專利名稱：研磨盤的制作方法
技術領域：
本實用新型是有關一種工件表面研磨，具體地講是一種研磨盤。
另一種方法是將兩塊平板欲加工表面相對設置，在兩平板的表面間輔上金剛砂，驅(qū)動平板沿其軸向轉(zhuǎn)動時，兩平板的表面形成相對轉(zhuǎn)動的運動方式，從而實現(xiàn)兩塊平板表面的相對研磨加工。這種方法的加工原理與上述方法完全相同，因此待兩塊平板相對研磨后必然研磨的結(jié)果是一塊凹形，一塊凸形，這時需再找一塊與其同樣凹形或者同樣凸形的平板互相研磨，板的平面度就會大大地提高，兩塊平板反復研磨直至達到技術要求的平面度。因此需將至少三塊平板進行反復的互相研磨，直至檢測達到要求為止。不難看出，利用這種研磨加工方法雖能保證加工質(zhì)量，但工序多，時間長。
上述方法可以得知，利用現(xiàn)有技術實現(xiàn)高精度的平面研磨加工，都有一定的困難，加工工藝落后，具有工序多、時間長等不可克服的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明人針對現(xiàn)有技術的缺陷，總結(jié)了多年從事研磨工作的理論及經(jīng)驗，找出產(chǎn)生現(xiàn)有技術影響平板研磨質(zhì)量的原因，提出本實用新型。
本實用新型的目的在于提供一種研磨盤，科學地控制并且改變了研磨金剛砂的流動，使得金剛砂能在研磨過程中均勻地平鋪在平板上，從而達到均勻研磨表面，提高平板平面度的質(zhì)量。
本實用新型的另一目的是簡化研磨工藝，在保證加工質(zhì)量的情況下，最大限度地簡化研磨加工工藝，降低研磨加工成本。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的，一種研磨盤，至少包括有一主研磨盤，該主研磨盤具有一研磨端面；在該主研磨盤的同一個研磨端面內(nèi)至少設有一個分研磨盤，該分研磨盤的研磨端面與主研磨盤的研磨端面在同一平面內(nèi)；所述的主研磨盤和分研磨盤由各自的驅(qū)動軸帶動轉(zhuǎn)動。
所述的分研磨盤可設有兩個或者兩個以上，并以均勻分布為最佳。
所述的主研磨盤驅(qū)動軸可垂直連接于主研磨盤，該驅(qū)動軸可支撐于一主體上。
所述的每分研磨盤驅(qū)動軸可垂直連接于該分研磨盤，所述驅(qū)動軸均可支撐于主體上。
本實用新型中，主研磨盤與分研磨盤可反向轉(zhuǎn)動。也可同向轉(zhuǎn)動。該主研磨盤可相對分研磨盤差速轉(zhuǎn)動。
所述的主研磨盤驅(qū)動軸與分研磨盤驅(qū)動軸之間可機械式傳動連接。
所述的主研磨盤驅(qū)動軸與分研磨盤驅(qū)動軸之間可采用齒輪連接。
所述的主研磨盤的研磨端面的旋轉(zhuǎn)中心處可呈凹入狀。
本實用新型的工作原理是，本實用新型在同一個研磨平面內(nèi)至少設有兩研磨端面，而這些研磨端面均分別沿著各自的轉(zhuǎn)動軸心轉(zhuǎn)動，這樣，使得金剛砂在整個研磨平面內(nèi)不能形成一種定向移動的趨勢，不會產(chǎn)生金剛砂集中流向旋轉(zhuǎn)中心的現(xiàn)象，從而保證金剛砂均勻分布于研磨平面上。
在本實用新型的較佳實施例中，在一個主研磨盤的同一個研磨平面上，可同時設有兩個或者兩個以上的小研磨盤，且該分研磨盤的轉(zhuǎn)動方向可與主研磨盤相反，本實用新型研磨盤的這種運動方式，有效地破壞了金剛砂的定向流動，使金剛砂在研磨過程中保持充分的均勻分布狀態(tài)，達到充分均勻地切削研磨表面，提高平板平面度的質(zhì)量。
綜上所述，本實用新型所達到的有益效果是1)大大地提高了平板的平面度；本實用新型在研磨過程中，可以使得研磨用金剛砂均勻地鋪平在平板上，從而實現(xiàn)均勻地研削，達到的平面度的高質(zhì)量要求。2)本實用新型通過一次研磨達到平面度的要求，在確保研磨質(zhì)量的基礎上可以大大簡化研磨工藝，提高加工效率，可以快速提高平板平面度，達到驚人的效果。
