專利名稱：涂敷制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及采用多層保護(hù)性涂層涂敷的制品。
背景技術(shù)：
目前對(duì)于各種黃銅制品如龍頭、龍頭罩、門旋鈕、門把手、門鎖眼蓋等的實(shí)際情況是首先擦亮和拋光制品的表面到高光澤和然后涂敷保護(hù)性有機(jī)涂層(如由丙烯酸類、聚氨酯類、環(huán)氧類等組成的涂層)到此拋光的表面上。此體系的缺點(diǎn)是擦亮和拋光操作的勞動(dòng)強(qiáng)度較大，特別是如果制品具有復(fù)雜的形狀。同樣，已知有機(jī)涂層并不總是如所需耐用的，和易于受酸的侵蝕。因此，如下情況是相當(dāng)有利的如果黃銅制品，或事實(shí)上其它制品，塑料、陶瓷、或金屬，可以含有提供制品耐磨性，抗磨性和耐腐蝕性的涂層。在本領(lǐng)域已知的是可以將多層涂層涂敷到制品上，它提供耐磨性，抗磨性和耐腐蝕性。此多層涂層包括由耐火金屬氮化物如氮化鋯或氮化鈦組成的裝飾和保護(hù)性顏色層。此顏色層，當(dāng)它是氮化鋯時(shí)，提供黃銅顏色，和當(dāng)它是氮化鈦是提供金色。
U.S.專利Nos.5,922,478，6,033,790和5,654,108尤其描述了這樣的涂層，它提供具有裝飾性顏色的制品，如拋光的黃銅，且也提供耐磨性，抗磨性和耐腐蝕性。如果可以提供這樣的保護(hù)性涂層是非常有利的，該涂層提供與包含氮化鋯或氮化鈦基本相同的性能且另外提供改進(jìn)的耐化學(xué)品性能和耐氧化性能，和不是黃銅色的或金色的。本發(fā)明提供這樣的涂層。
發(fā)明概述本發(fā)明涉及含有沉積在制品的至少一部分表面上的裝飾和保護(hù)性多層涂層的制品如塑料、陶瓷或金屬制品。更特別地，本發(fā)明涉及含有沉積在其表面上某些具體類型材料的多個(gè)重疊層的制品或基材，特別是金屬制品如不銹鋼、鋁、黃銅或鋅。涂層提供耐腐蝕性，耐磨性和抗磨性，和改進(jìn)的耐化學(xué)品性能和耐氧化性能。
制品首先在其表面上沉積至少一個(gè)電鍍層。然后在電鍍層的頂部，通過(guò)氣相沉積如物理氣相沉積，沉積一個(gè)或多個(gè)氣相沉積層。更具體地，沉積在電鍍層上的是由耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物組成的保護(hù)層。
附圖簡(jiǎn)述

圖1是基材一部分的橫截面圖(不按比例)，基材含有在基材表面上的半光亮鎳層，在半光亮鎳層上的光亮鎳層，和在光亮鎳層上的耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物層；圖2是相似于圖1的視圖，區(qū)別在于在半光亮鎳層上沒(méi)有光亮鎳層，在半光亮鎳層上有鉻層，在鉻層上有耐火金屬或耐火金屬合金觸擊層(strike layer)和在觸擊層上的耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物層；和圖3是相似于圖1的視圖，區(qū)別在于在制品表面上有銅層，在銅層上有半光亮鎳層，在半光亮鎳層上有光亮鎳層，在光亮鎳層上有鉻層，在鉻層上有耐火金屬或耐火金屬合金觸擊層，在觸擊層上有耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物層，和在耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物層有耐火金屬氧氮化物或耐火金屬合金氧氮化物層。
