的裝置的用途，所述襯底在加熱之后被涂覆。
12.一種用于加熱玻璃襯底的裝置的用途。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于加熱襯底的方法和裝置,其中要被涂覆的襯底的要被涂覆的表面被放置在加熱裝置上,所述加熱裝置用玻璃陶瓷板蓋住,并具有和所述襯底匹配的槽,所述襯底從下方被加熱到進行涂覆所需的處理溫度,以及所述襯底從加熱裝置上被除去,并被引入涂覆室內(nèi)進行涂覆。按照本發(fā)明的裝置用于加熱襯底,特別是玻璃襯底,所述襯底隨后被涂覆。
文檔編號C23C14/54GK1389592SQ0212007
公開日2003年1月8日 申請日期2002年5月24日 優(yōu)先權(quán)日2001年5月25日
發(fā)明者H·埃格爾特, A·昆克爾, J·沃格特, R·梅耶爾, P·韋納 申請人:肖特玻璃制造廠