所述的分研磨盤2的研磨平面21，可嵌設于主研磨盤1的研磨端面11內(nèi)，且該研磨平面21與主研磨盤1的研磨平面11為同一個平面。
進一步，本實用新型的主研磨盤1的研磨端面11內(nèi)可設有兩個或兩個以上的分研磨盤2，該些分研磨盤2的研磨端面21均與研磨端面11在同一個平面內(nèi)，以保證被研磨平面的平面度。該兩個或兩個以上的分研磨盤2可進一步沿主研磨盤1的轉(zhuǎn)動中心均勻分布。如


圖1所示，具體在本實施例中，所述的分研磨盤2為三個，該三個分研磨盤2以主研磨盤1的轉(zhuǎn)動中心均勻分布，并各自設有驅(qū)動軸10。這樣，三個分研磨盤2以與主研磨盤1完全不同的轉(zhuǎn)動半徑以及轉(zhuǎn)動方式在同一個研磨平面內(nèi)進行轉(zhuǎn)動，有效破壞了金剛砂的定向流動，使金剛砂在研磨過程中保持充分的均勻分布狀態(tài)，達到充分均勻地切削研磨表面，提高平板平面度的質(zhì)量。
由于本實用新型的研磨盤在同一個研磨平面內(nèi)，同時具有兩個或者兩個以上研磨端面，這些研磨端面沿各自驅(qū)動軸轉(zhuǎn)動。因此，在該研磨平面內(nèi)金剛砂不會產(chǎn)生定向流動的趨勢，從根本上避免了金剛砂在研磨平面內(nèi)不均勻分布的現(xiàn)象。而且采用本實用新型的結(jié)構(gòu)，可以控制分研磨盤2的轉(zhuǎn)動方向和速度，使之區(qū)別于主研磨盤1的轉(zhuǎn)動方向和速度，達到控制以及改變金剛砂的流動，保證金剛砂均勻地平鋪于研磨平面。
如圖2所示，具體在本實施例中，主研磨盤1驅(qū)動軸5可垂直連接于主研磨盤1的研磨端面11的相反面。驅(qū)動軸5可具體螺紋連接于主研磨盤1，當研磨盤需要更換時，可方便拆裝。該驅(qū)動軸5可支撐于一主體4上，并和與主體4固定連接的端蓋41嚙合連接，以帶動主體4轉(zhuǎn)動。該驅(qū)動軸5可連接于電機或者減速裝置，以獲得轉(zhuǎn)動動力，帶動主體4與主研磨盤1轉(zhuǎn)動。該驅(qū)動軸5與端蓋41的嚙合連接，可具體在端蓋41上設置方孔，并于驅(qū)動軸5的相應位置設置為對應的方形，當驅(qū)動軸5穿過端蓋41的方孔時，驅(qū)動軸5上對應的方形段與方孔相配合實現(xiàn)其嚙合連接，由驅(qū)動軸5轉(zhuǎn)動時帶動端蓋41轉(zhuǎn)動。
如圖2所示，分研磨盤2設有驅(qū)動軸10，該驅(qū)動軸10垂直連接于該分研磨盤2，該驅(qū)動軸10可以通過軸承6和7支撐于主體4上，并保持其研磨端面21與主研磨盤1的研磨端面11位于同一平面內(nèi)，這樣，本實用新型的研磨端面則由主研磨盤的研磨端面11和分研磨盤的研磨端面21組合而成一個完整的研磨端面，而該研磨端面的運動由不同的運動方式組成。
例如，主研磨盤1與分研磨盤2的可反向轉(zhuǎn)動，其轉(zhuǎn)動速度可相同也可差速轉(zhuǎn)動。為實現(xiàn)上述的轉(zhuǎn)動方式，本實用新型可采用常規(guī)的機械傳動結(jié)構(gòu)實現(xiàn)，具體在本實施例中，驅(qū)動軸5的另一端固定連接有齒輪8，該驅(qū)動軸5連接于驅(qū)動裝置。而分研磨盤2的驅(qū)動軸10的另一端也固定連接有齒輪3，該齒輪8與齒輪3直接嚙合，從而進行動力傳遞，而主研磨盤1和分研磨盤2的轉(zhuǎn)動方向相反，其轉(zhuǎn)速數(shù)比可由其齒數(shù)比確定。
使用時，打開開關，驅(qū)動軸5轉(zhuǎn)動，帶動主研磨盤1和主體4轉(zhuǎn)動，主研磨盤1撥動嵌設于其內(nèi)的分研磨盤2沿驅(qū)動軸5公轉(zhuǎn)；同時齒輪8在驅(qū)動軸5的帶動下轉(zhuǎn)動，帶動與之嚙合的分研磨盤2的齒輪3轉(zhuǎn)動，帶動分研磨盤2自傳，從而通過該分研磨盤2的破壞研磨平面內(nèi)金剛砂的定向流動的趨勢，從根本上避免了金剛砂在研磨平面內(nèi)不均勻分布的現(xiàn)象。