優(yōu)選實(shí)施方案的描述制品或基材12可以由如下物質(zhì)組成可以在其上涂敷鍍敷層的任何材料，如塑料，如ABS、聚烯烴、聚氯乙烯、和酚醛樹(shù)脂，陶瓷、金屬或金屬合金。在一個(gè)實(shí)施方案中，它由金屬或金屬合金如銅、鋼、黃銅、鋅、鋁、鎳合金等組成。
在本發(fā)明中，如圖1-3所示，通過(guò)鍍敷如電鍍將第一層或系列層涂敷到制品表面上。通過(guò)氣相沉積將第二系列層涂敷到電鍍層的表面上。電鍍層，尤其，用作變平制品表面的基礎(chǔ)涂層。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，可以在制品表面上沉積鎳層13。鎳層可以是由鍍敷沉積的任何常規(guī)鎳，如光亮鎳、半光亮鎳、緞光鎳等?？梢酝ㄟ^(guò)常規(guī)和公知的電鍍工藝將鎳層13沉積在基材12的至少一部分表面上。這些工藝包括使用常規(guī)的電鍍?cè)?，例如，Watts浴作為鍍敷溶液。典型地這樣的浴包含硫酸鎳、氯化鎳、和溶于水的硼酸。也可以使用所有的氯化物、氨基磺酸鹽和氟硼酸鹽鍍敷溶液。這些浴可非必要地包括許多公知和通常使用的化合物如流平劑，增白劑等。為生產(chǎn)鏡面光亮鎳層，將至少一種類別I的增白劑和至少一種類別II的增白劑加入到鍍敷溶液中。類別I增白劑是包含硫的有機(jī)化合物。類別II增白劑是不包含硫的有機(jī)化合物。類別II增白劑也可引起變平，且當(dāng)加入到?jīng)]有含硫的類別I增白劑的鍍敷浴中時(shí)，導(dǎo)致半光亮鎳沉積物。這些類別I增白劑包括烷基萘和苯磺酸、苯和萘二和三磺酸、苯和萘磺酰胺、和磺酰胺如糖精、乙烯基和烯丙基磺酰胺和磺酸。類別II增白劑一般是不飽和有機(jī)材料，例如，炔屬或烯屬醇、乙氧基化和丙氧基化炔屬醇、香豆素、和醛。這些類別I和類別II增白劑對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員是公知的且容易購(gòu)得。它們尤其描述在U.S.Pat.No.4,421,611中，該文獻(xiàn)在此引入作為參考。
鎳層可以由單一層(monolithic layer)如半光亮鎳、緞光鎳或光亮鎳組成，或它可以是包含兩個(gè)不同鎳層的雙重層，例如，由半光亮鎳組成的層和由光亮鎳組成的層的雙層。鎳層的厚度一般有效使制品的表面變平和提供改進(jìn)的耐腐蝕性。此厚度一般為從約2.5μm，優(yōu)選約4μm到約90μm。
如在本領(lǐng)域已知的那樣，在基材上沉積鎳層之前，通過(guò)放入常規(guī)和公知的酸浴，將基材進(jìn)行酸活化。
在如圖1所示的一個(gè)實(shí)施方案中，鎳層13實(shí)際上由兩個(gè)不同鎳層14和16組成。層14由半光亮鎳組成而層16由光亮鎳組成。此雙鎳沉積物對(duì)其下的基材提供改進(jìn)的耐腐蝕性。通過(guò)常規(guī)電鍍工藝直接在基材12的表面上沉積半光亮，無(wú)硫板14。然后將包含半光亮鎳層14的基材12放入光亮鎳鍍敷浴中和在半光亮鎳層14上沉積光亮鎳層16。
半光亮鎳層和光亮鎳層的厚度是至少有效提供改進(jìn)耐腐蝕性和/或制品表面流平的厚度。一般情況下，半光亮鎳層的厚度至少為約1.25μm，優(yōu)選至少約2.5μm，和更優(yōu)選至少約3.5μm。厚度上限一般不是關(guān)鍵的且由如成本的次要考慮來(lái)支配。然而，一般情況下，不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約40μm，優(yōu)選約25μm，和更優(yōu)選約20μm的厚度。光亮鎳層16的厚度至少為約1.2μm，優(yōu)選至少約3μm，和更優(yōu)選至少約6μm。光亮鎳層的上限厚度范圍不是關(guān)鍵的且一般由如成本的考慮控制。然而，一般情況下，不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約60μm，優(yōu)選約50μm，和更優(yōu)選約40μm的厚度。光亮鎳層16也用作流平層，它傾向于覆蓋或填充基材中的缺陷。