本實用新型的另一種實施方式是，主研磨盤1與分研磨盤2的轉(zhuǎn)動方向相同，主研磨盤1可相對分研磨盤2差速轉(zhuǎn)動。如主研磨盤1的轉(zhuǎn)速可大于或者小于分研磨盤2的轉(zhuǎn)速。為實現(xiàn)這種轉(zhuǎn)動方式，在本實施例中，主研磨盤1和分研磨盤2可由不同的驅(qū)動裝置驅(qū)動。也可以通過上述的機械傳動方式實現(xiàn)，但與上述不同之處在于，在主研磨盤1的齒輪8與分研磨盤2的齒輪3之間可通過一個過度齒輪嚙合，以實現(xiàn)主研磨盤1和分研磨盤2的同方向轉(zhuǎn)動，其轉(zhuǎn)速數(shù)比可由其齒數(shù)比確定。
在本實施例中，當分研磨盤2是沿主研磨盤1的研磨平面11呈均勻分布時，在主研磨盤1的研磨端面11的旋轉(zhuǎn)中心處可呈凹入狀的凹槽12。這樣，在主研磨盤1的轉(zhuǎn)動中心處集匯有多數(shù)金剛砂時，不會影響研磨平面的平面度。
上述實施例為本實用新型的具體實施方式
，僅用于說明本是用新型，而非用于限制本實用新型。
權利要求1.一種研磨盤，其特征在于，至少包括有一主研磨盤，該主研磨盤具有一研磨端面；在該主研磨盤的同一個研磨端面內(nèi)至少設有一個分研磨盤，該分研磨盤的研磨端面與主研磨盤的研磨端面在同一平面內(nèi)；所述的主研磨盤和分研磨盤由各自的驅(qū)動軸帶動轉(zhuǎn)動。
2.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的分研磨盤可設有兩個或者兩個以上。
3.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤驅(qū)動軸可垂直連接于主研磨盤，該驅(qū)動軸可支撐于一主體上。
4.根據(jù)權利要求1或3所述的研磨盤，其特征在于，所述的每分研磨盤驅(qū)動軸可垂直連接于該分研磨盤，所述驅(qū)動軸均可支撐于主體上。
5.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤與分研磨盤的轉(zhuǎn)動方向相反。
6.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤與分研磨盤的轉(zhuǎn)動方向相同。
7.根據(jù)權利要求5或6所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤可相對分研磨盤差速轉(zhuǎn)動。
8.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤驅(qū)動軸與分研磨盤驅(qū)動軸之間可機械式傳動連接。
9.根據(jù)權利要求8所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤驅(qū)動軸與分研磨盤驅(qū)動軸之間可采用齒輪連接。
10.根據(jù)權利要求1所述的研磨盤，其特征在于，所述的主研磨盤的研磨端面的旋轉(zhuǎn)中心處可呈凹入狀。
專利摘要本實用新型涉及一種研磨盤，其至少包括有一主研磨盤，該主研磨盤具有一研磨端面；在該主研磨盤的同一個研磨端面內(nèi)至少設有一個分研磨盤，該分研磨盤的研磨端面與主研磨盤的研磨端面在同一平面內(nèi)；所述的主研磨盤和分研磨盤由各自的驅(qū)動軸帶動轉(zhuǎn)動。本實用新型可以使得研磨用金剛砂均勻地鋪平在平板上，從而實現(xiàn)均勻地研削，達到平面度的高質(zhì)量要求；而且，本實用新型可通過一次研磨達到平面度的要求，在確保研磨質(zhì)量的基礎上可以大大簡化研磨工藝，提高加工效率，可以快速提高平板平面度。
文檔編號B24B37/11GK2566980SQ02253918
公開日2003年8月20日 申請日期2002年9月12日 優(yōu)先權日2002年9月12日
發(fā)明者陶翔元 申請人:陶翔元