在一個(gè)實(shí)施方案中，如圖2和3所示，位于鎳層13和氣相沉積層之間的是一個(gè)和多個(gè)另外的電鍍層21。這些另外的電鍍層包括但不限于鉻、錫-鎳合金等。當(dāng)層21由鉻組成時(shí)，它可以通過(guò)常規(guī)和公知的鉻電鍍技術(shù)沉積在鎳層13上。這些技術(shù)與各種鉻鍍敷浴一起公開(kāi)于Brassard，“裝飾性電鍍-轉(zhuǎn)變中的工藝”，Metal Finishing，105-108頁(yè)，1988年6月；Zaki，“鉻鍍敷”，PF Directory，146-160頁(yè)；和U.S.專利Nos.4,460,438、4,234,396和4,093,522，所有這些文獻(xiàn)在此引入作為參考。
鉻鍍敷浴是公知和可購(gòu)得的。典型的鉻鍍敷浴包含鉻酸或其鹽，和催化劑離子如硫酸根或氟離子。催化劑離子可以由硫酸或其鹽和氟硅酸提供。浴可以在約112-116°F的溫度下操作。典型地在鉻鍍敷中，在約5-9伏下采用約150安培每平方英尺的電流密度。
鉻層的厚度一般至少為約0.05μm，優(yōu)選至少約0.12μm，和更優(yōu)選至少約0.2μm。一般情況下，厚度上限一般不是關(guān)鍵的且由次要的考慮如成本來(lái)支配。然而，鉻層的厚度不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約1.5μm，優(yōu)選約1.2μm，和更優(yōu)選約1μm。
代替由鉻組成的層21，它可以由錫-鎳合金，即錫和鎳的合金組成。錫-鎳合金可以通過(guò)常規(guī)和公知的錫-鎳電鍍工藝沉積在基材表面上。這些工藝和鍍敷浴是常規(guī)和公知的，且尤其公開(kāi)于U.S.專利NoS.4,033,835、4,049,508、3,887,444、3,772,168和3,940,319，所有這些文獻(xiàn)在此引入作為參考。
錫-鎳合金層優(yōu)選由代表原子組成SnNi的約60-70wt％錫和約30-40wt％鎳，更優(yōu)選約65％錫和35％鎳組成。鍍敷浴包含足夠量的鎳和錫以提供上述組成的錫-鎳合金。
市售的錫-鎳鍍敷工藝是購(gòu)自ATOTECH的NiColloyTM工藝，且描述在它們的技術(shù)信息表NoNiColloy，1994年10月30日，該文獻(xiàn)在此引入作為參考。
錫-鎳合金層21的厚度一般至少為約0.25μm，優(yōu)選至少約0.5μm，和更優(yōu)選至少約1.2μm。上限厚度范圍不是關(guān)鍵的且一般依賴于經(jīng)濟(jì)考慮。一般情況下，不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約50μm，優(yōu)選約25μm，和更優(yōu)選約15μm的厚度。
在仍然另一個(gè)實(shí)施方案中，如圖3所示，電鍍層包括在制品表面12上沉積的銅層20，在銅層20上的鎳層13，和在鎳層13上的鉻層21。
在此實(shí)施方案中，通過(guò)常規(guī)和公知的銅電鍍工藝在至少一部分制品表面上沉積銅層21。銅電鍍工藝和銅電鍍?cè)≡诒绢I(lǐng)域是常規(guī)和公知的。它們包括酸銅和堿銅的電鍍。它們尤其描述于U.S.專利Nos.3,725,220、3,769,179、3,923,613、4,242,181和4,877,450，這些文獻(xiàn)的公開(kāi)內(nèi)容在此引入作為參考。
優(yōu)選的銅層21選自堿銅和酸銅。銅層可以是單一的和由一種類型銅如堿銅或酸銅組成，或它可包括兩個(gè)不同的銅層如由堿銅組成的層和由酸銅組成的層。
銅層的厚度一般為從至少約2.5微米，優(yōu)選至少約4微米到約100微米，優(yōu)選約50微米。
當(dāng)存在的雙銅層由例如堿銅層和酸銅層組成時(shí)，堿銅層的厚度一般至少為約1微米，優(yōu)選至少約2微米。厚度上限一般不是關(guān)鍵的。一般情況下，不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約40微米，優(yōu)選約25微米的厚度。酸銅層的厚度一般至少為約10微米，優(yōu)選至少約20微米。厚度上限一般不是關(guān)鍵的。一般情況下，不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約40微米，優(yōu)選約25微米的厚度。
可以通過(guò)常規(guī)和公知的電鍍工藝在銅層21表面上沉積鎳層13。這些工藝如上所述。
鎳層13，如在上述實(shí)施方案中，可以由單一層如半光亮鎳或光亮鎳組成，或它可以是包含兩個(gè)不同鎳層的雙重層，例如，由半光亮鎳組成的層14和由光亮鎳組成的層16。
在鎳層13，優(yōu)選光亮鎳層16上沉積的是由鉻組成的層21。可以通過(guò)常規(guī)和公知的鉻電鍍工藝在層16上沉積鉻層21。
在另一個(gè)實(shí)施方案中，如圖3所示，在制品表面上沉積半光亮鎳層14和在半光亮鎳層上沉積鉻層21。
在電鍍層上，通過(guò)氣相沉積如物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積，沉積由耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物組成的保護(hù)層32。
構(gòu)成耐火金屬氧化物的耐火金屬是鋯、鈦、鉿等，優(yōu)選鋯、鈦或鉿。耐火金屬合金如鋯-鈦合金、鋯-鉿合金、鈦-鉿合金等也可用于形成氧化物。因此，例如，氧化物可包括鋯-鈦合金氧化物。
此保護(hù)層32的厚度是至少有效提供抗磨性，耐擦劃性，耐磨性，和改進(jìn)的耐化學(xué)品性能和耐氧化性能的厚度。一般情況下，此厚度至少為約1,000埃，優(yōu)選至少約1,500埃，和更優(yōu)選至少約2,500埃。厚度上限范圍一般不是關(guān)鍵的且依賴于次要的考慮如成本。一般情況下不應(yīng)當(dāng)超過(guò)約0.75μm，優(yōu)選約0.5μm的厚度。
沉積層32的一種方法是通過(guò)采用反應(yīng)濺射或反應(yīng)陰極弧蒸發(fā)的物理氣相沉積。反應(yīng)陰極弧蒸發(fā)和反應(yīng)濺射一般相似于通常濺射和陰極弧蒸發(fā)，區(qū)別在于將反應(yīng)性氣體引入腔室中，它與移除的目標(biāo)材料反應(yīng)。因此，在其中層32由氧化鋯組成的此情況下，陰極由鋯組成，和氧氣是引入腔室的反應(yīng)性氣體。
除保護(hù)層32以外，可以存在另外的氣相沉積層。這些另外的氣相沉積層可包括由耐火金屬或耐火金屬合金組成的層。耐火金屬包括鉿、鉭、鋯和鈦。耐火金屬合金包括鋯-鈦合金、鋯-鉿合金和鈦-鉿合金。耐火金屬層或耐火金屬合金層31一般尤其用作改進(jìn)顏色層32對(duì)電鍍層粘合的觸擊層。如圖2和3所示，耐火金屬或耐火金屬合金觸擊層31一般位于保護(hù)層32和頂部電鍍層中間。層31的厚度一般至少有效使層31用作觸擊層。一般情況下，此厚度至少為約60埃，優(yōu)選至少約120埃，和更優(yōu)選至少約250埃。上限厚度范圍不是關(guān)鍵且一般依賴于如成本的考慮。然而，一般情況下，層31應(yīng)當(dāng)不厚于約1.2μm，優(yōu)選約0.5μm，和更優(yōu)選約0.25μm。
通過(guò)常規(guī)和公知的氣相沉積技術(shù)包括物理氣相沉積技術(shù)如陰極弧蒸發(fā)(CAE)或?yàn)R射，沉積耐火金屬或耐火金屬合金層31。濺射技術(shù)和設(shè)備，尤其描述于J.Vossen和W.Kern“薄膜工藝II”，Academic Press，1991；R.Boxman等人，“真空弧科學(xué)和技術(shù)手冊(cè)”，Noyes Pub.，1995；和U.S.專利Nos.4,162,954和4,591,418，所有這些文獻(xiàn)在此引入作為參考。
簡(jiǎn)單地，在濺射沉積工藝中，將耐火金屬(如鈦或鋯)目標(biāo)(它是陰極)和基材放入真空腔室中。將腔室中的空氣抽空以在腔室中產(chǎn)生真空條件。將惰性氣體，如氬氣，引入腔室。將氣體粒子電離和向目標(biāo)加速以移除鈦或鋯原子。然后將移除的目標(biāo)材料典型地作為涂料膜沉積在基材上。
在陰極弧蒸發(fā)中，將典型地幾百安培的電弧撞擊在金屬陰極如鋯或鈦的表面上。弧蒸發(fā)陰極材料，它然后冷凝在基材上，形成涂層。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案中，耐火金屬由鈦或鋯，優(yōu)選鋯組成，和耐火金屬合金由鋯-鈦合金組成。
在保護(hù)層32上可以是由耐火金屬或耐火金屬合金，氧氣和氮?dú)夥磻?yīng)產(chǎn)物組成的薄層34。耐火金屬或耐火金屬合金，氧氣和氮?dú)獾姆磻?yīng)產(chǎn)物一般由耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物，耐火金屬氮化物或耐火金屬合金氮化物，和耐火金屬氧氮化物或耐火金屬合金氧氮化物組成。因此，例如鋯、氧氣和氮?dú)獾姆磻?yīng)產(chǎn)物包括氧化鋯、氮化鋯和氧氮化鋯。包括氧化鋯和氮化鋯合金的這些耐火金屬氧化物和耐火金屬氮化物和它們的制備和沉積是常規(guī)和公知的，且尤其描述于U.S.專利No.5,367,285，該文獻(xiàn)的公開(kāi)內(nèi)容在此引入作為參考。
層34有效提供對(duì)涂層的另外改進(jìn)的耐氧化性能和耐化學(xué)品，如酸或堿性能。層34通常具有至少有效提供另外改進(jìn)的耐氧化性能和耐化學(xué)品性能的厚度。一般情況下此厚度至少為約10埃，優(yōu)選至少約25埃，和更優(yōu)選至少約40埃。一般情況下層34應(yīng)當(dāng)不厚于約0.10μm，優(yōu)選約250埃，和更優(yōu)選約100埃。
為更容易理解本發(fā)明，提供以下實(shí)施例。實(shí)施例是說(shuō)明性和并不將本發(fā)明限定于此。
實(shí)施例1將黃銅龍頭放入包含標(biāo)準(zhǔn)和公知的肥皂，洗滌劑，抗絮凝劑等的常規(guī)浸泡清潔劑浴中，將該浴保持在8.9-9.2的pH和145-200°F的溫度下約10分鐘。然后將黃銅龍頭放入常規(guī)超聲波堿性清潔劑浴中。超聲波清潔劑浴的pH為8.9-9.2，保持在約160-180°F的溫度下，和包含常規(guī)和公知的肥皂，洗滌劑，抗絮凝劑等。在超聲波清潔之后，將龍頭清洗和放入常規(guī)堿性電清潔劑浴中約50秒。電清潔劑浴保持在約140-180°F的溫度，約10.5-11.5的pH下，和包含標(biāo)準(zhǔn)和常規(guī)的洗滌劑。然后將龍頭清洗和放入常規(guī)酸活化劑浴中約20秒。酸活化劑浴的pH為約2.0-3.0，處于環(huán)境溫度下，和包含氟化鈉基酸鹽。
然后將龍頭清洗和放入常規(guī)和標(biāo)準(zhǔn)酸銅鍍敷浴中約14分鐘。酸銅鍍敷浴包含硫酸銅，硫酸，和痕量氯化物。將浴保持在約80°F下。在龍頭上沉積平均厚度為約10微米的銅層。
然后將包含銅層的龍頭清洗和放入光亮鎳鍍敷浴中約12分鐘。光亮鎳浴一般是保持在約130-150°F溫度，約4.0-4.8的pH下，包含NiSO4，NiCl2，硼酸，和增白劑的常規(guī)浴。在銅層上沉積平均厚度為約10μm的光亮鎳層。將銅和光亮鎳鍍敷的龍頭清洗三次和然后放入常規(guī)、可市購(gòu)的六價(jià)鉻鍍敷浴中使用常規(guī)鉻鍍敷設(shè)備約7分鐘。六價(jià)鉻浴是常規(guī)和公知的浴，它包含約32盎司/加侖鉻酸。該浴也包含常規(guī)和公知的鉻鍍敷添加劑。浴保持在約112-116°F的溫度下，和采用混合硫酸鹽/氟化物催化劑。鉻酸對(duì)硫酸鹽比例是約200∶1。在光亮鎳層表面上沉積約0.25微米的鉻層。將龍頭在去離子水中充分清洗和然后干燥。將鉻鍍敷的龍頭放入陰極弧蒸發(fā)鍍敷容器中。容器一般是包含真空腔室的圓筒形外殼，真空腔適于通過(guò)泵抽空。通過(guò)用于改變進(jìn)入腔室氬氣和氧氣流量的可調(diào)節(jié)閥門，將氬氣和氧氣源連接到腔室。
將圓筒形陰極安裝在腔室中心和連接到可變D.C.電源的負(fù)輸出上。將電源的正側(cè)連接到腔室壁上。陰極材料包括鋯。
將鍍敷的龍頭安裝在轉(zhuǎn)軸上，將16個(gè)這樣的轉(zhuǎn)軸安裝在圍繞陰極外部的環(huán)上。整個(gè)環(huán)圍繞陰極旋轉(zhuǎn)而每個(gè)轉(zhuǎn)軸也圍繞它自身的軸旋轉(zhuǎn)，導(dǎo)致所謂的行星運(yùn)動(dòng)，它對(duì)于圍繞每個(gè)轉(zhuǎn)軸安裝的多個(gè)龍頭提供對(duì)陰極的均勻曝露。環(huán)典型地以幾個(gè)rpm旋轉(zhuǎn)，而每個(gè)轉(zhuǎn)軸相對(duì)于每個(gè)環(huán)回轉(zhuǎn)進(jìn)行幾個(gè)回轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)軸與腔室電隔離且設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)接觸使得可以在涂敷期間將偏壓施加到基材上。
將真空腔室抽空到5×10-3毫巴的壓力和加熱到約100℃。
然后對(duì)電鍍龍頭進(jìn)行高偏壓弧等離子體清潔，其中將約500伏的(負(fù))偏壓施加到電鍍龍頭上同時(shí)將大約500安培的弧撞擊和保持在陰極上。清潔的持續(xù)時(shí)間大約是5分鐘。
在足以保持約1-5毫托壓力的速率下引入氬氣。在3分鐘時(shí)間期間內(nèi)，在電鍍龍頭上沉積平均厚度為約0.1μm的鋯層。陰極弧沉積工藝包括施加D.C.電源到陰極上以達(dá)到約460安培的電流，向容器中引入氬氣以保持容器中壓力在約2毫托下且以上述行星方式旋轉(zhuǎn)龍頭。
在沉積鋯層之后，在鋯層上沉積由氧化鋯組成的保護(hù)層。在約250sccm下持續(xù)氬氣的流量和在約375sccm的流量下引入氧氣，而弧放電在大約460安培下持續(xù)。氬氣和氧氣的流動(dòng)持續(xù)約40分鐘。保護(hù)層的厚度為約3500-4500埃。將弧熄滅，將真空腔室排氣和取出涂敷制品。
盡管已經(jīng)為了說(shuō)明的目的描述了本發(fā)明的某些實(shí)施方案，理解在本發(fā)明一般范圍中可以有各種實(shí)施方案和改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.一種在其至少一部分表面上含有多層涂層的制品，包括至少一個(gè)電鍍層；由耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物組成的保護(hù)層。
2.權(quán)利要求1的制品，其中由耐火金屬或耐火金屬合金組成的觸擊層在該至少一個(gè)電鍍層和該保護(hù)層中間。
3.權(quán)利要求2的制品，其中由耐火金屬或耐火金屬合金，氧氣和氮?dú)夥磻?yīng)產(chǎn)物組成的層在該保護(hù)層上。
4.權(quán)利要求1的制品，其中由耐火金屬或耐火金屬合金，氧氣和氮?dú)夥磻?yīng)產(chǎn)物組成的層在該保護(hù)層上。
5.權(quán)利要求1的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由至少一個(gè)鎳層組成。
6.權(quán)利要求5的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由鉻層組成。
7.權(quán)利要求6的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由銅層組成。
8.權(quán)利要求1的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由在該制品上的至少一個(gè)鎳層和在該至少一個(gè)鎳層上的鉻層組成。
9.權(quán)利要求1的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由在該制品上的至少一個(gè)銅層，在該至少一個(gè)銅層上的至少一個(gè)鎳層，和在該至少一個(gè)鎳層上的鉻層組成。
10.一種在其至少一部分表面上含有具有改進(jìn)耐化學(xué)品性能和改進(jìn)耐氧化性能的多層涂層的制品，包括在該制品表面上的至少一個(gè)電鍍層；和由耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物組成的保護(hù)層。
11.權(quán)利要求10的制品，其中由耐火金屬或耐火金屬合金組成的層在該至少一個(gè)電鍍層和該保護(hù)層中間。
12.權(quán)利要求11的制品，其中該至少一個(gè)電鍍層由至少一個(gè)鎳層組成。
13.權(quán)利要求12的制品，其中鉻層在該至少一個(gè)鎳層上。
14.權(quán)利要求10的制品，其中由耐火金屬或耐火金屬合金，氧氣和氮?dú)夥磻?yīng)產(chǎn)物組成的層在該保護(hù)層上。
全文摘要
采用具有耐擦劃性，耐磨性，耐腐蝕性和改進(jìn)耐化學(xué)品性能和耐氧化性能的多層涂層涂敷制品。涂層包括在制品表面上的電鍍層，在電鍍層上的耐火金屬或耐火金屬合金觸擊層，和在觸擊層上包含耐火金屬氧化物或耐火金屬合金氧化物的保護(hù)層。
文檔編號(hào)C23C28/00GK1463224SQ02802044
公開(kāi)日2003年12月24日 申請(qǐng)日期2002年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2001年5月11日
發(fā)明者P·B·喬特, J·S·利普, 陳國(guó)存 申請(qǐng)人:印地安納馬斯科公司